JP5127577B2 - スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 - Google Patents
スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5127577B2 JP5127577B2 JP2008154417A JP2008154417A JP5127577B2 JP 5127577 B2 JP5127577 B2 JP 5127577B2 JP 2008154417 A JP2008154417 A JP 2008154417A JP 2008154417 A JP2008154417 A JP 2008154417A JP 5127577 B2 JP5127577 B2 JP 5127577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- spacer
- liquid crystal
- crystal display
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13392—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers dispersed on the cell substrate, e.g. spherical particles, microfibres
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
<1> 少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて形成されており、25℃における15%圧縮時の弾性係数が0.5GPa以上3.0GPa以下であり、底面積が20μm2を超え350μm2以下であり、高さが1.0μm以上10.0μm以下であるスペーサである。
<2> 前記(A)樹脂の炭素数が10以上であることを特徴とする前記<1>に記載のスペーサである。
<3> 前記脂環構造が、トリシクロペンテニル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、及びイソボルニル基から選択される少なくとも1種を有することを特徴とする前記<1>又は前記<2>に記載のスペーサである。
<4> 前記(C)光重合開始剤が、アミノアセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、及びオキシムエステル系化合物よりなる群より選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする前記<1>〜前記<3>のいずれか1つに記載のスペーサである。
<6> 前記(D)微粒子の平均粒子径が5nm以上50nm以下であり、前記(D)微粒子の全固形分に対する質量比率が5質量%以上50質量%以下であることを特徴とする前記<5>に記載のスペーサである。
<7> 前記弾性係数が、1.0GPa以上3.0GPa以下であることを特徴とする前記<1>〜前記<6>のいずれか1つに記載のスペーサである。
<8> 前記底面積が20μm2を超え180μm2以下であり、前記高さが1.5μm以上5.0μm以下であることを特徴とする前記<1>〜前記<7>のいずれか1つに記載のスペーサである。
<9> 前記(A)樹脂は、側鎖に前記脂環構造を有する繰り返し単位Xと、側鎖に前記酸性基を有する繰り返し単位Yと、側鎖に前記エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位Zと、を有する共重合体であることを特徴とする前記<1>〜前記<8>のいずれか1つに記載のスペーサである。
<10> 前記(A)樹脂は、樹脂における脂環構造を有する繰り返し単位の組成比(x)が20〜50モル%であることを特徴とする前記<9>に記載のスペーサである。
<11> 前記脂環構造として、下記一般式(a)で表される基を有することを特徴とする前記<1>〜前記<10>のいずれか1つに記載のスペーサである。
一般式(a)において、xは、1又は2を表し、m及びnは、各々独立に、0〜15の整数を表す。
<13> 前記<1>〜前記<11>のいずれか1つに記載のスペーサの製造方法であって、仮支持体上に少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて、加熱及び/又は加圧により支持体上に前記感光性樹脂層を転写し、前記感光性樹脂層をパターニングしてスペーサパターンを形成する工程を有するスペーサの製造方法である。
<14> 前記<1>〜前記<11>のいずれか1つに記載のスペーサを備えた液晶表示装置用基板である。
<15> 前記<14>に記載の液晶表示装置用基板を備えた液晶表示装置である。
本発明のスペーサは、少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて形成されたものであり、25℃における15%圧縮時の弾性係数を0.5GPa以上3.0GPa以下の範囲とし、底面積を20μm2超え350μm2以下の範囲とし、高さを1.0μm以上10.0μm以下の範囲として構成されたものである。
弾性係数=(荷重F1/スペーサの底面積S[mm2])/ひずみ量
すなわち、上記式は、高さH0、底面積Sのスペーサに荷重F1を加えたときのひずみ量が(H0−H1)/H0のときの弾性係数を表す。
底面積Sは、20μm2以下であると基板間隙が広がった場合にスペーサが基板から離れやすく、液晶材料が例えば水平面と交差する方向に配置する等の際に偏在(重力不良)して表示ムラを生じ、350μm2を超えると追随できなくなり、低温発泡を生じてやはり表示ムラを生じる。また、高さHは、1.0μm未満であると基板間隙が広がった場合に追随し得ず、スペーサが基板から離れて液晶材料が例えば水平面と交差する方向に配置する等の際に偏在(重力不良)して表示ムラを生じ、10.0μmを超えると弾性が低下して、やはり液晶材料が例えば水平面と交差する方向に配置する等の際に偏在(重力不良)を生じたり、柱の形状が横方向へ変形(横倒れ)が生じたりして表示ムラを生じてしまう。
スペーサの底面積及び高さは、25℃下で24時間放置した後の値であり、例えば、底面積はSEM観察により、高さは三次元表面構造解析顕微鏡(メーカー:ZYGO Corporation、型式:New View 5022)を用いることにより計測することができる。
本発明における層形成工程では、支持体上に、(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物を用いて感光性樹脂層を形成する。
この感光性樹脂層は、後述のパターニング工程等の他工程を経ることにより、セル厚を均一に保持し得る既述の本発明のスペーサを構成するものである。本発明のスペーサを用いることにより、特にセル厚の変動で表示ムラが生じやすい液晶表示装置における画像中の表示ムラが効果的に解消される。
感光性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第2681294号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開2004−89851号公報、特開2004−17043号公報、特開2003−170098号公報、特開2003−164787号公報、特開2003−10767号公報、特開2002−79163号公報、特開2001−310147号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。
