JP5119194B2 - 光ピックアップ装置 - Google Patents

Description

本発明は、受光素子からの出力に基づいてサーボを行う制御部に接続され、複数の層が形成される光記録媒体に記録される情報を読取る光ピックアップ装置に関する。

図９は、光記録媒体に形成される複数の記録層１に、対物レンズ２を透過した光が集光される様子を表す側面図である。図９には、複数の記録層１のうち、対物レンズ２に近い位置に配置される記録層に光が集光されている場合を表している。光記録媒体に複数の記録層１が積層して形成される場合、複数の記録層１のいずれか一方に集光した光は、光が集光されていない記録層にも入射し、光が集光された記録層からのみならず、光が集光されていない記録層によっても反射が生じる。

図１０は、第１の従来技術に係る光ピックアップ装置における受光素子３の平面図である。図１０には、フォーカシングサーボに用いられる受光領域と、その両側に配置されるトラッキングサーボに用いられる受光素子とを示し、さらにこの受光素子３に入射する光線束の照射によって形成される照射領域を、併せて示している。第１の従来技術に係る光ピックアップ装置では、光が集光されていない記録層からの復路光のうちの一部は、フォーカシングに用いられる受光領域４とトラッキングに用いられる受光領域５との両方に入射する。このように集光されていない記録層によって反射された後の復路光が受光素子３に入射すると、受光素子３からの出力に応じて行われるサーボが悪影響を受けるという問題点がある。

これを解決するために、第２の従来技術に係る光ピックアップ装置として、対物レンズに近い記録層に集光したときに、遠い側の記録層からの反射光を、フォーカスエラーに寄与する受光領域に、均一に入射させる光ピックアップ装置が知られる（たとえば特許文献１参照）。

また前記第１の従来技術における問題点を解決するために、第３の従来技術に係る光ピックアップ装置として、集光されていない非集光記録層からの復路光が、トラッキングサーボに寄与する受光領域には入射しない光ピックアップ装置が知られる。この光ピックアップ装置では、対物レンズ側の第１記録層に集光された状態において、非集光記録層すなわち対物レンズから遠い第２記録層で反射し回折素子で回折した復路光は、フォーカシングサーボに寄与する受光領域には入射し、トラッキングサーボに寄与する受光領域には入射しない。対物レンズから遠い第２記録層に集光された状態では、非集光記録層すなわち対物レンズ側の第１記録層で反射し、回折素子で回折した復路光は、対物レンズがラジアル方向に変位駆動されてもフォーカシングサーボに寄与する受光領域とトラッキングサーボに寄与する受光領域との両方に入射する（たとえば特許文献２参照）。

特開２００４−２８８２２７号公報 特開２００４−３０３２９６号公報

第１の従来技術では、集光されていない非集光記録層からの復路光は、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボの両方に悪影響を与えるという問題点があり、第２の従来技術では、非集光記録層からの復路光がフォーカシングサーボに寄与する受光領域において均一に入射したとしても、非集光記録層からの復路光によって、フォーカシングサーボに用いられる信号のＳＮ比（signal-to-noise ratio）が低下することを防止できないという問題点がある。

また第３の従来技術では、非集光記録層からの復路光が、フォーカシングサーボに寄与する受光領域に入射するので、非集光記録層からの復路光がフォーカシングサーボに影響することを防止することができないという問題点がある。

本発明の目的は、非集光記録層からの復路光によって、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボに用いられる信号のＳＮ比が低下することを防止し、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボが悪影響を受けることを抑制することのできる光ピックアップ装置を提供することである。

本発明は、光を出射する光源と、
光記録媒体に形成される予め定める記録層に対して、前記光源から出射された光を集光する対物レンズと、
光源から出射され、前記光記録媒体で反射された復路光を予め定める向きに回折させる複数の回折領域が形成される回折素子と、
フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボを行う制御部に接続され、受光した光強度に応じて出力を行う受光素子であって、
対物レンズによって光が集光された前記予め定める記録層からの復路光を受光する複数の受光領域として、光記録媒体に記録されている情報の読取りに利用される読取り受光領域と、フォーカシングサーボに利用されるフォーカシング受光領域と、トラッキングサーボに利用されるトラッキング受光領域とが形成され、
前記予め定める記録層とは異なる非集光記録層からの復路光のうち、前記フォーカシング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、前記トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
前記非集光記録層からの復路光のうち、前記トラッキング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＴＥＳ照射領域と、前記フォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
前記ＦＥＳ照射領域は、前記フォーカシング受光領域のうちの一部に重なって形成される受光素子と、を含み、
非集光記録層からの復路光のうち、前記回折素子を透過した０次光によって照射される受光素子上の中央照射領域は、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域とは異なる位置において、円形に形成され、
前記受光素子上の、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、前記中央照射領域の周囲の、前記中央照射領域と同心円を成す円周上において、前記中央照射領域を囲んで配置され、
前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域に照射される光線束は、前記回折素子で回折した±１次光のいずれか一方であり、
前記回折素子のホログラムパターンと前記受光素子の受光面とは互いに平行であり、
前記回折素子のホログラムパターンに垂直な方向に見たときに、該ホログラムパターンの中心と前記受光素子の受光面の中心とは互いに一致することを特徴とする光ピックアップ装置である。

また本発明は、光を出射する光源と、
光記録媒体に形成される予め定める記録層に対して、前記光源から出射された光を集光する対物レンズと、
光源から出射され、前記光記録媒体で反射された復路光を予め定める向きに回折させる複数の回折領域が形成される回折素子と、
フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボを行う制御部に接続され、受光した光強度に応じて出力を行う受光素子であって、
対物レンズによって光が集光された前記予め定める記録層からの復路光を受光する複数の受光領域として、光記録媒体に記録されている情報の読取りに利用される読取り受光領域と、フォーカシングサーボに利用されるフォーカシング受光領域と、トラッキングサーボに利用されるトラッキング受光領域とが形成され、
前記予め定める記録層とは異なる非集光記録層からの復路光のうち、前記フォーカシング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、前記トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
前記非集光記録層からの復路光のうち、前記トラッキング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＴＥＳ照射領域と、前記フォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
前記ＴＥＳ照射領域は、前記トラッキング受光領域のうちの一部に重なって形成される受光素子と、を含み、
非集光記録層からの復路光のうち、前記回折素子を透過した０次光によって照射される受光素子上の中央照射領域は、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域とは異なる位置において、円形に形成され、
前記受光素子上の、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、前記中央照射領域の周囲の、前記中央照射領域と同心円を成す円周上において、前記中央照射領域を囲んで配置され、
前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域に照射される光線束は、前記回折素子で回折した±１次光のいずれか一方であり、
前記回折素子のホログラムパターンと前記受光素子の受光面とは互いに平行であり、
前記回折素子のホログラムパターンに垂直な方向に見たときに、該ホログラムパターンの中心と前記受光素子の受光面の中心とは互いに一致することを特徴とする光ピックアップ装置である。

