JP5146477B2 - トランジスタアレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、同一工程中に複数のコンタクトホールを形成する場合、異なる深さのコンタクトホールを同時に形成する必要が生じる場合もある。この場合、深さを浅くするコンタクトホールは深さを深くするコンタクトホールに比べて長い時間エッチャントに晒されることとなり、オーバーエッチングとなることがある。このようなオーバーエッチングがなされた場合、コンタクトホールの形状が下層側から上層側に向かって傾斜する逆テーパー状となってしまう場合がある。
前記逆スタガ型トランジスタのゲート電極及びエッチングストップ用薄膜を含み、透明基板上に形成された第1導電膜と、
前記第1導電膜上に形成された第1絶縁膜と、
前記逆スタガ型トランジスタのソース電極又はドレイン電極を含み、前記ソース電極又はドレイン電極の一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された第2導電膜と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜との上に形成された第2絶縁膜と、
前記エッチングストップ用薄膜と、前記ソース電極又はドレイン電極のうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域と、を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内で前記エッチングストップ用薄膜及び前記ソース電極又はドレイン電極に接触した第1の部分と、前記ソース電極又はドレイン電極と接触しないように、前記エッチングストップ用薄膜及び前記第2絶縁膜の上面に接触し、且つ前記第1の部分に接続されている第2の部分と、を含む透明導電膜と、を備え、
前記エッチングストップ用薄膜は、前記ゲート電極、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート電極線、および、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート端子のいずれとも絶縁されるようにパターン形成されていて、
前記透明導電膜は、該透明導電膜の前記第1の部分と、該透明導電膜の前記第2の部分とを介して、前記ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極を含むことを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明の請求項2に係るトランジスタアレイ基板は、請求項1に記載のトランジスタアレイ基板において、前記トランジスタアレイ基板は、さらに、
一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された半導体膜と、
一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記半導体膜と前記第2導電膜との間に形成されたオーミックコンタクト層と、
を備え、
前記コンタクトホールは、さらに、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されていることを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明の請求項3に係るトランジスタアレイ基板は、請求項2に記載のトランジスタアレイ基板において、前記透明導電膜は、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域に接触するように形成されていることを特徴とする。
透明基板上に第1導電膜を形成し、前記第1導電膜をパターニングすることによって、前記逆スタガ型トランジスタのゲート電極と、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート電極線と、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート端子と、前記ゲート電極、前記ゲート電極線および前記ゲート端子のいずれとも絶縁されるようにパターン形成されたエッチングストップ用薄膜を形成する第1導電膜形成工程と、
前記第1導電膜上に第1絶縁膜を形成する第1絶縁膜形成工程と、
前記第1絶縁膜上に第2導電膜を形成し、前記第2導電膜をパターニングすることによって、前記逆スタガ型トランジスタのソース電極又はドレイン電極を、該ソース電極又はドレイン電極の一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように形成する第2導電膜形成工程と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜とに重なるように第2絶縁膜を形成する第2絶縁膜形成工程と、
前記エッチングストップ用薄膜と、前記ソース電極又はドレイン電極のうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域と、を露出させるように前記第1絶縁膜と前記第2絶縁膜とを貫通してコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記コンタクトホール内で前記エッチングストップ用薄膜及び前記ソース電極又はドレイン電極に接触した第1の部分と、前記ソース電極又はドレイン電極と接触しないように、前記エッチングストップ用薄膜及び前記第2絶縁膜の上面に接触し、且つ前記第1の部分と接続した第2の部分と、を含むように透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、を備え、
前記透明導電膜形成工程において、該透明導電膜の前記第1の部分と、該透明導電膜の前記第2の部分とを介して、前記ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極を含むように前記透明導電膜を形成することを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明の請求項5に係るトランジスタアレイ基板の製造方法は、請求項4に記載のトランジスタアレイ基板の製造方法において、前記トランジスタアレイ基板の製造方法は、さらに、
前記第1絶縁膜形成工程の後であって、前記第2導電膜形成工程の前に、一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に半導体膜およびオーミックコンタクト層をパターン形成する半導体膜・オーミックコンタクト層形成工程を備え、