転写は、感光性転写材料を用いて、仮支持体上に膜状に形成された感光性樹脂層を所望の支持体面に例えば加熱及び/又は加圧したローラー又は平板を用いて圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により感光性樹脂層を支持体上に転写する。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
感光性転写材料を構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写材料の作製方法については、特開2006−23696号公報の段落番号[0024]〜[0030]に記載の構成、作製方法を適用することができる。
次に、感光性組成物について説明する。
感光性組成物は、少なくとも(A)樹脂、(B)重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有してなり、(A)樹脂として、側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を有する樹脂を用いて構成される。また、必要に応じて、着色剤や界面活性剤などのその他の成分を用いて構成できる。
樹脂としては、公知の樹脂成分から任意に選択して用いることができ、弾性回復性に優れる観点から、分子中に反応性基と酸性基とを有する樹脂が好ましい。中でも、スペーサの弾性回復性(即ち変形回復率)を高める観点から、側鎖に、分岐及び/又は脂環構造:X(xモル%)と、酸性基:Y(yモル%)と、エチレン性不飽和結合:Z(zモル%)とを有する樹脂が好ましく、必要に応じてその他の基(L)(lモル%)を有していてもよい。また、(A)樹脂中の1つの基の中に、X,Y,及びZが複数組み合わされていてもよい。
前記「分岐及び/又は脂環構造」について説明する。
まず、分岐構造としては、炭素原子数3〜12個の分岐状のアルキル基が挙げられ、例えば、i−プロピル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、2−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、i−アミル基、t−アミル基、3−オクチル、t−オクチル等並びにこれらを有する基が挙げられる。これらの中でも、i−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等並びにこれらを有する基が好ましく、さらにi−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基等並びにこれらを有する基が好ましい。
前記市販品としては、日立化成工業(株)製:FA−511A、FA−512A(S)、FA−512M、FA−513A、FA−513M、TCPD−A、TCPD−M、
H−TCPD−A、H−TCPD−M、TOE−A、TOE−M、H−TOE−A、H−TOE−M等が挙げられる。これらの中でも、現像性に優れ、変形回復率に優れる点で、FA−512A(S),512Mが好ましい。
酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。
エチレン性不飽和結合としては、特に制限はないが、(メタ)アクリロイル基を導入して配されることが好ましい。また、エチレン性不飽和結合と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの2価の連結基であれば特に制限はない。
側鎖にエチレン性不飽和結合を導入する方法は、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基にイソシアネート基を持つ(メタ)アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐及び/又は脂環構造をもたない(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
(A)樹脂は、モノマーの(共)重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から合成することができる。
まず、(共)重合反応は種々のモノマーの(共)重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
(A)樹脂の総炭素数としては、弾性係数(硬さ)の点で、10以上が好ましい。中でも、総炭素数は、10〜30がより好ましく、特に好ましくは10〜15である。
(A)樹脂の重量平均分子量としては、10,000〜10万が好ましく、12,000〜60,000が更に好ましく、15,000〜45,000が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、樹脂(好ましくは共重合体)の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像でのスペーサ形状の残渣がない点で好ましい。
(A)樹脂のガラス転移温度(Tg)は、40〜180℃であることが好ましく、45〜140℃であることはより好ましく、50〜130℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度(Tg)が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサが得られる。
(A)樹脂の酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲が変動するが、一般には20mgKOH/g以上であることが好ましく、50mgKOH/g以上であることはより好ましく、70〜130mgKOH/gであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサが得られる。
更に、前記(A)樹脂の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度(Tg)、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。
このような共重合体は、例えば、分岐及び/又は脂環構造を有する単量体と、酸性基を有する単量体と、エチレン性不飽和結合を有する単量体と、必要に応じて他の単量体と、を共重合させて得ることができる。
(A)樹脂における、分岐及び/又は脂環構造を有する繰り返し単位の組成比(x)は、10〜70モル%が好ましく、15〜65モル%が更に好ましく、20〜60モル%が特に好ましい。組成比(x)が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
(A)樹脂における、酸性基を有する繰り返し単位の組成比(y)は、5〜70モル%が好ましく、10〜60モル%が更に好ましく、20〜50モル%が特に好ましい。組成比(y)が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
(A)樹脂における、エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位の組成比(z)は、10〜70モル%が好ましく、20〜70モル%が更に好ましく、30〜70モル%が特に好ましい。組成比(z)が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。
更には、(A)樹脂としては、組成比(x)が10〜70モル%(更には15〜65モル%、特には20〜50モル%)であって、組成比(y)が5〜70モル%(更には10〜60モル%、特には30〜60モル%)であって、組成比(z)が10〜70モル%(更には20〜70モル%、特には30〜70モル%)である場合が好ましい。