また本発明は、各回折領域からの±１次光を受光する複数の受光領域は、受光素子上において、前記中央照射領域の中心点に関して点対称の位置に配置されることを特徴とする。

また本発明は、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、複数の補助領域を含み、
集光記録層からの復路光が入射する領域は、前記補助領域とは異なる位置に配置されることを特徴とする。

また本発明は、前記光源は、複数設けられ、互いに波長の異なる複数種類の光を、それぞれ単独に出射可能であることを特徴とする。

本発明によれば、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成される。ＦＥＳ照射領域は、フォーカシング受光領域のうちの一部に重なって形成される。これによって、非集光記録層からの復路光のうち、フォーカシング受光領域に入射する光線束は、トラッキング受光領域には入射しない。同様に、トラッキング受光領域に入射する光線束は、フォーカシング受光領域には入射しない。これによって、フォーカシング受光領域に入射する復路光に含まれる、正常な制御を攪乱する攪乱要因を１つに限定することができる。また非集光記録層からフォーカシング受光領域に入射する復路光は、フォーカシング受光領域のうちの一部に入射するので、非集光記録層からの光強度を求めることができる。これによって、フォーカシング受光領域に入射する非集光記録層からの復路光に変動がある場合にも、フォーカシング受光領域に入射する復路光の光強度に基づいて、非集光記録層の影響を排除することができる。したがって、非集光記録層からの復路光によって、フォーカシングサーボに用いられる信号のＳＮ比が低下することを防止することができる。

また本発明によれば、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成される。ＴＥＳ照射領域は、トラッキング受光領域のうちの一部に重なって形成される。これによって、非集光記録層からの復路光のうち、フォーカシング受光領域に入射する光線束は、トラッキング受光領域には入射しない。同様に、トラッキング受光領域に入射する光線束は、フォーカシング受光領域には入射しない。これによって、トラッキング受光領域に入射する復路光に含まれる、正常な制御を攪乱する攪乱要因を１つに限定することができる。また非集光記録層からトラッキング受光領域に入射する復路光は、トラッキング受光領域のうちの一部に入射するので、非集光記録層からの光強度を求めることができる。これによって、トラッキング受光領域に入射する非集光記録層からの復路光に変動がある場合にも、トラッキング受光領域に入射する復路光の光強度に基づいて、非集光記録層の影響を排除することができる。したがって、非集光記録層からの復路光によって、トラッキングサーボに用いられる信号のＳＮ比が低下することを防止することができる。

本発明の一実施形態における受光素子１６の平面図である。 本発明の一実施形態に係る光ピックアップ装置１０の構成を表す図である。 本発明の一実施形態において、回折素子１４に形成されるホログラムパターン４９の平面図である。 本発明の一実施形態における各回折領域と各受光領域との対応関係を示す図である。 本発明の一実施形態において、浅い記録層８７が集光された第１集光状態における復路光の光線束を表す側面図である。 本発明の一実施形態において、深い記録層８８が集光された第２集光状態における光線束を表す側面図である。 本発明の一実施形態において、第１集光状態で回折素子１４および受光素子１６に入射する非集光記録層２２からの復路光のスポットを表す平面図である。 本発明の一実施形態において、第２集光状態で回折素子１４および受光素子１６に入射する非集光記録層２２からの復路光のスポット径を表している。 光記録媒体に形成される複数の記録層１に、対物レンズ２を透過した光が集光される様子を表す側面図である。 第１の従来技術に係る光ピックアップ装置における受光素子３の平面図である。

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態について説明する。以下に示す実施形態は、本発明に係る技術を具体化するために例示するものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。本発明に係る技術内容は、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内において、種々の変更を加えることが可能である。

図１は、本発明の一実施形態における受光素子１６の平面図である。図２は、本発明の一実施形態に係る光ピックアップ装置１０の構成を表す図である。本実施形態に係る光ピックアップ装置１０は、たとえばＣＤ、ＤＶＤ、ＢＤなどの光学記録媒体１１に対して、光の出射および受光を行う装置で、情報処理装置に搭載される。情報処理装置は、光記録媒体１１に対して、情報の記録、再生、消去、および書換えの少なくともいずれか１つの処理を行う。

光ピックアップ装置１０は、光源１２と、対物レンズ１３と、回折素子１４と、受光素子１６とを含んで構成される。光源１２は、光を出射する。対物レンズ１３は、予め定める記録層２１に対して、光源１２から出射された光を集光する。予め定める記録層２１は、光記録媒体１１に形成される。回折素子１４には、複数の回折領域が形成される。複数の回折領域は、光源１２から出射され光記録媒体１１で反射された復路光１８を予め定める向きに回折させる。受光素子１６は、フォーカシングおよびトラッキングサーボを行う制御部に接続され、受光した光強度に応じて出力を行う。受光素子１６には、対物レンズ１３によって光が集光された予め定める記録層２１からの復路光１８を受光する複数の受光領域として、読取り受光領域２４と、フォーカシング受光領域と、トラッキング受光領域とが形成される。読取り受光領域２４は、光記録媒体１１に記録されている情報の読取りに利用され、フォーカシング受光領域は、フォーカシングサーボに利用される。トラッキング受光領域は、トラッキングサーボに利用される。

受光素子１６上のＦＥＳ照射領域２８と、トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成される。受光素子１６上のＦＥＳ照射領域２８には、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、フォーカシング受光領域に向けて回折した光線束が照射される。非集光記録層２２は、予め定める記録層２１とは異なる記録層である。受光素子１６上のＴＥＳ照射領域３２と、読取り受光領域２４およびフォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に形成される。受光素子１６上のＴＥＳ照射領域３２には、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、トラッキング受光領域に向けて回折した光線束が照射される。ＦＥＳ照射領域２８は、フォーカシング受光領域のうちの一部に重なって形成される。ＴＥＳ照射領域３２は、トラッキング受光領域のうちの一部に重なって形成される。

