JP5151479B2 - 重合性液晶組成物、光学異方性材料、光学素子および光ヘッド装置 - Google Patents
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- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/50—Phase-only modulation
Description
一般式(I)
一般式(II)
一般式(III)
波長分散を制御する上で、屈折率異方性の波長依存性を小さくすることはあまり検討されておらず、特に、使用する光の波長が長くなるとともに屈折率異方性が増加する液晶材料は広帯域での使用に優れるため強く求められてはいるものの、自由度が広く、安定して使用できる材料は従来見出されていなかった。
すなわち、本発明は、以下の(I)〜(XIII)を提供するものである。
CH 2 =CR 1 −COO−J 1 −(E 1 −J 2 ) n −W 1 −J 3 −M−R 2 ・・・(1)
(ただし、式中のR 1 、R 2 、n、J 1 、J 2 、J 3 、E 1 、W 1 およびMは、それぞれ以下の内容を表すものである。
R 1 :水素原子またはメチル基。
R 2 :炭素数2〜8のアルキル基。
n:0または1。
J 1 :単結合、−(CH 2 ) a −、または、−(CH 2 ) b O−(ただし、aおよびbはそれぞれ独立に、2〜8の整数。)。
J 2 、J 3 :それぞれ独立に、単結合、−OCO−、または、−COO−。
E 1 :1,4−フェニレン基またはトランス−1,4−シクロヘキシレン基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されていてもよい。
W 1 :ナフタレン−1,4−ジイル基またはナフタレン−1,5−ジイル基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されてもよい。
M:下記式(a)〜(f)で表される基から選ばれるいずれかの基。)
CH2=CR1−COO−J1−(E1−J2)n−W1−J3−M−R2・・・(1)
(ただし、式中のR1、R2、n、J1、J2、J3、E1、W1およびMは、それぞれ以下の内容を表すものである。
R1:水素原子またはメチル基。
R2:炭素数2〜8のアルキル基。
n:0または1。
J1:単結合、−(CH2)a−、または、−(CH2)bO−(ただし、aおよびbはそれぞれ独立に、2〜8の整数。)。
J2、J3:それぞれ独立に、単結合、−OCO−、または、−COO−。
E1:1,4−フェニレン基またはトランス−1,4−シクロヘキシレン基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されていてもよい。
W1:ナフタレン−1,4−ジイル基またはナフタレン−1,5−ジイル基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されてもよい。
M:下記式(a)〜(f)で表される基から選ばれるいずれかの基。)
(VI)上記(II)〜(V)のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料。
前記回折格子領域が、第1の材料からなる第1の部材と第2の材料からなる第2の部材とを備え、前記第1の部材と前記第2の部材とは、少なくとも1つの偏光に対する屈折率が相異なっており、前記第1の部材と前記第2の部材とが交互にかつ互いに接するように配置され、
前記第1の材料が、上記(VI)または(VII)に記載の光学異方性材料である偏光回折素子。
前記位相板が、上記(IX)に記載の位相板であるか、および/または、前記偏光回折素子が、上記(X)に記載の偏光回折素子である光ヘッド装置。
304、305 フォトディテクタ
308 合波プリズム
310 コリメータレンズ
311 偏光回折素子
312 広帯域位相板
313 対物レンズ
314 アクチュエータ
315 光ディスク
縮合ベンゼン環基(A):1位と、4位もしくは5位とに結合手を有するナフタレンジイル基、または、1位もしくは9位と、4位、5位もしくは10位とに結合手を有するアントラセンジイル基。
6員環基(B):1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基またはこれらから選ばれる2以上の基が直接または連結基を介して結合した2価の基。
6員環基(B)としては、例えば、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、下記基(B1)〜(B4)が好ましく、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、下記基(B1)〜(B4)がより好ましく、縮合ベンゼン環基(A)の光学異方性の効果を充分発揮できることから、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、下記基(B1)が特に好ましい。
連結基(C)としては、−OCO−または−COO−である。