前記(A)樹脂と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物(エポキシアクリレート化合物)、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。
本発明における感光性組成物は、前記(A)樹脂と共に、(B)重合性化合物及び(C)光重合開始剤を少なくとも含有してなり、好ましくは(D)微粒子を含んでなり、更に必要に応じて、光重合開始助剤などの他の成分を含んでいてもよい。(B)重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)微粒子、及び他の成分としては、公知の組成物を構成する成分から選択して用いることができ、例えば、特開2006−23696号公報の段落番号[0010]〜[0020]に記載の成分や、特開2006−64921号公報の段落番号[0027]〜[0053]に記載の成分を挙げることができる。
前記アミノアセトフェノン系化合物の具体例としては、IRGACURE(Irg)369やIRGACURE(Irg)379、及びIRGACURE(Irg)907等(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)が挙げられる。
前記アシルフォスフィンオキサイド系化合物の具体例としては、DAROCUR TPOや、Irgacure(Irg)819等(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)が挙げられる。
前記オキシムエステル系化合物の具体例としては、IRGACURE(Irg) OXE01やCGI242等(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)が挙げられる。
以下に、これらの開始剤の構造を示す。
前記アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。
前記チオキサントン系化合物としては、例えば、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
(D)光重合開始助剤の感光性組成物における使用量としては、前記(C)光重合開始剤1質量部に対して、0.6質量部以上20質量部以下が好ましく、更に1質量部以上15質量部以下であることが好ましく、とりわけ1.5質量部以上15質量部以下であることが好ましい。
感光性組成物は、力学強度の点で、微粒子を含有することが好ましい。
(D)微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開2003−302639号公報[0035]〜[0041]に記載の体質顔料が好ましく、中でも、良好な現像性、力学強度を有するスペーサが得られる点から、コロイダルシリカが好ましい。
本発明においては、上記の層形成工程の後、支持体上に形成された感光性樹脂層を露光及び現像してパターニングする工程(以下、「パターニング工程」ということがある。)を設けることができ、所望の形状のスペーサを作製することができる。
前記黒色遮蔽部及び着色部とスペーサとは、感光性組成物を塗布する塗布法と感光性組成物からなる感光性樹脂層を有する転写材料を用いる転写法と、を任意に組合せて形成することが可能である。
前記黒色遮蔽部及び着色部並びに前記スペーサはそれぞれ感光性組成物から形成でき、具体的には、例えば、基板に液体の前記感光性組成物を直接塗布することにより感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像を行ない、前記黒色遮蔽部及び着色部をパターン状に形成し、その後、別の液体の前記感光性組成物を前記基板とは異なる別の基板(仮支持体)上に設置して感光性樹脂層を形成することにより作製された転写材料を用い、この転写材料を前記黒色遮蔽部及び着色部が形成された前記基板に密着させて感光性樹脂層を転写した後に、露光・現像を行うことによりスペーサをパターン状に形成することができる。このようにして、スペーサが設けられたカラーフィルタを作製することができる。
本発明の液晶表示装置用基板は、前記本発明のスペーサを備えたものである。スペーサは、支持体上に形成されたブラックマトリクス等の黒色遮光部の上やTFT等の駆動素子上に形成されることが好ましい。また、ブラックマトリクス等の黒色遮光部やTFT等の駆動素子とスペーサとの間にITO等の透明導電層(透明電極)やポリイミド等の液晶配向膜が存在していてもよい。
本発明の液晶表示装置用基板には更に、必要に応じて赤色(R)、青色(B)、緑色(G)3色等の着色画素が設けられてもよい。
本発明の液晶表示装置用基板を設けて液晶表示素子を構成することができる。液晶表示素子の1つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体(本発明の液晶表示装置用基板を含む。)間に液晶層と液晶駆動手段(単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。)を少なくとも備えたものが挙げられる。
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する2色の画素からなるものでも、3色の画素、4色以上の画素からなるものであってもよい。例えば3色の場合、赤(R)、緑(G)及び青(B)の3つの色相で構成される。RGB3色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、4色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば2色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。RGB画素の形成については、特開2004−347831号公報等を参考にすることができる。
本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置用基板を設けて構成されたものである。また、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示素子を設けて構成することができる。すなわち、互いに向き合うように対向配置された一対の基板間を既述のように、本発明のスペーサで所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入(封入部位を液晶層と称する。)して構成されており、液晶層の厚さ(セル厚)が所望の均一厚に保持されるようになっている。
(A)樹脂の例として既述した化合物P−1の合成例を以下に示す。
−合成例1−
反応容器中に1−メトキシ−2−プロパノール(MMPGAC、ダイセル化学工業(株)製)7.48部をあらかじめ加え、90℃に昇温し、メタクリル酸−2−アダマンチル(ADMA、日立化成工業(株)製)6.35部、メタクリル酸3.62部、アゾ系重合開始剤(和光純薬(株)製、V−601)0.22部、及び1−メトキシ−2−プロパノール7.48部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、90℃の反応容器中に2時間かけて滴下した。滴下後、4時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.020部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド0.46部を加えた後、グリシジルメタクリレート3.53部を2時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら90℃で4時間反応させた後、固形分濃度が45%になるように溶媒を添加することにより調製し、不飽和基を持つ既述の化合物P−1〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;70.6mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た(x:y:zが41.0mol%:24.0mol%:35.0mol%)。