本実施形態において光源１２は、半導体レーザであり、情報の少なくとも読取りおよび再生の対象とする光記録媒体１１の種類に応じた波長の光を出射する。たとえば光記録媒体１１がブルーレイディスク（blu-ray disk, 略称「ＢＤ」）である場合には、波長が４０５ナノメートル（nanometers, 略号「ｎｍ」）付近である青紫色の光を出射する。１つの光ピックアップ装置１０に光源１２は複数設けられてもよいけれども、本実施形態では、１つとする。光源１２は、予め定める向きに大部分の光を出射するとともに、予め定める向きとは逆の、背後の向きに、わずかに光を出射する。光源１２に関して予め定める光の出射の向きを「出射方向一方」と称することがある。

光ピックアップ装置１０には、光出力モニタ用受光素子３３が設けられる。光出力モニタ用受光素子３３は、光源１２の背後の向きに出射される光を受光し、受光した光強度に応じて出力を行う。光出力モニタ用受光素子３３からの出力は、図示外の光出力制御部による光源１２印加部の制御に用いられる。光出力制御部は、光出力モニタ用受光素子３３からの出力を受けて、その出力に応じて光源１２印加部を制御する。光出力制御部の制御によって、光源１２印加部は、光源１２に対して調整された電圧値の電圧を印加する。光源１２印加部による光源１２に対する電圧の印加によって、光源１２は、予め定める波長の光を出射する。

光ピックアップ装置１０には、鏡板３４とプリズム素子３６とが設けられる。鏡板３４は、光源１２よりも出射方向一方に配置され、光源１２から出射された光を光記録媒体１１に向けて反射する。プリズム素子３６は、光記録媒体１１に照射され光記録媒体１１の記録面で反射された後の復路光１８を、回折素子１４に導く。鏡板３４、プリズム素子３６および回折素子１４は、光源１２と対物レンズ１３との間の光路途中に配置され、これらのうちプリズム素子３６および回折素子１４は、保護カバー４２に固定される。回折素子１４は、プリズム素子３６よりも光源１２に近い側に配置される。

プリズム素子３６は、偏光ビームスプリッタ３８と反射膜３９とを含み、一体に形成される。偏光ビームスプリッタ３８は、光源１２からのＰ偏光をほぼ１００％透過し、偏向角がＰ偏光とは直交するＳ偏光をほぼ１００％反射する。偏光ビームスプリッタ３８には、偏光分離膜が形成され、偏光分離膜は、プリズム素子３６が配置される位置における光路の方向に対して角度を成して配置される。これによって、復路光１８が光源１２に入射することを防止し、かつ復路光１８の進行の向きを変更する。反射膜３９は、偏光分離膜によって反射された復路光１８をさらに反射し、これによって復路光１８の進路を回折素子１４および受光素子１６に向かう進路に変更する。回折素子１４および受光素子１６は、プリズム素子３６よりも後述するステム４４側に配置されるので、反射膜３９は、復路光１８の進路をステム４４側に向ける。

光ピックアップ装置１０には、さらに保護カバー４２と、ステム４４と、リードピン４６とが設けられる。保護カバー４２は、ステム４４とともに光源１２、鏡板３４、光出力モニタ用受光素子３３、および受光素子１６を外囲する。保護カバー４２には、回折素子１４と、プリズム素子３６とが固定される。これによって、光源１２など保護カバー４２に外囲される複数の素子と光路途中に配置される回折素子１４およびプリズム素子３６との相対的な位置関係は、固定される。リードピン４６は複数設けられ、ステム４４に形成される複数の貫通孔にそれぞれ嵌合して配置される。リードピン４６は、光源１２、受光素子１６、サーボなどを行う制御部、光出力モニタ用受光素子３３、図示外の光出力制御部、光源１２印加部などを互いに接続し、電力供給路または信号伝送路の少なくとも一部を形成する。

プリズム素子３６と対物レンズ１３との間には、コリメートレンズ４８がさらに設けられる。コリメートレンズ４８は、プリズム素子３６を透過して光源１２から光記録媒体１１に向かう光線束を、平行光とするレンズであり、コリメートレンズ４８を光記録媒体１１に向けて透過した後の平行光は、対物レンズ１３に入射する。対物レンズ１３は、光記録媒体１１に設けられ複数の記録層のうち、いずれか一方に光を集光する。複数の光記録媒体１１のいずれに光を集光させるかという択一的な選択は、対物レンズ１３の光源１２に対する位置を変化させることによって、行われる。またコリメートレンズ４８には、光記録媒体１１からの復路光１８も入射する。光記録媒体１１の記録面に形成される複数の記録層のうち、対物レンズ１３によって光源１２からの往路光が集光される記録層を、「集光記録層」（２１）と称し、集光記録層２１を除く他の記録層を「非集光記録層」（２２）と称する。

本実施形態において、回折素子１４のホログラムパターン４９と、受光素子１６の受光面５１とは互いに平行に配置され、これらに垂直な方向から見たときに、ホログラムパターン４９の中心と、受光面５１の中心とは、仮想共通軸線上に位置する。仮想共通軸線は、ホログラムパターン４９および受光面５１に垂直に、かつホログラムパターン４９および受光面５１の中心を通る仮想的な軸線である。ホログラムパターン４９および受光面５１に垂直な方向を、「垂直方向」（Ｚ）と称することがある。

図３は、本発明の一実施形態において、回折素子１４に形成されるホログラムパターン４９の平面図である。回折素子１４に形成されるホログラムパターン４９は、１または複数の分割線によって複数の回折領域に分割される。図３において、光ピックアップが走査する光記録媒体１１の半径方向に対応する方向を、左右方向として表し、光ピックアップ装置１０が走査する位置におけるトラックの接線方向に対応する方向を、上下方向として表す。以下、光記録媒体１１の半径方向およびこれに対応する回折素子１４上の方向を「ラジアル方向」（Ｘ）と称し、ラジアル方向Ｘに直交し、光ピックアップ装置１０が走査する位置におけるトラックの接線方向と、これに対応する回折素子１４上の方向とを「タンジェンシャル方向」（Ｙ）と称する。

回折素子１４は平板状に形成され、その厚み方向に見てのホログラムパターン４９は、円形に形成される。ホログラムパターン４９には、円の中心を通りラジアル方向Ｘに延びる第１分割線６８が形成され、第１分割線６８よりもタンジェンシャル方向一方Ｙ１の領域は、半円形の第１回折領域６１として形成される。またホログラムパターン４９には、円の中心からタンジェンシャル方向他方Ｙ２に延びて円周にまで達する第２分割線６９が形成される。第２分割線６９の途中位置には、第２分割線６９と直交し、円周から円周にまで達する弦として、第３分割線７０が形成される。ホログラムパターン４９は、第１〜第３分割線７０によって、５つの回折領域に分割される。