メソゲン構造としては、例えば、以下に示す構造が好ましい。
末端基としては、アルキル基、アルコキシ基、重合性官能基、重合性部位を有する1価の有機基等が好適に例示され、アルキル基、重合性官能基、重合性部位を有する1価の有機基が特に好ましい。また、末端基の少なくとも1つは、重合性官能基または重合性部位を有する1価の有機基である。
また、末端基がアルコキシ基である場合、炭素数2〜8の直鎖アルコキシ基が好ましく、炭素数2〜6の直鎖アルコキシ基が特に好ましい。
また、末端基が重合性官能基である場合、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。末端基が重合性部位を有する1価の有機基である場合、CH2=CH−COO−部分またはCH2=C(CH3)−COO−部分を有する有機基が好ましく、CH2=CH−COO−部分を有する有機基が特に好ましい。
重合性部位を有する1価の有機基としては、例えば、以下に示す基が好ましい。
CH2=CH−COO−(CH2)2−O−、
CH2=CH−COO−(CH2)3−O−、
CH2=CH−COO−(CH2)4−O−、
CH2=CH−COO−(CH2)5−O−、
CH2=CH−COO−(CH2)4−OCO−。
CH2=CR1−COO−J1−(E1−J2)n−W1−J3−M−R2・・・(1)
CH2=CR3−COO−J4−E2−COO−W2−OCO−E3−J5−OCO−CR3=CH2・・・(2)
R2の炭素数2〜8のアルキル基の構造は、直鎖構造であっても分岐構造であってもよく、直鎖構造であることが好ましい。重合性化合物(1)がネマチック相を良好に発現するためには、R2の炭素数は2〜6が好ましい。
J4は、−(CH2)tO−、または、−(CH2)uO−CO−である。tおよびuは、それぞれ独立に2〜6の整数である。
J5は、−O(CH2)c−、または、−COO−(CH2)d−である。cおよびdは、それぞれ独立に2〜6の整数である。
E2およびE3は、それぞれ独立に、1,4−フェニレン基またはトランス−1,4−シクロヘキシレン基である。これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されていてもよい。E2およびE3としては、W2の光学異方性の効果を有効利用できるため、それぞれ、非置換のトランス−1,4−シクロヘキシレン基であることが好ましい。
W2としては、上記W1と同様の基であり、好ましい態様も同様である。
また、他の重合性液晶性化合物が、複数の重合性官能基を有する場合には、重合性官能基の種類は同一であっても異なっていてもよい。特に重合性官能基を2つ有する化合物を用いた場合には、良好な耐熱性および強度特性を得られることから好ましい。
化合物(50)
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Cy−n-C3H7
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Cy−n-C4H9
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Cy−n-C5H11
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Ph−n-C3H7
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Ph−n-C4H9
・H2C=CH−COO−Ph−OCO−Ph−n-C5H11
重合開始剤としては、例えば、過酸化物、アゾ化合物等の熱重合開始剤;アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、チオキサントン類等の光重合開始剤;等が挙げられ、これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。重合開始剤の量は、重合性液晶組成物に対して0.1〜10質量%が好ましく、0.3〜2質量%が特に好ましい。
光重合反応に用いる光としては、紫外線、可視光線等が挙げられ、紫外線が好ましい。また、光重合反応を行う場合には、上記の光重合開始剤を用いると効率よく重合できる。
したがって、位相板や回折素子が特定の波長で最適化されていると、使用する光の波長が長くなるとともに、位相板として機能しなくなったり、回折素子の効率が低下したりする。一方、使用する光の波長が長くなるとともに屈折率異方性が増加する材料であれば、光の波長が長くなることに伴う位相差の低下を抑制できるので、広帯域の位相板や回折素子として充分に機能させることができる。すなわち、ある波長領域において使用する光の偏光状態および/または位相状態を制御する光学素子として好適に用いることができる。
本発明の位相板として1/4波長板を作製した場合は、広い波長領域の光に対して偏光方向を90度回転する機能を充分に発揮できる。
更に、本発明の位相板は、偏光性回折素子などの偏光による特性の違いを利用した光学素子を有する光ヘッド装置に用いると特に効果が大きく、更に小型化および軽量化が要求される光ヘッド装置用の部品に適している。