なお、化合物P−1の分子量Mwは、重量平均分子量を示し、重量平均分子量の測定は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC法)を用いて行なった(以下、同様である)。
既述の化合物P−2の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをメタクリル酸イソボルニルに代え、化合物P−2中のx:y:zが48.0mol%:22.0mol%:30.0mol%になるように、メタクリル酸イソボルニル(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−2〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;63.6mgKOH/g、Mw;30,000、及び10,000、40,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−3の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをメタクリル酸シクロヘキシルに代え、化合物P−3中のx:y:zが45.0mol%:20.0mol%:35.0mol%になるように、メタクリル酸シクロヘキシル(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−3〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;64.9mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−4の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをトリシクロペンテニルメタアクリレート(TCPD−M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−4中のx:y:zが40.0mol%:25.0mol%:35.0mol%になるように、TCPD−M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−4〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;65.2mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−5の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをトリシクロペンタニルメタアクリレート(H−TCPD−M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−5中のx:y:zが42.0mol%:26.0mol%:32.0mol%になるように、H−TCPD−M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−5〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;67.6mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−6の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをトリシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート(TOE−M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−6中のx:y:zが40.0mol%:23.0mol%:37.0mol%になるように、TOE−M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−6〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;54.8mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−7の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをトリシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート(H−TOE−M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−7中のx:y:zが40.0mol%:25.0mol%:35.0mol%になるように、H−TOE−M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−7〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;60.1mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−8の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート(FA−512A、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−8中のx:y:zが42.0mol%:23.0mol%:35.0mol%になるように、FA−512A(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−8〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;63.3mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−9の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート(FA−512M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−9中のx:y:zが41.0mol%:24.0mol%:35.0mol%になるように、FA−512M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−9〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;64.7mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
既述の化合物P−10の合成を以下のように行なった。