半円形の第１回折領域６１のタンジェンシャル方向他方Ｙ２に隣接する２つの回折領域のうち、図３において右として表すラジアル方向一方Ｘ１の回折領域を「第２回折領域」（６２）と称し、ラジアル方向他方Ｘ２の回折領域を「第３回折領域」（６３）と称する。第２回折領域６２のタンジェンシャル方向他方Ｙ２に隣接し、大略的に扇形を成す回折領域を「第４回折領域」（６４）と称し、第３回折領域６３のタンジェンシャル方向他方Ｙ２に隣接し、大略的に扇形を成す回折領域を「第５回折領域」（６５）と称する。

図１に示すように、受光素子１６の受光面５１には複数の受光領域が形成される。中央照射領域６６は、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域とは異なる位置に形成される。中央照射領域６６は、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、回折素子１４を透過した０次光によって照射される。フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域に照射される光線束は、回折素子１４で回折した±１次光のいずれか一方である。受光素子１６上のフォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域は、中央照射領域６６の周囲に、中央照射領域６６を囲んで配置される。

中央照射領域６６は、円形に形成される。フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域は、中央照射領域６６と同心円を成す円周上に配置される。各回折領域からの±１次光を受光する複数の受光領域は、受光素子１６上において中央照射領域６６の中心点６７に関して点対称の位置に配置される。フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域の少なくともいずれか一方は、受光領域のうち集光記録層２１からの復路光１８が入射する主領域５５と、主領域５５とは異なる位置に設けられる複数の補助領域５６とを含むので、集光記録層２１からの復路光は補助領域５６には、入射しない。

垂直方向Ｚに見たときの受光面５１の中心には、第１受光領域７１が配置され、第１受光領域７１のラジアル方向一方Ｘ１には第２受光領域７２が形成される。第２受光領域７２のタンジェンシャル方向Ｙ両側には、第２受光領域７２に近接して、２つの第３受光領域７３が形成される。第１受光領域７１のラジアル方向他方Ｘ２には、第４受光領域７４が形成される。第２〜第４受光領域７４は、仮想軸線を中心とする仮想的な仮想円８６の円周上に配置される。具体的には、第２〜第４受光領域７４の各受光領域は、仮想円８６の円周に一部でもかかる姿勢で配置される。したがって、第２〜第４受光領域７４は、第１受光領域７１からほぼ等距離の位置に配置される。

受光面５１上に形成される複数の受光領域のうち、第１受光領域７１を除く残余の複数の受光領域は、前記仮想円８６の円周上に並んで配置される。これらのうち第５および第６受光領域７６は、第１受光領域７１よりもラジアル方向一方Ｘ１かつタンジェンシャル他方に配置される。仮想円８６の周方向のうち、垂直方向Ｚに受光素子１６を見たときに、仮想軸線まわりに時計回りに向かう向きを「周方向一方」称し、仮想円８６の周方向のうち、周方向一方と反対の向きを「周方向他方」と称する。第２および第３受光領域７３から周方向一方に向かうと、第２および第３受光領域７３に近い順に第５受光領域７５と第６受光領域７６とが並ぶ。

受光面５１上に形成される複数の受光領域のうち、第７および第８受光領域７８は、第１受光領域７１よりもラジアル方向他方Ｘ２かつタンジェンシャル他方に配置される。第６受光領域７６から周方向一方に向かうと、第６受光領域７６に近い順に第７受光領域７７と第８受光領域７８とが並ぶ。

受光面５１上に形成される複数の受光領域のうち、第９および第１０受光領域８０は、第１受光領域７１よりもラジアル方向他方Ｘ２かつタンジェンシャル一方に配置される。第４受光領域７４から周方向一方に向かうと、第４受光領域７４に近い順に第９受光領域７９と第１０受光領域８０とが並ぶ。受光面５１上に形成される複数の受光領域のうち、第１１および第１２受光領域８２は、第１受光領域７１よりもラジアル方向一方Ｘ１かつタンジェンシャル一方に配置される。第１０受光領域８０から周方向一方に向かうと、第１０受光領域８０に近い順に第１１受光領域８１と第１２受光領域８２とが並ぶ。

第２受光領域７２は、仮想円８６の中心点６７からラジアル方向Ｘに延びる直線によってさらに２つの領域に分割され、この２つの領域は、互いに同じ形状および同じ大きさに形成される。また第５、第６、第１１および第１２受光領域８２は、それぞれさらに３つの領域に分割される。第５、第６、第１１および第１２受光領域８２を分割する線は、およそ仮想軸線の半径方向に一致し、それぞれの受光領域を分割する２本の分割線は、互いに平行に形成される。第５、第６、第１１および第１２受光領域８２に形成される３つの領域のうち、中央の領域を、「主領域」（５５）と称し、主領域５５の両側の２つの領域を「補助領域」（５６）と称する。

図４は、本発明の一実施形態における各回折領域と各受光領域との対応関係を示す図である。図４には、集光記録層２１からの復路光１８について図示しており、複数の記録層のうち対物レンズ１３側の浅い記録層８７に往路光が集光される場合にも、対物レンズ１３から遠い、深い記録層８８に往路光が集光される場合にも、図４に示すような同じ状態となる。

光記録媒体１１の記録面で反射された後の復路光１８が回折素子１４のホログラムパターン４９に入射すると、各回折領域によって０次光と＋１次光と−１次光とに分割される。０次光は、回折素子１４に入射し、光の進行方向が変更されることなく直線的に回折領域を通過する光である。＋１次光と−１次光を含めて「±１次光」と称する。±１次光は、各回折領域に形成される複数の微細溝によって、微細溝に平行な直線まわりに進行方向が変化するので、受光素子１６上においては、微細溝の方向に対応する方向とは垂直な方向に離れる２つの照射領域を形成する。第１回折領域６１に形成される微細溝は、第１分割線６８に垂直に形成される。

集光記録層２１からの復路光１８は、０次光も±１次光も、受光素子１６の受光面５１において小さな点として集光される。集光記録層２１からの０次光は、第１〜第５回折領域６５のいずれを通過した光も、第１受光領域７１に入射する。第１回折領域６１によって回折した後の＋１次光は、第２受光領域７２に入射する。第１回折領域６１によって回折した後の−１次光は、第４受光領域７４に入射する。