まず、偏光回折素子は、特定の偏光状態の入射光を回折する回折格子領域を備えている。この回折格子領域は、第1の材料からなる第1の部材と第2の材料からなる第2の部材とを備えており、上記第1の部材と上記第2の部材とは上記特定の偏光状態の入射光に対する屈折率が相異なっている。また、上記第1の部材と上記第2の部材とが所定のピッチで交互にかつ互いに接するように配置されている。本発明においては、この第1の材料として、本発明の光学異方性材料を用いる。
ここで、第1の材料と第2の材料とは、必ずしも異なる材料である必要はない。ただし、第1の部材と第2の部材とは、各部材内の材料の配向方向が異なっているなどの理由によって、上記の特定の偏光状態の入射光に対する屈折率が相異なっている必要はある。このような偏光回折素子の作製方法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。
パターニングされたITO等の電極を有し、所定の方向に配向処理された一対の基板間に、本発明の重合性液晶組成物を挟持し、電極に電圧を印加することにより、重合性液晶組成物に相異する配向方向を有する2種類の領域を形成し、これらの2種類の領域が所定のピッチで交互に並ぶようにした後、重合する方法。この場合は、上記の第1の部材、第2の部材とも本発明の光学異方性材料からなるが、配向状態の相違によって、入射光に対する屈折率が各部材間で異なっており、結果として回折格子領域が形成できる。
所定の方向に配向処理された基板表面上に、本発明の重合性液晶組成物を塗布し、重合させて光学的異方性材料とするとともに、該光学的異方性材料の表面に凹凸状の格子構造を形成し、格子凹部に光学的等方性材料を充填する方法(特開平11−211905号公報等参照。)。この場合、本発明の重合性液晶組成物の重合と凹凸状の格子形状の付与とは、どちらを先に行ってもよい。また、対向する二枚の基板間に重合性液晶組成物を挟持した状態で重合反応を行い、一方の基板を剥離した後に凹凸状格子構造を形成してもよい。
光学的等方材料の表面に凹凸状の格子構造を形成した後に、格子凹部に本発明の重合性液晶組成物を充填し、重合する方法。
本発明の偏光回折素子における回折格子の格子高さは、1〜40μmであることが好ましく、2〜20μmがより好ましい。格子高さがこの範囲であれば、偏光回折素子を容易に製造できる。なお、本発明の偏光回折素子は、格子高さを任意に変えることにより、任意の回折効率を有する偏光回折素子とすることができる。
また、この格子構造の格子凹部への重合性液晶組成物または光学等方性材料(例えば、光重合型のアクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等)の充填は、スピンコート等の方法によって行うことができる。なお、基板自体に凹凸のある場合でも、基板にはラビング処理を施した基板を用いることが重合充填時の配向乱れがないため好ましい。
すなわち、本発明の光学異方性材料の常光屈折率noに等しい屈折率nsを有する光学等方性材料を凹部に充填した場合、常光屈折率を与える方向に直線偏光した光を偏光回折素子に入射したときは、光学異方性材料と光学等方性材料との間に屈折率差がなく回折効果を生じないことになる。これに対し、この方向と90度の角度をなす、異常光屈折率を与える方向に直線偏光した光を回折素子に入射したときは、光学異方性材料と光学等方性材料との間に屈折率差があり回折効果を生じることになる。
本発明の偏光回折素子は、光の波長が長くなることに伴う位相差の低下が抑制されているので、回折効率が波長にほとんど依存しない点で優れる。
該光ヘッド装置において、レーザー光の位相状態を変調するためには、複数の波長のレーザー光に対して一定の位相差を与える広帯域位相板が必要である。また、該光ヘッド装置においては、部品点数の削減および信号処理の簡略化のために複数の波長の光に用いる受光素子を共通化する要求がある。例えば、青色レーザー光を用いた光記録ディスク(HD DVD、BD)、DVDおよびCDの異なる2〜3個の波長の光に対する信号光を共通の受光素子で検出するためには、各々の波長に対して適切に設計された格子周期の異なる2〜3個の偏光回折素子が必要となっている。
まず、光ヘッド装置は、2以上の波長の直線偏光のレーザー光をそれぞれ出射する2以上の半導体レーザーと、上記半導体レーザーから出射する上記レーザー光を光記録媒体に集光する対物レンズと、上記半導体レーザーと上記対物レンズとの間に配置された上記レーザー光の位相状態を制御する位相板と、を備えるものとする。そして、上記位相板として本発明の位相板を用いる。
また、光ヘッド装置は、2以上の波長の直線偏光のレーザー光をそれぞれ出射する2以上の半導体レーザーと、光記録媒体に上記レーザー光を集光する対物レンズと、光記録媒体で反射された光を回折する偏光回折素子と、回折された出射光を検出する光検出器と、を備えるものとする。そして、上記偏光回折素子として本発明の偏光回折素子を用いる。
ここで、広帯域位相板312は、本発明の光学異方性材料からなっており、波長λ1およびλ2のいずれの光に対しても1/4波長板として機能する。また、偏光回折素子311も、本発明の光学異方性材料を利用したものであるため、波長λ1およびλ2のいずれの光に対しても充分な回折効率を有する。