合成例1において、ADMAをジシクロペンタニルメタアクリレート(FA−513M、日立化成工業(株)製)に代え、化合物P−10中のx:y:zが50.0mol%:24.0mol%:26.0mol%になるように、FA−513M(x)、メタクリル酸(y)、及びグリシジルメタクリレート(z)の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物P−10〔(A)樹脂〕の樹脂溶液(固形分酸価;70.8mgKOH/g、Mw;30,000、1−メトキシ−2−プロパノール45%溶液)を得た。
<カラーフィルタ基板の作製>
特開2005−3861号公報の段落番号[0084]〜[0095]に記載の方法により、ブラックマトリクス、R(赤色)画素、G(緑色)画素、B(青色)画素を有するカラーフィルタを作製した(以下、これをカラーフィルタ基板と称する。)。ここで、カラーフィルタ基板の基板サイズは、400mm×300mmとした。
次いで、得られたカラーフィルタ基板のR画素、G画素、及びB画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ITO(Indium Tin Oxide)の透明電極をスパッタリングにより形成した。
上記で作製したITO透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO透明電極上に、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターMH−1600(エフ・エー・エス・アジア社製)にて下記表1に示す処方(実施例では処方1)からなる感光性樹脂層用塗布液をスリット塗布した。引き続き、真空乾燥機VCD(東京応化社製)を用いて30秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、120℃で3分間プリベークし、膜厚5.0μmの感光性樹脂層を形成した(層形成工程)。
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、上記で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれPVAモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
得られたフォトスペーサについて、下記の測定、評価を行なった。測定評価の結果は下記表2に示す。
得られたフォトスペーサに対して、微小硬度計(DUH−W201、(株)島津製作所製)により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、50μmφの円錘台圧子を採用し、最大荷重50mN、保持時間5秒として、負荷−除荷試験法により行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔%〕を求め、下記評価基準にしたがって評価した。測定は、22±1℃、50%RHの環境下で行なった。
変形回復率(%)
=(荷重開放後の回復量[μm]/荷重時の変形量[μm])×100
〈評価基準〉
5:変形回復率が90%以上であった。
4:変形回復率が87%以上90%未満であった。
3:変形回復率が85%以上87%未満であった。
2:変形回復率が80%以上85%未満であった。
1:変形回復率が75%以上80%未満であった。
0:変形回復率が75%未満であった。
温度25℃に調整した室内において、スペーサを10mN/sの荷重印加速度で初期高さH0[mm]の85%に相当する高さH1[mm]になるまで圧縮し、高さH1のときの荷重F1[N]を読み取り、15%圧縮時(ひずみ量=(H0−H1)/H0)の弾性係数を下記式から算出した。
弾性係数=(荷重F1/スペーサの底面積S[mm2])/ひずみ量
前記「−フォトスペーサの作製−」において、プロキシミティー露光後、各実施例の現像条件と同様の方法で現像し、形成したフォトスペーサ周辺部のSEM観察を行ない、スペーサ周辺の残渣の有無を確認した。
〈評価基準〉
5:残渣がまったく見られなかった。
4:パターン周辺に若干の残渣が見られた。
3:パターン周辺に残渣が見られた。
2:パターン周辺とパターン近傍の基板上に残渣が見られた。
1:基板上の所々に残渣が確認された。
各実施例で用いた感光性樹脂層用塗布液に対して、露光量を種々変化させたときにスペーサパターンを形成できるかできないかを観察し、下記評価基準にしたがって評価した。
〈評価基準〉
○:60mJ以下でパターン形成が可能であった。
△:60〜200mJでパターン形成が可能であった。
×:パターン形成に200mJ以上の露光量が必要であった。
(1)重力不良による表示ムラ
液晶表示装置を水平面の法線方向と平行に立てた状態で、60℃の条件下で2日間放置した。放置後、この液晶表示装置をクロスニコルの間に設置し、目視により表示画像を観察して、重力不良の発生について以下の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
○:表示画像は均一であった。
△:表示画像の一部に色ムラがあった。
×:表示画像の全体に色ムラがあった。
(2)低温発泡による表示ムラ
液晶表示装置を0℃の条件下に24時間放置した後、この液晶表示装置をクロスニコルの間に設置し、目視により観察して、低温発泡の発生の有無を以下の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
○:発泡はみられなかった。
△:発泡による色ムラが一部に認められた。
×:発泡による色ムラが認められた。
実施例1において、感光性樹脂層用塗布液の調製に用いた化合物P−1〔(A)樹脂〕、微粒子、開始剤、B/A、及び形成方法等を、下記表2〜表3に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様して、フォトスペーサ及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサは、円柱形状とした。
実施例1において、感光性樹脂層用塗布液の処方1を前記表1に記載の処方2又は処方3に代えると共に、感光性樹脂層用塗布液の調製に用いた化合物P−1〔(A)樹脂〕、微粒子、及び形成方法等を、下記表3に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、フォトスペーサ及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサは、円柱形状とした。
実施例1において、感光性樹脂層用塗布液の調製に用いた化合物P−1〔(A)樹脂〕、微粒子、及び形成方法等を下記表3に示すように変更し、感光性樹脂層用塗布液の塗布に代えて以下に示すスペーサ用感光性転写フィルムを用いた転写を行なうことにより、感光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例1と同様して、フォトスペーサ及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサは、円柱形状であった。
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体(PET仮支持体)上に、下記処方Aからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚15.0μmの熱可塑性樹脂層を形成した。
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 … 25.0部
(=55/11.7/4.5/28.8[モル比]、重量平均分子量90,000)
・スチレン/アクリル酸共重合体 … 58.4部
(=63/37[モル比]、重量平均分子量8,000)
・2,2−ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパン
… 39.0部
・下記界面活性剤1 … 10.0部
・メタノール … 90.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール … 51.0部
・メチルエチルケトン …700部
・下記構造物1 …30%
・メチルエチルケトン …70%
・ポリビニルアルコール …3.22部
(PVA−205(鹸化率80%)、(株)クラレ製)
・ポリビニルピロリドン …1.49部
(PVP K−30、アイエスピー・ジャパン株式会社製)
・メタノール …42.3部
・蒸留水 …524部
得られたスペーサ用感光性転写フィルムのカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂層の表面を、実施例1と同様にして作製したITO透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO透明電極上に重ね合わせ、ラミネーターLamicII型〔(株)日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧100N/cm、130℃の加圧・加熱条件下で搬送速度2m/分にて貼り合わせた。その後、PET仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した(層形成工程)。
次いで、炭酸Na系現像液(0.38モル/リットルの炭酸水素ナトリウム、0.47モル/リットルの炭酸ナトリウム、5%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有;商品名:T−CD1(富士フィルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて29℃で30秒間、コーン型ノズル圧力0.15MPaでシャワー現像し、パターン像を形成した。引き続いて、洗浄剤(燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有;商品名:T−SD3(富士フィルム(株)製))を純水で10倍に希釈した液を用いて33℃で20秒間、コーン型ノズル圧力0.02MPaにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、円柱状のスペーサパターンを300μm×300μmに1本のスペーサ間隔となるように形成した(パターニング工程)。
次に、スペーサパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、230℃下で30分間加熱処理を行なう(熱処理工程)ことにより、カラーフィルタ基板上にフォトスペーサを作製した。得られたフォトスペーサは、直径15.1μm、平均高さ4.7μmの円柱形状であった。
そして、フォトスペーサが作製されたカラーフィルタ基板を用い、実施例1と同様にして、PVAモード液晶表示装置を作製した。
これに対し、所定の弾性係数、底面積及び高さを満足しない場合(比較例)には、重力不良や低温発泡の発生を防止できず、表示ムラの発生を回避することはできなかった。
Claims (15)
- 少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて形成されており、25℃における15%圧縮時の弾性係数が0.5GPa以上3.0GPa以下であり、底面積が20μm2を超え350μm2以下であり、高さが1.0μm以上10.0μm以下であるスペーサ。
- 前記(A)樹脂の炭素数が10以上であることを特徴とする請求項1に記載のスペーサ。
- 前記脂環構造が、トリシクロペンテニル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、及びイソボルニル基から選択される少なくとも1種を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のスペーサ。
- 前記(C)光重合開始剤が、アミノアセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、及びオキシムエステル系化合物よりなる群より選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のスペーサ。
- 更に、(D)微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のスペーサ。
- 前記(D)微粒子の平均粒子径が5nm以上50nm以下であり、前記(D)微粒子の全固形分に対する質量比率が5質量%以上50質量%以下であることを特徴とする請求項5に記載のスペーサ。
- 前記弾性係数が、1.0GPa以上3.0GPa以下であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のスペーサ。
- 前記底面積が20μm2を超え180μm2以下であり、前記高さが1.5μm以上5.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のスペーサ。
- 前記(A)樹脂は、側鎖に前記脂環構造を有する繰り返し単位Xと、側鎖に前記酸性基を有する繰り返し単位Yと、側鎖に前記エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位Zと、を有する共重合体であることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載のスペーサ。
- 前記(A)樹脂は、樹脂における脂環構造を有する繰り返し単位の組成比(x)が20〜50モル%であることを特徴とする請求項9に記載のスペーサ。
- 前記脂環構造として、下記一般式(a)で表される基を有することを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載のスペーサ。
〔式中、xは1又は2を表し、m及びnは各々独立に0〜15の整数を表す。〕 - 請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のスペーサの製造方法であって、
少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性組成物を塗布することにより支持体上に感光性樹脂層を形成し、前記感光性樹脂層をパターニングしてスペーサパターンを形成する工程を有するスペーサの製造方法。 - 請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のスペーサの製造方法であって、
仮支持体上に少なくとも(A)側鎖に、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基から選択される脂環構造と、酸性基と、エチレン性不飽和結合と、を含む樹脂、(B)重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて、加熱及び/又は加圧により支持体上に前記感光性樹脂層を転写し、前記感光性樹脂層をパターニングしてスペーサパターンを形成する工程を有するスペーサの製造方法。 - 請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のスペーサを備えた液晶表示装置用基板。
- 請求項14に記載の液晶表示装置用基板を備えた液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008154417A JP5127577B2 (ja) | 2007-08-03 | 2008-06-12 | スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007202820 | 2007-08-03 | ||