第２回折領域６２によって回折した後の＋１次光は、第１２受光領域８２に入射し、−１次光は、第８受光領域７８に入射する。第３回折領域６３によって回折した後の＋１次光は、第５受光領域７５に入射し−１次光は、第９受光領域７９に入射する。第４回折領域６４によって回折した後の＋１次光は、第１１受光領域８１に入射し、−１次光は、第７受光領域７７に入射する。第５回折領域６５によって回折した＋１次光は、第６受光領域７６に入射し、−１次光は、第１０受光領域８０に入射する。

＋１次光および−１次光は、進行の向きが互いに異なるけれども、それぞれを特徴付ける物理的性質は同じであるので、互いに名称を交換し、それぞれ−１次光および＋１次光と称することも可能である。本実施形態では、それぞれの受光領域に入射する向きに応じて、前述のように区別して称することとする。

第２受光領域７２をさらに２つの領域に分割する分割線は、第１回折領域６１の第１分割線６８側の端に対応して配置されており、これによって、ナイフエッジ法によるフォーカシングサーボを行うことが可能となる。第２受光領域７２に形成される２つの領域からの出力信号を、それぞれ「Ｓａ」および「Ｓｂ」とすると、フォーカスエラー信号ＦＥＳは、
ＦＥＳ＝Ｓａ−Ｓｂ …（１）
と表される。

第１２受光領域８２と第８受光領域７８とには、第２回折領域６２からの±１次光が入射する。第１２受光領域８２と第８受光領域７８とからの出力信号の合計を「Ｓｃ」とする。第５受光領域７５と第９受光領域７９とには、第３回折領域６３からの±１次光が入射する。第５受光領域７５と第９受光領域７９とからの出力信号の合計を「Ｓｄ」とする。さらに第１受光領域７１からの出力信号を「Ｓ０」とし、第４受光領域７４からの出力信号を「Ｓｇ」とする。

第１１受光領域８１と第７受光領域７７とには、第４回折領域６４からの±１次光が入射する。第１１受光領域８１と第７受光領域７７とからの出力信号の合計を「Ｓｅ」とする。第６受光領域７６と第１０受光領域８０とには、第５回折領域６５からの±１次光が入射する。第６受光領域７６と第１０受光領域８０とからの出力信号の合計を「Ｓｆ」とする。

トラッキングエラー信号を位相差法（differential phase detection）によって算出する場合には、トラッキングエラー信号ＤＰＤは、
ＤＰＤ＝Ｓｃ−Ｓｄ …（２）
と表される。

トラッキングエラー信号を差動プッシュプル法（differential push pull）によって算出する場合には、トラッキングエラー信号ＤＰＰは、
ＤＰＰ＝（Ｓｃ−Ｓｄ）−ｋ（Ｓｅ−Ｓｆ） …（３）
と表される。

式（３）において「ｋ」は、「メインプッシュプル」とも呼ばれる（Ｓｃ−Ｓｄ）の値と、「サブプッシュプル」とも呼ばれる（Ｓｅ−Ｓｆ）の値との規模の差を補正するための係数であり、これらの光強度の比である。この係数「ｋ」を乗ずることによって、対物レンズ１３のシフト、光記録媒体１１の傾動などによる信号のオフセットをキャンセルすることができる。したがって、第２受光領域７２はフォーカシング受光領域であり、第５〜第１２受光領域８２は、トラッキング受光領域である。

光記録媒体１１の記録層に記録される情報を再生するための再生信号ＲＦは、
ＲＦ＝Ｓａ＋Ｓｂ＋Ｓｃ＋Ｓｄ …（４）
によって求めることもでき、また、
ＲＦ＝Ｓａ＋Ｓｂ＋Ｓｃ＋Ｓｅ＋Ｓ０ …（５）
によって求めることもでき、また、
ＲＦ＝Ｓａ＋Ｓｂ＋Ｓｃ＋Ｓｅ＋Ｓ０＋Ｓｇ …（６）
によって求めることもできる。

本実施形態では、式（６）によって求めるものとした。出力信号「Ｓ０」および「Ｓｇ」をも再生信号ＲＦの算出に利用することによって、安定した再生を行うことができる。したがって、第２および第４〜第１２受光領域８２は、トラッキング受光領域である。

以下、対物レンズ１３によって光が集光されていない非集光記録層２２からの復路光１８について、光記録媒体１１における記録層が、２つ形成される場合を一例として説明する。対物レンズ１３によって、対物レンズ１３側の浅い記録層８７に集光されている場合を「第１集光状態」と称し、対物レンズ１３から遠い、深い記録層８８に集光されている場合を「第２集光状態」と称する。第１集光状態では、浅い記録層８７が前記予め定める記録層２１、すなわち集光記録層２１となる。このとき深い記録層８８は、非集光記録層２２となる。第２集光状態では、深い記録層８８が前記予め定める記録層２１、すなわち集光記録層２１となる。このとき浅い記録層８７は、非集光記録層２２となる。

図５は、本発明の一実施形態において、浅い記録層８７が集光された第１集光状態における復路光の光線束を表す側面図である。図５（ａ）は、浅い記録層８７浅い記録層８７、すなわち集光記録層２１からの復路光１８を表しており、図５（ｂ）は、深い記録層８８、すなわち非集光記録層２２からの復路光１８を表している。図６は、本発明の一実施形態において、深い記録層８８が集光された第２集光状態における光線束を表す側面図である。図６（ａ）は、深い記録層８８、すなわち集光記録層２１からの復路光１８を表しており、図６（ｂ）は、浅い記録層８７、すなわち非集光記録層２２からの復路光１８を表している。

集光記録層２１からの復路光１８が回折素子１４のホログラムパターン４９に入射するスポット径は、第１および第２集光状態において、ともに等しい。図５（ａ）および図６（ａ）に示すように、集光記録層２１からの復路光１８は、受光素子１６の受光面５１上において、第１および第２集光状態で、ともに小さな点として集光される。

図５（ｂ）に示すように、第１集光状態では、非集光記録層２２からの復路光１８は、受光素子１６よりも対物レンズ１３側で焦点を結び、受光素子１６の受光面５１上への照射によって形成される照射領域は、０次光および±１次光いずれについても点ではなく大きな照射範囲として形成される。第１集光状態においてホログラムパターン４９に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径は、集光記録層２１からの復路光１８のスポット径に比べて小さくなる。