また、波長λ1については、半導体レーザ301から出射された直線偏光のレーザ光は、合波プリズム308により透過され、コリメーターレンズ310と、アクチュエータ314に保持された偏光回折素子311、広帯域位相板312および対物レンズ313とを経て光ディスク315に集光、照射される。波長λ1の光束も、波長λ2の光束と同様に、広帯域位相板312により1/4λの位相差を生じて円偏光に変換されて光ディスク315に照射されるので、復路において広帯域位相板312により偏光回折素子311に入射前と直交する直線偏光に変換される。また、波長λ2の戻り光束と同様に偏光回折素子311によって回折され、コリメーターレンズ310、合波プリズム308を透過してフォトディテクタ304に導かれて、光ディスク315に記録された情報が読み出される。
以上、光ピックアップ用の光学素子について説明したが、本発明はこれに限定されず、他の光学分野、例えば、通信用等の光学素子等としても用いることができる。
(実施例1)化合物(1A)の合成
トランス−4−n−ブチルシクロヘキサンカルボン酸(5.0g、0.027モル)をTHF(150mL)に溶解し、トリエチルアミン(5.5g、0.055モル)と塩化メタンスルホン酸(3.15g、0.027モル)とを加え、−25℃で1時間撹拌した。この混合溶液に、例1−1で得た化合物(7)(5.35g、0.025モル)と4−ジメチルアミノピリジン(0.61g、0.005モル)とを加え、−10℃で1時間撹拌した。
その後、反応溶液を10%炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。濃縮後の残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ジクロロメタン)を行い、化合物(1A)を含む画分を得た。この画分を濃縮し、ついでヘキサンとトルエンとの混合溶媒で再結晶を行い、化合物(1A)の粉末結晶(2.96g)を得た。収率は31.2%であった。
化合物(1A)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に78℃で結晶から等方性液体に変化したことから、化合物(1A)は液晶性を有さないことを確認した。化合物(1A)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図4に示す。
化合物(1B)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に85.1℃で結晶から等方性液体に、降温時に60.7℃で等方性液体からネマチック相に変化したことから、化合物(1B)は液晶性を有することを確認した。化合物(1B)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図5に示す。
化合物(1C)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に104℃で結晶からネマチック相に、193℃でネマチック相から等方性液体に変化したことから、化合物(1C)は液晶性を有することを確認した。化合物(1C)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図6に示す。
次いで、反応器に上記で得たトランス−1,4−シクロヘキサン−ジカルボン酸クロリドおよびジクロロメタン(100mL)を仕込み、撹拌し、氷水で冷却しながら4−ヒドロキシブチルアクリレート(14.4g)、ピリジン(7.9g)およびジクロロメタン(150mL)からなる溶液を滴下し、更に1時間撹拌した。
その後、反応器に上記残留物1(6.5g)、塩化チオニル(9.5g)およびジクロロメタン(100mL)を仕込み、還流撹拌後、過剰の塩化チオニルをジクロロメタンとともに共沸留去し、残留物2を得た。
その後、反応溶液を希塩酸中に添加し、ジクロロメタンで抽出後、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。留去後の残留物をカラムクロマトグラフィー(充填剤:シリカゲル、展開溶媒:THF)により精製した。目的物を含む画分を濃縮し、ジクロロメタンとトルエンとの混合溶媒で再結晶を行い、化合物(2B)の粉末結晶を得た。
化合物(2B)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に176℃で結晶から等方性液体に変化したことから、化合物(2B)は液晶性を有さないことを確認した。化合物(2B)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図7に示す。
例5−2で得た化合物(12)(2.0g、0.005モル)、THF(100mL)およびピリジン(0.625mL、0.0073モル)の混合物を氷水で冷却しながら、アクリル酸クロリド(0.595mL、0.0073モル)を30分間かけて加えた。その際、反応液を激しく撹拌し、温度を20℃以下に保った。12時間撹拌後、減圧濾過を行い、濾液を減圧濃縮した。濃縮後の残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ジクロロメタン)により精製した後、ヘキサンとトルエンとの混合溶媒で再結晶を行い、化合物(1U)(0.2g)を得た。収率は8.9%であった。
