JP2011191425A - 表示装置用アレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板100にゲート電極線142が形成されており、このゲート電極線142にゲート絶縁膜104が形成されている。ゲート絶縁膜104には半導体膜105、オーミックコンタクト層107が順次形成され、オーミックコンタクト層107には一部の位置がゲート電極線142と重なるように、ジャンパー線143が形成されており、このジャンパー線143上にはOC−SiN膜111が形成されている。ゲート電極線142とジャンパー線143とを露出させるようにコンタクトホールが形成され、このコンタクトホールによってゲート電極線142とジャンパー線143との導通がなされる。
【選択図】図5
Description
ここで、同一工程中に複数のコンタクトホールを形成する場合、異なる深さのコンタクトホールを同時に形成する必要が生じる場合もある。この場合、深さを浅くするコンタクトホールは深さを深くするコンタクトホールに比べて長い時間エッチャントに晒されることとなり、オーバーエッチングとなることがある。このようなオーバーエッチングがなされた場合、コンタクトホールの形状が下層側から上層側に向かって傾斜する逆テーパー状となってしまう場合がある。
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置用アレイ基板を有してなる液晶表示パネルの概略構成を示す図である。
Claims (8)
- 透明基板上に形成された第1導電膜と、
前記第1導電膜上に形成された第1絶縁膜と、
一部が前記第1導電膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された第2導電膜と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜上に形成された第2絶縁膜と、
前記第1導電膜と前記第2導電膜のうち前記第1導電膜と重なった領域とを露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内で前記第1導電膜と導電接触した第1導電膜接触領域と、前記コンタクトホール内で前記第2導電膜と導電接触した第2導電膜接触領域と、前記第2絶縁膜上の第2絶縁膜上形成領域と、前記第1導電膜接触領域から前記第2導電膜接触領域にかけて連続的に形成された第1側面接触領域と、前記第1導電膜接触領域と前記第2絶縁膜上形成領域との間に前記第2導電膜接触領域が介在しない状態で前記第1導電膜接触領域から前記第2絶縁膜上形成領域にかけて連続的に形成された第2側面接触領域とを有する透明導電膜と、
を備えることを特徴とする表示装置用アレイ基板。 - 一部が前記第1導電膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された半導体膜と、
前記半導体膜と前記第2導電膜との間に形成されたオーミックコンタクト層と、
をさらに備え、
前記コンタクトホールは、さらに、前記半導体膜と前記オーミックコンタクト層とを露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置用アレイ基板。 - 逆スタガ型トランジスタを有するトランジスタアレイ基板であって、
透明基板上に形成された第1導電膜からなるゲート電極及びエッチングストップ用薄膜と、
前記ゲート電極と前記エッチングストップ用薄膜上に形成された第1絶縁膜と、
一部が前記エッチングストップ用薄膜と重なるように前記第1絶縁膜上に形成された第2導電膜からなるソース電極と、
前記第1絶縁膜と前記ソース電極上に形成された第2絶縁膜と、
前記エッチングストップ用薄膜と前記ソース電極のうち前記エッチングストップ用薄膜と重なった領域とを露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内で前記エッチングストップ用薄膜と導電接触した第1導電膜接触領域と、前記コンタクトホール内で前記ソース電極と導電接触した第2導電膜接触領域と、前記第2絶縁膜上の第2絶縁膜上形成領域と、前記第1導電膜接触領域から前記第2導電膜接触領域にかけて連続的に形成された第1側面接触領域と、前記第1導電膜接触領域と前記第2絶縁膜上形成領域との間に前記第2導電膜接触領域が介在しない状態で前記第1導電膜接触領域から前記第2絶縁膜上形成領域にかけて連続的に形成された第2側面接触領域とを有する画素電極と、
を備えることを特徴とする表示装置用アレイ基板。 - 前記ソース電極の前記エッチングストップ用薄膜の一部に重なる部分は前記ソース電極が延在する方向に向かって凸型の構造に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の表示装置用アレイ基板。
- 下層側に形成された第1導電膜と上層側に形成された第2導電膜とを一つのコンタクトホールを介して接続するジャンパー部において、
前記第2導電膜は該第2導電膜が延在する方向に向かって凸型の構造をしており、且つ前記第1導電膜の一部に重なるように形成されていることを特徴とする表示装置用アレイ基板。 - 逆スタガ型のトランジスタを有する表示装置用アレイ基板であって、
前記トランジスタのゲート電極とともに前記透明基板上に形成され、前記トランジスタのゲート電極と同一の材料からなるゲート電極線と、
前記ゲート電極線上に形成された第1絶縁膜と、
一部が前記ゲート電極線と重なるように前記第1絶縁膜上に形成され、前記トランジスタのドレイン電極と同一の材料からなるジャンパー線と、
前記第1絶縁膜と前記ジャンパー線上に形成された第2絶縁膜と、
前記ゲート電極線と前記ジャンパー線のうち前記ゲート電極線と重なった領域とを露出させるように前記第2絶縁膜から前記第1絶縁膜にかけて形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内で前記ゲート電極線と導電接触したゲート電極線接触領域と、前記コンタクトホール内で前記ドレイン電極と導電接触したジャンパー線接触領域と、前記第2絶縁膜上の第2絶縁膜上形成領域と、前記ゲート電極線接触領域から前記ジャンパー線接触領域にかけて連続的に形成された第1側面接触領域と、前記ゲート電極線接触領域と前記第2絶縁膜上形成領域との間に前記ジャンパー線接触領域が介在しない状態で前記ゲート電極線接触領域から前記第2絶縁膜上形成領域にかけて連続的に形成された第2側面接触領域とを有する接続配線と、を備えることを特徴とする表示装置用アレイ基板。 - 前記ジャンパー線の前記ゲート電極線の一部に重なる部分は前記ジャンパー線が延在する方向に向かって凸型の構造に形成されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置用アレイ基板。
- 透明基板上に第1導電膜を形成する第1導電膜形成工程と、
前記第1導電膜上に第1絶縁膜を形成する第1絶縁膜形成工程と、
一部が前記第1導電膜と重なるように前記第1絶縁膜上に第2導電膜を形成する第2導電膜形成工程と、
前記第1絶縁膜と前記第2導電膜とに重なるように第2絶縁膜を形成する第2絶縁膜形成工程と、
前記第1導電膜と前記第2導電膜とのうち前記第1導電膜と重なった領域を露出させるように前記第1絶縁膜と前記第2絶縁膜とを貫通してコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記コンタクトホール内で前記第1導電膜と導電接触した第1導電膜接触領域と、前記コンタクトホール内で前記第2導電膜と導電接触した第2導電膜接触領域と、前記第2絶縁膜上の第2絶縁膜上形成領域と、前記コンタクトホール内で前記第1導電膜接触領域から前記第2導電膜接触領域にかけて連続的に形成された第1側面接触領域と、前記コンタクトホール内で前記第1導電膜接触領域と前記第2絶縁膜上形成領域との間に前記第2導電膜接触領域が介在しない状態で前記第1導電膜接触領域から前記第2絶縁膜上形成領域にかけて連続的に形成された第2側面接触領域とを有するように透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、
を含むことを特徴とする表示装置用アレイ基板の製造方法。
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