図６（ｂ）に示すように、第２集光状態では、非集光記録層２２からの復路光１８は、受光素子１６よりも対物レンズ１３から遠い側で焦点を結ぶ拡散度をもって受光面５１に入射する。これによって受光素子１６の受光面５１上への照射によって形成される照射領域は、０次光および±１次光いずれについても点ではなく大きな照射範囲として形成される。第２集光状態においてホログラムパターン４９に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径は、集光記録層２１からの復路光１８のスポット径に比べて大きくなる。

図７は、本発明の一実施形態において、第１集光状態で回折素子１４および受光素子１６に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポットを表す平面図である。図７（ａ）は、ホログラムパターン４９に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径を表しており、図７（ｂ）は、受光面５１上に形成される、非集光記録層２２からの復路光１８による各照射領域を表している。図７（ｂ）に示すように、ホログラムパターン４９を通過した０次光は、第１受光領域７１を中心として円形の照射領域を形成し、第１受光領域７１に入射する。この０次光の照射領域を「中央照射領域」（６６）と称する。

複数の受光領域のうち、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボに利用される受光領域は、円形の中央照射領域とは異なる位置に配置され、０次光が入射することはない。第１回折領域６１で回折した＋１次光は、第２受光領域７２に向けて進み第２受光領域７２の一部に重なる照射領域を形成する。第１回折領域６１で回折した−１次光は、第４受光領域７４に向けて進み第４受光領域７４の一部に重なる照射領域を形成する。

第２回折領域６２で回折した＋１次光は、第５受光領域７５に向けて進み第５受光領域７５の一部に重なる照射領域を形成する。第２回折領域６２で回折した−１次光は、第９受光領域７９に向けて進み第９受光領域７９の一部に重なる照射領域を形成する。第３回折領域６３で回折した＋１次光は、第１２受光領域８２に向けて進み第１２受光領域８２の一部に重なる照射領域を形成する。第３回折領域６３で回折した−１次光は、第８受光領域７８に向けて進み第８受光領域７８の一部に重なる照射領域を形成する。

第５および第１２受光領域８２には、３つの領域が形成されており、第５および第１２受光領域８２に向かって進む回折光は、主領域５５と、２つのうち少なくともいずれか一方の補助領域５６とに入射する。これによって、補助領域５６からの出力信号から、第５および第１２受光領域８２のそれぞれに入射する回折光の光強度を算出することができる。また第２回折領域６２および第３回折領域６３からの±１次光の光強度は、第５および第１２受光領域８２の各主領域５５と第８および第９受光領域７９とからの出力信号にも基づいて、算出することができる。したがって、算出結果に応じて非集光記録層２２からの復路光１８の影響をキャンセルし、排除することができる。第１集光状態では、ホログラムパターン４９に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径は小さいので、第４および第５回折領域６５には、非集光記録層２２からの復路光１８の入射がない。

図８は、本発明の一実施形態において、第２集光状態で回折素子１４および受光素子１６に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径を表している。図８（ａ）は、ホログラムパターン４９に入射する非集光記録層２２からの復路光１８のスポット径を表しており、図８（ｂ）は、受光面５１上に形成される、非集光記録層２２からの復路光１８による各照射領域を表している。図８（ｂ）に示すように、ホログラムパターン４９を通過した０次光は、第１受光領域７１を中心として円形の照射領域を形成し、第１受光領域７１に入射する。この０次光の照射領域を、第２集光状態においても「中央照射領域」（６６）と称することとする。

複数の受光領域のうち、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボに利用される受光領域は、円形の中央照射領域６６とは異なる位置に配置され、０次光が入射することはない。第１回折領域６１で回折した＋１次光は、第２受光領域７２に向けて進み第２受光領域７２の一部に重なる照射領域を形成する。第１回折領域６１で回折した−１次光は、第４受光領域７４に向けて進み第４受光領域７４の一部に重なる照射領域を形成する。

第２回折領域６２で回折した＋１次光は、第５受光領域７５に向けて進み第５受光領域７５の一部に重なる照射領域を形成する。第２回折領域６２で回折した−１次光は、第９受光領域７９に向けて進み第９受光領域７９の一部に重なる照射領域を形成する。第３回折領域６３で回折した＋１次光は、第１２受光領域８２に向けて進み第１２受光領域８２の一部に重なる照射領域を形成する。第３回折領域６３で回折した−１次光は、第８受光領域７８に向けて進み第８受光領域７８の一部に重なる照射領域を形成する。

第２集光状態では、第４回折領域６４で回折した＋１次光は、第６受光領域７６に向けて進み、第６受光領域７６の一部に重なる照射領域を形成する。第４回折領域６４で回折した−１次光は、第１０受光領域８０に向けて進み、第１０受光領域８０の一部に重なる照射領域を形成する。第５回折領域６５で回折した＋１次光は、第１１受光領域８１に向けて進み、第１１受光領域８１の一部に重なる照射領域を形成する。第４回折領域６４で回折した−１次光は、第７受光領域７７に向けて進み、第７受光領域７７の一部に重なる照射領域を形成する。

第５、第６、第１１および第１２受光領域８２には、３つの領域が形成されており、第５、第６、第１１および第１２受光領域８２に向かって進む回折光は、主領域５５と、２つのうち少なくともいずれか一方の補助領域５６とに入射する。これによって、補助領域５６からの出力信号から、第５、第６、第１１および第１２受光領域８２のそれぞれに入射する回折光の光強度を算出することができる。また第２〜第４回折領域６４からの±１次光の光強度は、第５、第６、第１１および第１２受光領域８２の各主領域５５からの出力信号と、第７、第８、第９および第１０受光領域８０からの出力信号とに基づいて、算出することができる。したがって、算出結果に応じて非集光記録層２２からの復路光１８の影響をキャンセルし、排除することができる。