化合物(1U)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に110℃で結晶から等方性液体に変化した。化合物(1U)の赤外吸収スペクトルを図8に示す。
化合物(12)を化合物(13)(3g、0.0065モル)に変更する以外は例5−3と同様にして化合物(1V)(0.5g)を得た。収率は17.1%であった。
化合物(1V)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に127℃で結晶から等方性液体に変化した。化合物(1V)の赤外吸収スペクトルを図9に示す。
例1〜3で得た、化合物(1A)、化合物(1B)および化合物(1C)を、3:4:3(モル比)で混合し、液晶組成物Aを得た。つぎに、液晶組成物Aに光重合開始剤(商品名:イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ社製)を、液晶組成物Aに対して0.5質量%添加し、液晶組成物A1を得た。
EHC社製の評価セルに液晶組成物A1を90℃で注入し、25℃において波長365nmの紫外線を60秒間照射して光重合させることにより、位相板Aを作製した。
配向方向に平行な向きの屈折率と配向方向に垂直な向きの屈折率の差から、位相板Aの屈折率異方性を算出した。その結果を図1に示す。位相板Aの屈折率異方性の値は、レーザー光の波長が増加するほど大きくなることが確認された。
例1〜3および5で得た、化合物(1A)、化合物(1B)、化合物(1C)および化合物(1U)を6:8:6:5(モル比)で混合し、液晶組成物Bを得た。つぎに、液晶組成物Bに対して光重合開始剤(商品名:イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ社製)を液晶組成物Bに対して0.5質量%添加し、液晶組成物B1を得た。液晶組成物B1を用い、例7と同様にして位相板Bを作製した。
ろ液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル(400mL)を加え、5%NaHCO3水溶液で洗浄し、ついで水洗を2回行った。有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。濃縮後の残留物にジクロロメタン(400mL)を加えて冷却し、静置した。析出した固形物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(充填剤:中性シリカゲル、展開溶媒:ジクロロメタン)により精製し、化合物(14)(5.28g)を得た。収率は12.4%であった。
トランス−4−(トランス−4−n−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸(2.9g、0.011モル)に、ジクロロメタン(40mL)、塩化チオニル(11.9g、0.1モル)およびジメチルホルムアミド(数滴)を加え、室温で2時間撹拌した後、減圧留去し、黄白色固体を得た。
例9−1で得た化合物(14)(2.1g、0.01モル)とTHF(30mL)とトリエチルアミン(1.1g、0.011モル)との混合物に、上記黄白色固体とTHF(30mL)との混合物を、氷水で冷却しながら30分間かけて加えた。その際、反応溶液を激しく撹拌し、反応温度は5℃以下に保った。3時間撹拌した後、静置し、減圧ろ過を行った。
ろ液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル(200mL)を加えて溶解させ、5%NaHCO3水溶液で洗浄し、ついで水洗を2回行った。有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。濃縮後の残留物にカラムクロマトグラフィー(充填剤:中性シリカゲル、展開溶媒:ジクロロメタン)を行い、化合物(1D)を含む画分を得た。この画分を濃縮し、ついで酢酸エチルで再結晶を行い、化合物(1D)の粉末結晶(2.66g)を得た。収率は57.8%であった。
化合物(1D)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に118℃で結晶からネマチック相に相転移し、液晶性を有することを確認した。等方相への相転移温度は熱重合のため確認できなかった。化合物(1D)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図10に示す。
化合物(1W)を偏光顕微鏡下で観察した結果、昇温時に88℃で結晶から等方性液体に変化した。化合物(1W)の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤)を図11に示す。