JP2007202820 | 2007-08-03 | ||
JP2007218080 | 2007-08-24 | ||
JP2007218080 | 2007-08-24 | ||
JP2008154417A JP5127577B2 (ja) | 2007-08-03 | 2008-06-12 | スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009075553A JP2009075553A (ja) | 2009-04-09 |
JP5127577B2 true JP5127577B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=40610529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008154417A Expired - Fee Related JP5127577B2 (ja) | 2007-08-03 | 2008-06-12 | スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5127577B2 (ja) |
KR (1) | KR20090014094A (ja) |
CN (1) | CN101359132B (ja) |
TW (1) | TW200909957A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4891427B2 (ja) * | 2010-07-26 | 2012-03-07 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
TWI467271B (zh) * | 2012-04-23 | 2015-01-01 | Au Optronics Corp | 液晶面板 |
EP2818534B1 (en) | 2013-06-28 | 2017-11-15 | LG Display Co., Ltd. | Liquid crystal polymer composition, liquid crystal display and method for manufacturing the same |
KR102141165B1 (ko) * | 2013-06-28 | 2020-08-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 고분자 조성물, 이를 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법 |
WO2016165979A1 (de) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | Basf Se | Dihydrooligocyclopentadienyl(meth)acrylate |
DE102015119939A1 (de) | 2015-11-18 | 2017-05-18 | ALTANA Aktiengesellschaft | Vernetzbare polymere Materialien für dielektrische Schichten in elektronischen Bauteilen |
CN106707629A (zh) * | 2015-11-18 | 2017-05-24 | 深圳超多维光电子有限公司 | 液晶空盒及制作方法、应用该液晶空盒的液晶透镜 |
CN107741674A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-02-27 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶面板及其制作方法、液晶显示装置 |
JP6976637B2 (ja) * | 2017-11-03 | 2021-12-08 | エルジー・ケム・リミテッド | プラスチック基板の製造方法 |
CN109975988B (zh) * | 2017-12-28 | 2021-12-17 | 上海仪电显示材料有限公司 | 裸眼3d柱状透镜和3d显示屏模组 |
KR102321092B1 (ko) * | 2018-10-11 | 2021-11-02 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 패턴 및 범프의 제조 방법 |
CN111061094B (zh) * | 2019-12-25 | 2021-07-06 | Tcl华星光电技术有限公司 | 液晶显示装置及其制备方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001159707A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-12 | Toppan Printing Co Ltd | 柱状スペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタ |
JP2002357901A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性樹脂組成物、転写材料、及び画像形成方法 |
JP2003015138A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-15 | Toppan Printing Co Ltd | 柱状スペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタ |
JP2003215602A (ja) * | 2002-01-24 | 2003-07-30 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2005091852A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性組成物およびそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ |
CN101373331A (zh) * | 2004-02-10 | 2009-02-25 | 积水化学工业株式会社 | 柱状间隔物、液晶显示元件及柱状间隔物用树脂组合物 |
JP2006227426A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Sekisui Chem Co Ltd | カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
JP2006232893A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Sekisui Chem Co Ltd | カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