第５、第６、第１１、第１２受光領域８２のうち、各主領域５５からの出力信号をそれぞれ「Ｓｃａ」、「Ｓｅａ」、「Ｓｆａ」、「Ｓｄａ」とし、それぞれの受光領域に形成される２つの補助領域５６のうち一方からの出力信号を、それぞれ「Ｓｃｂ」、「Ｓｅｂ」、「Ｓｆｂ」、「Ｓｄｂ」とし、それぞれの受光領域に形成される２つの補助領域５６のうち他方からの出力信号を、それぞれ「Ｓｃｃ」、「Ｓｅｃ」、「Ｓｆｃ」、「Ｓｄｃ」とする。また第７、第８、第９、第１０受光領域８０から出力される出力信号をそれぞれ「Ｓｆｉ」、「Ｓｄｉ」、「Ｓｃｉ」、「Ｓｅｉ」とすると、これによって第２、第３、第４および第５回折領域６５によって回折した回折光の光強度「Ｏｃ」、「Ｏｄ」、「Ｏｅ」、「Ｏｆ」、は、
Ｏｃ＝Ｓｃａ＋Ｓｃｉ−α（Ｓｃｂ＋Ｓｃｃ） …（７）
Ｏｄ＝Ｓｄａ＋Ｓｄｉ−α（Ｓｄｂ＋Ｓｄｃ） …（８）
Ｏｅ＝Ｓｅａ＋Ｓｅｉ−α（Ｓｅｂ＋Ｓｅｃ） …（９）
Ｏｆ＝Ｓｆａ＋Ｓｆｉ−α（Ｓｆｂ＋Ｓｆｃ） …（10）
と表すことができる。αは、主領域５５および補助領域５６における回路ゲインであり、実験によって予め設定しておくことによって、非集光記録層２２からの復路光１８の光強度を求めることができる。

補助領域５６に入射する非集光記録層２２からの復路光は、必ずしも一定せず、光強度および入射位置に変動がある場合も考えることはできる。実験の結果から回路ゲインαを決定するときには、平均的に最も非集光記録層２２からの復路光による影響を相殺しやすい値として決定される。これによって、仮に非集光記録層２２からの復路光の光強度および入射位置に変動があっても、平均的には効率よく非集光記録層２２からの復路光の影響を排除することができる。

したがって、フォーカシング受光領域として機能する第２受光領域７２に入射する第１回折領域６１の＋１次光による照射領域が、ＦＥＳ照射領域２８であり、トラッキング受光領域として機能する第５〜第１２受光領域８２に入射する第２〜第５回折領域６５の±１次光によって照射される照射領域が、ＴＥＳ照射領域３２である。本実施形態において中央照射領域６６は、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、第１〜第５回折領域６５を透過した０次光が照射される照射領域である。

光記録媒体１１の複数の記録層によって、繰返し反射された多重反射光についても、図８と同様に、０次光はフォーカシングサーボに用いられる受光領域には入射せず、±１次光についても、図８についての説明と同様の機構によって、キャンセルすることができる。このように、多重反射光に対してもフォーカシングサーボおよびトラッキングサーボに対する影響を排除することができる。また光記録媒体１１の記録面の表面部として形成される保護膜の表面が反射面として機能する場合には、この保護膜も、非集光記録層２２としてその反射光を処理することができる。ただし、保護膜からの反射光の光強度は弱く、問題となることは少ない。

本実施形態によれば、受光素子１６上のＦＥＳ照射領域２８と、トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に配置される。受光素子１６上のＴＥＳ照射領域３２と、読取り受光領域２４およびフォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に配置される。ＦＥＳ照射領域２８は、フォーカシング受光領域のうちの一部に重なって配置される。これによって、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、フォーカシング受光領域に入射する光線束は、トラッキング受光領域には入射しない。同様に、トラッキング受光領域に入射する光線束は、フォーカシング受光領域には入射しない。これによって、フォーカシング受光領域に入射する復路光１８に含まれる、正常な制御を攪乱する攪乱要因を１つに限定することができる。

また非集光記録層２２からフォーカシング受光領域に入射する復路光１８は、フォーカシング受光領域のうちの一部に入射するので、非集光記録層２２からの光強度を求めることができる。これによって、フォーカシング受光領域に入射する非集光記録層２２からの復路光１８に変動がある場合にも、フォーカシング受光領域に入射する復路光１８の光強度に基づいて、非集光記録層２２の影響を排除することができる。したがって、非集光記録層２２からの復路光１８によって、フォーカシングサーボに用いられる信号のＳＮ比が低下することを防止することができる。

また本実施形態によれば、ＴＥＳ照射領域３２は、トラッキング受光領域のうちの一部に重なって配置される。これによって、非集光記録層２２からの復路光１８のうち、フォーカシング受光領域に入射する光線束は、トラッキング受光領域には入射しない。同様に、トラッキング受光領域に入射する光線束は、フォーカシング受光領域には入射しない。これによって、トラッキング受光領域に入射する復路光１８に含まれる、正常な制御を攪乱する攪乱要因を１つに限定することができる。

また非集光記録層２２からトラッキング受光領域に入射する復路光１８は、トラッキング受光領域のうちの一部に入射するので、非集光記録層２２からの光強度を求めることができる。これによって、トラッキング受光領域に入射する非集光記録層２２からの復路光１８に変動がある場合にも、トラッキング受光領域に入射する復路光１８の光強度に基づいて、非集光記録層２２の影響を排除することができる。したがって、非集光記録層２２からの復路光１８によって、トラッキングサーボに用いられる信号のＳＮ比が低下することを防止することができる。

また本実施形態によれば、中央照射領域６６は、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域とは異なる位置に形成される。フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域に照射される光線束は、回折素子１４で回折した±１次光のいずれか一方である。これによって、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域に０次光が入射することを防止することができる。０次光は、±１次光のいずれか一方に比べて、光強度が強いので、０次光の入射を防止することによって、フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボに対する復路光１８の影響を抑制することができる。

また本実施形態によれば、受光素子１６上のフォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域は、中央照射領域６６の周囲に、中央照射領域６６を囲んで配置される。これによって、受光素子１６の受光面５１を小さく設定することが可能となる。０次光は、複数の回折領域で回折することなく透過するので、まとまりのある中央照射領域６６を形成する。したがって、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域を、たとえば直線的に配置する場合に比べて、中央照射領域６６の近傍に集約して配置することが可能となる。したがって、受光素子１６が占める空間的領域を小さく設定することが可能となる。

また本実施形態によれば、中央照射領域６６は、円形に形成される。フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域は、中央照射領域６６と同心円を成す円周上に配置される。これによって、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域のいずれかが、同心円から外れて配置される場合に比べて、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域をＲＦ照射領域の近傍に配置することが可能となる。したがって、受光素子１６が占める空間的領域を可及的に小さく設定することが可能となる。また、読取り受光領域２４以外の、たとえばフォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域を、０次光が入射するＲＦ照射領域からほぼ等距離に配置することができる。したがって、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域に向けて復路光１８を回折させる回折領域のそれぞれの回折効率を、互いにおよそ等しく設定することが可能となる。これによって、受光素子１６は、復路光１８の光線束の光強度に応じて高精度に出力することができる。