例9および10で得た、化合物(1D)および化合物(1W)を、5:5(モル比)で混合し、液晶組成物Cを得た。つぎに、液晶組成物Cに対して光重合開始剤(商品名:イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ社製)を、液晶組成物Cに対して0.5質量%添加し、液晶組成物C1を得た。液晶組成物C1を用い、例7と同様にして位相板Cを作製した。
位相板Cについて、波長405nm、660nm、785nmにおける位相差を測定した。この位相差の値を、位相板Cの厚さ(重合後の光学異方性材料の厚さ)で徐することにより、各波長における屈折率異方性の値を算出した。結果を図12に示す。位相板Cの屈折率異方性の値は、光の波長が増加するほど大きくなることが確認された。
なお、2005年4月13日に出願された日本特許出願2005−115886号及び2005年12月16日に出願された日本特許出願2005−362891号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (11)
- 下記式(1)で表される重合性化合物。
CH2=CR1−COO−J1−(E1−J2)n−W1−J3−M−R2・・・(1)
(ただし、式中のR1、R2、n、J1、J2、J3、E1、W1およびMは、それぞれ以下の内容を表すものである。
R1:水素原子またはメチル基。
R2:炭素数2〜8のアルキル基。
n:0または1。
J1:単結合、−(CH2)a−、または、−(CH2)bO−(ただし、aおよびbはそれぞれ独立に、2〜8の整数。)。
J2、J3:それぞれ独立に、単結合、−OCO−、または、−COO−。
E1:1,4−フェニレン基またはトランス−1,4−シクロヘキシレン基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されていてもよい。
W1:ナフタレン−1,4−ジイル基またはナフタレン−1,5−ジイル基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されてもよい。
M:下記式(a)〜(f)で表される基から選ばれるいずれかの基。)
- 下記式(1)で表される重合性化合物を含有する重合性液晶組成物。
CH2=CR1−COO−J1−(E1−J2)n−W1−J3−M−R2・・・(1)
(ただし、式中のR1、R2、n、J1、J2、J3、E1、W1およびMは、それぞれ以下の内容を表すものである。
R1:水素原子またはメチル基。
R2:炭素数2〜8のアルキル基。
n:0または1。
J1:単結合、−(CH2)a−、または、−(CH2)bO−(ただし、aおよびbはそれぞれ独立に、2〜8の整数。)。
J2、J3:それぞれ独立に、単結合、−OCO−、または、−COO−。
E1:1,4−フェニレン基またはトランス−1,4−シクロヘキシレン基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されていてもよい。
W1:ナフタレン−1,4−ジイル基またはナフタレン−1,5−ジイル基。ただし、これらの基中の水素原子は、塩素原子、フッ素原子、メチル基またはシアノ基で置換されてもよい。
M:下記式(a)〜(f)で表される基から選ばれるいずれかの基。)
- 前記式(1)中のMが、下記式(a)〜(e)で表される基から選ばれるいずれかの基である重合性化合物を含有する請求項2に記載の重合性液晶組成物。
- 前記式(1)中のMが、トランス−1,4−シクロヘキシレン基またはトランス,トランス−4,4’−ビシクロヘキシレン基である重合性化合物を含有する請求項3に記載の重合性液晶組成物。
- 前記式(1)で表される重合性化合物の含有量が、重合性液晶組成物に対して10質量%以上である請求項2〜4のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
- 請求項2〜5のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料。
- 光学的に一軸性であり、常光屈折率noと異常光屈折率neとの差である屈折率異方性Δnの値が、使用する光の波長が長くなるとともに増加する請求項6に記載の光学異方性材料。
- 請求項6または7に記載の光学異方性材料を用いて形成され、使用する光の偏光状態および/または位相状態を制御する光学素子。
- 請求項6または7に記載の光学異方性材料を用いて形成されてなる位相板。
- 入射光を回折する回折格子領域を備えた偏光回折素子であって、
前記回折格子領域が、第1の材料からなる第1の部材と第2の材料からなる第2の部材とを備え、前記第1の部材と前記第2の部材とは、少なくとも1つの偏光に対する屈折率が相異なっており、前記第1の部材と前記第2の部材とが交互にかつ互いに接するように配置され、
前記第1の材料が、請求項6または7に記載の光学異方性材料である偏光回折素子。 - 半導体レーザーと、対物レンズと、光検出器とを有し、前記対物レンズと前記光検出器との間に位相板および/または偏光回折素子を配置してなる光ヘッド装置であって、
前記位相板が、請求項9に記載の位相板であるか、および/または、前記偏光回折素子が、請求項10に記載の偏光回折素子である光ヘッド装置。
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