前記コンタクトホール形成工程において、さらに、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて前記コンタクトホールを形成することを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明の請求項6に係るトランジスタアレイ基板の製造方法は、請求項5に記載のトランジスタアレイ基板の製造方法において、前記透明導電膜形成工程において、前記透明導電膜を、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域に接触するように形成することを特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置用アレイ基板を有してなる液晶表示パネルの概略構成を示す図である。
Claims (6)
- 逆スタガ型トランジスタを有するトランジスタアレイ基板であって、
前記逆スタガ型トランジスタのゲート電極及びエッチングストップ用薄膜を含み、透明基板上に形成された第1導電膜と、
前記第1導電膜上に形成された第1絶縁膜と、
前記逆スタガ型トランジスタのソース電極又はドレイン電極を含み、前記ソース電極又はドレイン電極の一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された第2導電膜と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜との上に形成された第2絶縁膜と、
前記エッチングストップ用薄膜と、前記ソース電極又はドレイン電極のうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域と、を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内で前記エッチングストップ用薄膜及び前記ソース電極又はドレイン電極に接触した第1の部分と、前記ソース電極又はドレイン電極と接触しないように、前記エッチングストップ用薄膜及び前記第2絶縁膜の上面に接触し、且つ前記第1の部分に接続されている第2の部分と、を含む透明導電膜と、を備え、
前記エッチングストップ用薄膜は、前記ゲート電極、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート電極線、および、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート端子のいずれとも絶縁されるようにパターン形成されていて、
前記透明導電膜は、該透明導電膜の前記第1の部分と、該透明導電膜の前記第2の部分とを介して、前記ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極を含むことを特徴とするトランジスタアレイ基板。 - 前記トランジスタアレイ基板は、さらに、
一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された半導体膜と、
一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記半導体膜と前記第2導電膜との間に形成されたオーミックコンタクト層と、
を備え、
前記コンタクトホールは、さらに、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されていることを特徴とする請求項1に係るトランジスタアレイ基板。 - 前記透明導電膜は、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域に接触するように形成されていることを特徴とする請求項2に係るトランジスタアレイ基板。
- 逆スタガ型トランジスタを有するトランジスタアレイ基板の製造方法であって、
透明基板上に第1導電膜を形成し、前記第1導電膜をパターニングすることによって、前記逆スタガ型トランジスタのゲート電極と、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート電極線と、前記ゲート電極と連続してパターン形成されたゲート端子と、前記ゲート電極、前記ゲート電極線および前記ゲート端子のいずれとも絶縁されるようにパターン形成されたエッチングストップ用薄膜を形成する第1導電膜形成工程と、
前記第1導電膜上に第1絶縁膜を形成する第1絶縁膜形成工程と、
前記第1絶縁膜上に第2導電膜を形成し、前記第2導電膜をパターニングすることによって、前記逆スタガ型トランジスタのソース電極又はドレイン電極を、該ソース電極又はドレイン電極の一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように形成する第2導電膜形成工程と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜とに重なるように第2絶縁膜を形成する第2絶縁膜形成工程と、
前記エッチングストップ用薄膜と、前記ソース電極又はドレイン電極のうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域と、を露出させるように前記第1絶縁膜と前記第2絶縁膜とを貫通してコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記コンタクトホール内で前記エッチングストップ用薄膜及び前記ソース電極又はドレイン電極に接触した第1の部分と、前記ソース電極又はドレイン電極と接触しないように、前記エッチングストップ用薄膜及び前記第2絶縁膜の上面に接触し、且つ前記第1の部分と接続した第2の部分と、を含むように透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、を備え、
前記透明導電膜形成工程において、該透明導電膜の前記第1の部分と、該透明導電膜の前記第2の部分とを介して、前記ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極を含むように前記透明導電膜を形成することを特徴とするトランジスタアレイ基板の製造方法。 - 前記トランジスタアレイ基板の製造方法は、さらに、
前記第1絶縁膜形成工程の後であって、前記第2導電膜形成工程の前に、一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に半導体膜およびオーミックコンタクト層をパターン形成する半導体膜・オーミックコンタクト層形成工程を備え、
前記コンタクトホール形成工程において、さらに、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域を露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて前記コンタクトホールを形成することを特徴とする請求項4に係るトランジスタアレイ基板の製造方法。 - 前記透明導電膜形成工程において、前記透明導電膜を、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とのうち前記エッチングストップ用薄膜に重なった領域に接触するように形成することを特徴とする請求項5に係るトランジスタアレイ基板の製造方法。
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