また本実施形態によれば、各回折領域からの±１次光を受光する複数の受光領域は、受光素子１６上において中央照射領域６６の中心点６７に関して点対称の位置に配置される。これによって、±１次光の両方を受光素子１６で受光し利用することが可能となる。各回折領域で回折した後の光線束は、円形の中央照射領域６６を中心として、その両側に±１次光による照射領域を形成する。したがって、複数の受光領域を点対称に形成することによって、±１次光の両方を受光領域に入射させることが可能となる。これによって、±１次光のいずれか一方のみを検出して利用する場合に比べて、再生信号およびサーボに利用する信号の検出精度を高くすることができる。

また本実施形態によれば、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域の少なくともいずれか一方は、受光領域のうち集光記録層２１からの復路光１８が入射する主領域５５と、主領域５５とは異なる位置に設けられる複数の補助領域５６とを含み、ＦＥＳ照射領域２８およびＴＥＳ照射領域３２は、複数の補助領域５６のうちの少なくとも一部に入射する。これによって、補助領域５６からの出力信号に基づいて、ＦＥＳ照射領域２８およびＴＥＳ照射領域３２に照射される光線束の光強度を算出することができる。これによって、フォーカシング受光領域およびトラッキング受光領域の主領域５５に非集光記録層２２からの復路光１８が照射される場合にも、非集光記録層２２からの復路光１８の影響を排除することができる。

（他の実施形態）
本実施形態では、光源１２は１つであるものとしたけれども、光源１２の数については、規定しない。他の実施形態において光源１２は、複数設けられ、互いに波長の異なる複数種類の光を、それぞれ単独に出射可能である。これによって、複数種類の光記録媒体１１に対応することが可能となる。

１０ 光ピックアップ装置
１１ 光記録媒体
１２ 光源
１３ 対物レンズ
１４ 回折素子
１６ 受光素子
１８ 復路光
２１ 集光記録層
２２ 非集光記録層
２４ 読取り受光領域
２８ ＦＥＳ照射領域
３２ ＴＥＳ照射領域
６１ 第１回折領域
６２ 第２回折領域
６３ 第３回折領域
６４ 第４回折領域
６５ 第５回折領域
６６ 中央照射領域
８７ 浅い記録層
８８ 深い記録層

Claims (5)

1. 光を出射する光源と、
   光記録媒体に形成される予め定める記録層に対して、前記光源から出射された光を集光する対物レンズと、
   光源から出射され、前記光記録媒体で反射された復路光を予め定める向きに回折させる複数の回折領域が形成される回折素子と、
   フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボを行う制御部に接続され、受光した光強度に応じて出力を行う受光素子であって、
   対物レンズによって光が集光された前記予め定める記録層からの復路光を受光する複数の受光領域として、光記録媒体に記録されている情報の読取りに利用される読取り受光領域と、フォーカシングサーボに利用されるフォーカシング受光領域と、トラッキングサーボに利用されるトラッキング受光領域とが形成され、
   前記予め定める記録層とは異なる非集光記録層からの復路光のうち、前記フォーカシング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、前記トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
   前記非集光記録層からの復路光のうち、前記トラッキング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＴＥＳ照射領域と、前記フォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
   前記ＦＥＳ照射領域は、前記フォーカシング受光領域のうちの一部に重なって形成される受光素子と、を含み、
   非集光記録層からの復路光のうち、前記回折素子を透過した０次光によって照射される受光素子上の中央照射領域は、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域とは異なる位置において、円形に形成され、
   前記受光素子上の、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、前記中央照射領域の周囲の、前記中央照射領域と同心円を成す円周上において、前記中央照射領域を囲んで配置され、
   前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域に照射される光線束は、前記回折素子で回折した±１次光のいずれか一方であり、
   前記回折素子のホログラムパターンと前記受光素子の受光面とは互いに平行であり、
   前記回折素子のホログラムパターンに垂直な方向に見たときに、該ホログラムパターンの中心と前記受光素子の受光面の中心とは互いに一致することを特徴とする光ピックアップ装置。
2. 光を出射する光源と、
   光記録媒体に形成される予め定める記録層に対して、前記光源から出射された光を集光する対物レンズと、
   光源から出射され、前記光記録媒体で反射された復路光を予め定める向きに回折させる複数の回折領域が形成される回折素子と、
   フォーカシングサーボおよびトラッキングサーボを行う制御部に接続され、受光した光強度に応じて出力を行う受光素子であって、
   対物レンズによって光が集光された前記予め定める記録層からの復路光を受光する複数の受光領域として、光記録媒体に記録されている情報の読取りに利用される読取り受光領域と、フォーカシングサーボに利用されるフォーカシング受光領域と、トラッキングサーボに利用されるトラッキング受光領域とが形成され、
   前記予め定める記録層とは異なる非集光記録層からの復路光のうち、前記フォーカシング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＦＥＳ照射領域と、前記トラッキング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
   前記非集光記録層からの復路光のうち、前記トラッキング受光領域に向けて回折した光線束が照射される、受光素子上のＴＥＳ照射領域と、前記フォーカシング受光領域とは、互いに異なる位置に形成され、
   前記ＴＥＳ照射領域は、前記トラッキング受光領域のうちの一部に重なって形成される受光素子と、を含み、
   非集光記録層からの復路光のうち、前記回折素子を透過した０次光によって照射される受光素子上の中央照射領域は、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域とは異なる位置において、円形に形成され、
   前記受光素子上の、前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、前記中央照射領域の周囲の、前記中央照射領域と同心円を成す円周上において、前記中央照射領域を囲んで配置され、
   前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域に照射される光線束は、前記回折素子で回折した±１次光のいずれか一方であり、
   前記回折素子のホログラムパターンと前記受光素子の受光面とは互いに平行であり、
   前記回折素子のホログラムパターンに垂直な方向に見たときに、該ホログラムパターンの中心と前記受光素子の受光面の中心とは互いに一致することを特徴とする光ピックアップ装置。
3. 各回折領域からの±１次光を受光する複数の受光領域は、受光素子上において、前記中央照射領域の中心点に関して点対称の位置に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の光ピックアップ装置。
4. 前記フォーカシング受光領域および前記トラッキング受光領域は、複数の補助領域を含み、
   集光記録層からの復路光が入射する領域は、前記補助領域とは異なる位置に配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の光ピックアップ装置。
5. 前記光源は、複数設けられ、互いに波長の異なる複数種類の光を、それぞれ単独に出射可能であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の光ピックアップ装置。

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