JP4706847B2 (ja) * | 2005-03-02 | 2011-06-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP2006313285A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Sekisui Chem Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2006343415A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Sekisui Chem Co Ltd | フォトレジスト用光硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
JP4736679B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2011-07-27 | 大日本印刷株式会社 | 液晶表示装置用硬化膜 |
JP2007100042A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
JP2007140448A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-06-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性フィルム、感光性樹脂組成物、及び液晶スペーサーの製造方法。 |
JP2007155749A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Sekisui Chem Co Ltd | カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
JP2009084435A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサの製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、及び液晶表示装置 |
-
2008
- 2008-06-12 JP JP2008154417A patent/JP5127577B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-08 CN CN2008101360333A patent/CN101359132B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-10 KR KR1020080067108A patent/KR20090014094A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-07-15 TW TW097126710A patent/TW200909957A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101359132A (zh) | 2009-02-04 |
KR20090014094A (ko) | 2009-02-06 |
JP2009075553A (ja) | 2009-04-09 |
TW200909957A (en) | 2009-03-01 |
CN101359132B (zh) | 2012-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5127577B2 (ja) | スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 | |
JP4994136B2 (ja) | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 | |
JP5284833B2 (ja) | フォトスペーサーの製造方法 | |
JP5191244B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP5207837B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、フォトスペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP5361373B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP2009162871A (ja) | 感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP2009048187A (ja) | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP5328175B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサ及びその製造方法、表示装置用基板並びに表示装置 | |
JP2009229720A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP5030599B2 (ja) | 液晶ディスプレイ用フォトスペーサー及びその製造方法並びに液晶表示装置 | |
JP2009244323A (ja) | 感光性樹脂組成物及びフォトスペーサー | |
JP2009122533A (ja) | 感光性樹脂組成物、スペーサ及びその形成方法、並びに液晶表示素子 | |
JP2009258353A (ja) | 感光性樹脂組成物及びフォトスペーサー | |
JP2009084435A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサの製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、及び液晶表示装置 | |
JP2009080194A (ja) | 重合性樹脂組成物、転写材料、カラーフィルタ及びその製造方法、液晶表示装置用スペーサ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 | |
JP2009186838A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP2009122549A (ja) | 感光性樹脂組成物、スペーサ及びその形成方法、並びに液晶表示素子 | |
KR20090104670A (ko) | 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서와 그 제조방법, 보호막, 착색 패턴, 표시장치용 기판, 및 표시장치 | |
JP2009128487A (ja) | 感光性樹脂組成物及びフォトスペーサーの製造方法、並びに、液晶表示装置用基板、液晶表示素子及び液晶表示装置 | |
KR20090082859A (ko) | 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서와 그 형성방법, 보호막, 착색 패턴, 표시장치용 기판, 및 표시장치 | |
JP2009079140A (ja) | 硬化性組成物、硬化性樹脂転写フイルム、スペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP2009035642A (ja) | 硬化性組成物、硬化性樹脂転写材料、硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置用基板、並びに液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121009 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |