JP5106861B2 - 温度センサ及び区間別温度の検出方法 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路に係り、区間別温度に応じて温度コードを発生する温度センサ及び区間別温度の検出方法に関する。
一般的に、半導体装置は、動作特性上、温度特性を有している。半導体装置の代表的な動作特性である消費電流IDDと動作速度tACCESSとを見れば、図1に示したように、高温になるほど動作速度が遅くなり(A)、低温になるほど消費電流IDDが増加する(B)傾向がある。
かかる温度特性は、半導体装置のうちDRAM(Dynamic Random Access Memory)のような揮発性メモリに属する装置には重要な意味を有する。DRAMセルは、温度上昇と共に漏れ電流が増加するため、電荷によるデータの維持特性が悪くなってデータ維持時間が短くなるという特性がある。これにより、DRAMは、さらに速いリフレッシュ動作を必要とする。すなわち、温度によってDRAMのリフレッシュ周期を変化させる方法が要求される。このために、DRAMの内部温度を知るための温度センサが必要である。
図2は、従来の温度センサを説明する回路ダイヤグラムである。
図2に示すように、温度センサ200は、絶対温度比例(Proportional To Absolute Temperature:PTAT)電流発生部210、絶対温度相補(Complementary To Absolute Temperature:CTAT)電流発生部220、及び比較部230を備える。
PTAT電流発生部210は、第1及び第2PMOSトランジスタMP1,MP2、第1及び第2NMOSトランジスタMN1,MN2、抵抗R、第1及び第2ダイオードD1,D2を備える。第1及び第2PMOSトランジスタMP1,MP2は、互いに同じサイズを有し、第1電流ミラーを構成する。第1及び第2NMOSトランジスタMN1,MN2は、互いに同じサイズを有し、第2電流ミラーを構成する。第1ダイオードD1と第2ダイオードD2とのサイズは、1:Mの比率を有する。
第1及び第2PMOSトランジスタMP1,MP2で構成された第1電流ミラーと、第1及び第2NMOSトランジスタMN1,MN2で構成された第2電流ミラーとが互いに対称的に連結されるため、Ia1電流とIa2電流とは同じである。すなわち、Ia1:Ia2=1:1である。
通常的に、ダイオードのターンオン電流IDは、次の通りである。
Figure 0005106861
・・・(1)
ここで、Isは、ダイオードの逆方向の飽和電流であり、VDは、ダイオード電圧であり、VTは、kT/qで表れる温度電圧である。したがって、第1ダイオードD1を流れる電流Ia1は、
Figure 0005106861
・・・(2)
の通りである。
ここで、第1ダイオード電圧VD1は、
Figure 0005106861
・・・(3)
となる。
そして、第2ダイオード電圧VD2は、
Figure 0005106861
・・・(4)
となる。
a2電流とIa1電流とが同じであるため、第1ダイオード電圧VD1と現在の温度電圧NOC0とはほぼ同じになる。これにより、
Figure 0005106861
・・・(5)
となる。
数式3と数式4とを数式5に代入すれば、
Figure 0005106861
・・・(6)
となる。したがって、Ia1電流は、
Figure 0005106861
・・・(7)
となって、Ia1電流は、温度に比例する電流が流れる。すなわち、PTAT電流発生部210は、現在の温度に比例する電流Ia1を発生させる。
CTAT電流発生部220は、第3PMOSトランジスタMP3、第3NMOSトランジスタMN3、複数個の抵抗Raa、RU1ないしRU5、RD1ないしRD5、及び複数個のスイッチングトランジスタTU1ないしTU5、TD1ないしTD5を備える。
第3NMOSトランジスタMN3は、第1及び第2NMOSトランジスタMN1,MN2と電流ミラーとを構成する。I電流は、Ia1及びIa2電流とほぼ同じである。スイッチングトランジスタTU1ないしTU5、TD1ないしTD5は、トリップ温度制御信号AU1ないしAU5、AD1ないしAD5に応答して選択的にオン/オフになる。オンになるスイッチングトランジスタTU1ないしTU5、TD1ないしTD5により、それらと連結される抵抗RU1ないしRU5、RD1ないしRD5が選択的に短絡される。
a1電流、Ia2電流及びI電流をほぼ同一に合わせれば、PTAT電流発生部210のVAノード電圧、VBノード電圧、及びCTAT電流発生部220のVCノード電圧がほぼ同じになる。数式3及び4で、VT電圧は、温度の上昇によって増加するが、Is電流がはるかに大きく増加する。ダイオード電圧は、温度によって低減する特性を有する。これにより、抵抗Raa、RU1ないしRU5、RD1ないしRD5を流れるI電流は、温度によって減少する特性を表す。すなわち、CTAT電流発生部220は、温度に反比例する電流を発生する。
比較部230は、現在温度電圧NOC0と感知温度電圧NOC1とを比較する。現在温度電圧NOC0及び感知温度電圧NOC1それぞれは、Ia1電流及びI電流により決定される。これにより、図3に示したように、Ia1電流とI電流とが同じになるポイントを探せば、温度センサ200は、現在温度を検出する。
図3を参照すれば、温度に比例するIa1電流に対して、I電流は温度に反比例する特性を表す。例えば、温度センサ200(図2)を内蔵したチップの現在温度を45℃とする。Ia1電流よりI電流が少なければ、CTAT電流発生部220のトリップ温度制御信号AU1ないしAU5、AD1ないしAD5を選択的にイネーブルさせてCTAT電流発生部220の抵抗値を調節し、I電流が多く流れるように制御して(C)、Ia1電流とI電流とを同じにする。
これと逆に、Ia1電流よりI電流が多ければ、CTAT電流発生部220のトリップ温度制御信号AU1ないしAU5、AD1ないしAD5を選択的にディセーブルさせてCTAT電流発生部220の抵抗値を調節し、I電流が少なく流れるように制御して(D)、Ia1電流とI電流とを同じにする。Ia1電流とI電流とが同じになれば、温度センサ200は、チップの現在温度の45℃を感知する。
しかし、かかる温度センサ200は、第1及び第2ダイオードD1,D2を構成するために、NPNトランジスタまたはPNPトランジスタのバイポーラトランジスタを使用する。NPNトランジスタまたはPNPトランジスタは、アナログ的な動作特性を有するため、温度センサ200の感知温度変化が非線形性を有するという問題点がある。また、NPNトランジスタまたはPNPトランジスタは、チップ面積を大きく占めるという問題点を有する。
本発明の目的は、区間別温度に応じて温度コードを発生する温度センサを提供することである。
本発明の他の目的は、区間別温度の検出方法を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明の一面による温度センサは、温度検出信号を受けて遅延させる複数個の直列連結された一定遅延セルと、温度検出信号を受けて遅延させる可変遅延セルと、可変遅延セルの出力に応答して一定遅延セルの出力をラッチし、温度コードを発生する区間判別ロジック部と、を備える。
本発明の実施形態によって、一定遅延セルは、温度変化に関係なく一定の遅延時間を有し、温度変化に関係なく一定の内部電流量で動作し、第1及び第2バイアス信号を出力する第1バイアス部と、第1及び第2バイアス信号に応答して温度検出信号を入力する複数個の直列連結された遅延端と、を備えうる。
本発明の実施形態によって、第1バイアス部は、電源電圧がそのソースに連結された第1PMOSトランジスタと、第1PMOSトランジスタのドレインがそのゲート及びそのドレインに連結され、接地電圧がそのソースに連結される第1NMOSトランジスタと、電源電圧がそのソースに連結され、そのゲートとそのドレインとが連結された第2PMOSトランジスタと、第2PMOSトランジスタのドレインがそのソースに連結された第2NMOSトランジスタと、第2NMOSトランジスタのドレインがそのドレインに連結され、第1NMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて第2バイアス信号として発生し、接地電圧がそのソースに連結される第3NMOSトランジスタと、電源電圧がそのソースに連結され、第2PMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて第1バイアス信号として発生する第3PMOSトランジスタと、第3PMOSトランジスタのドレインと第2NMOSトランジスタのゲートとがそのゲート及びそのドレインに連結され、接地電圧がそのソースに連結された第4NMOSトランジスタと、を備えうる。
本発明の実施形態によって、遅延端のうちいずれか一つは、電源電圧がそのソースに連結され、第1バイアス信号がそのゲートに連結された第1PMOSトランジスタと、第1PMOSトランジスタのドレインがそのソースに連結され、前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結された第2PMOSトランジスタと、第2PMOSトランジスタのドレインがそのドレインに連結されて遅延端の出力信号として発生し、前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結された第1NMOSトランジスタと、第1NMOSトランジスタのソースがそのドレインに連結され、第2バイアス信号がそのゲートに連結され、接地電圧がそのソースに連結された第2NMOSトランジスタと、を備えうる。
本発明の実施形態によって、可変遅延セルは、温度変化に応じて変化する遅延時間を有し、可変遅延セルは、温度変化に応じて変化する内部電流量で動作し、第3及び第4バイアス信号を出力する第2バイアス部と、第3及び第4バイアス信号に応答して温度検出信号を遅延させる複数個の直列連結された遅延端と、を備えうる。
本発明の実施形態によって、第2バイアス部は、電源電圧がそのソースに連結され、そのゲートとそのドレインとが連結された第1PMOSトランジスタと、第1PMOSトランジスタのドレインと接地電圧との間に連結される抵抗と、電源電圧がそのソースに連結され、第1PMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて第3バイアス信号として発生する第2PMOSトランジスタと、第2PMOSトランジスタのドレインがそのゲート及びそのドレインに連結されて第4バイアス信号として発生し、接地電圧がそのソースに連結されたNMOSトランジスタと、を備えうる。
本発明の実施形態によって、区間判別ロジック部は、温度変化に応じて可変遅延セルの出力と一定遅延セルの出力それぞれが一致する温度を基準として区間別温度を決定する。
本発明の実施形態によって、温度センサは、可変遅延信号に応答してそれぞれの一定遅延信号をラッチするラッチ部をさらに備え、ラッチ部それぞれは、可変遅延信号がそのクロック信号として受けて、一定遅延信号がそのデータ入力として入力されるD−フリップフロップで構成されうる。
前記他の目的を達成するために、本発明の一面による区間別温度の検出方法は、温度検出信号に応答して、温度変化に関係なく一定の時間間隔に遅延された複数個の一定遅延信号を発生するステップと、温度検出信号に応答して、温度変化に応じて変化する遅延時間を有する可変遅延信号を発生するステップと、可変遅延信号に応答して一定遅延信号をラッチするステップと、ラッチされた一定遅延信号に応答して温度コードを発生するステップと、を含む。
本発明の実施形態によって、温度検出方法は、可変遅延信号と一定遅延信号とが一致する温度を基準として区間別温度を決定し、温度コードは、区間別温度に対応する。
本発明の温度センサは、従来の温度センサにおけるようなPNPトランジスタまたはNPNトランジスタを備えなくてもよいので、チップ面積を減らすことができる。
本発明と、本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載された内容を参照せねばならない。
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施形態を説明することにより、本発明を詳細に説明する。各図面に提示された同じ参照符号は同じ部材を示す。
図4は、本発明の一実施形態による温度センサを説明するブロックダイヤグラムである。図4に示すように、温度センサ400は、一定遅延セル411,412,413,414、可変遅延セル420、ラッチ部431,432,433,434、及び区間判別ロジック部440を備える。
一定遅延セル411,412,413,414のうち代表的に第1一定遅延セル411は、具体的に図5に示されている。図5に示すように、一定遅延セル411は、第1バイアス部510と、温度検出信号T_detを入力する複数個の遅延端520,530,540,550と、を備える。
第1バイアス部510は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第1PMOSトランジスタ511及び第1NMOSトランジスタ512を備える。第2NMOSトランジスタ512のゲートとドレインとは、互いに連結されて第2バイアス信号VB2となる。
第1バイアス部510は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第2PMOSトランジスタ513、第2及び第3NMOSトランジスタ514,515をさらに備える。第2PMOSトランジスタ513は、そのゲートとそのドレインとが互いに連結され、そのゲートは第1PMOSトランジスタ511のゲートと連結されて第1バイアス信号VB1となる。第3NMOSトランジスタ515のゲートは、第1NMOSトランジスタ512のゲートと連結される。
第1バイアス部510は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第3PMOSトランジスタ516及び第4NMOSトランジスタ517をさらに備える。第3PMOSトランジスタ513のゲートは、第1PMOSトランジスタ511のゲートと連結される。第4NMOSトランジスタ512は、そのゲートとそのドレインとが互いに連結されている。
第1バイアス部510は、第1、第2及び第3PMOSトランジスタ511,513,516が電流ミラーを構成し、第1及び第3NMOSトランジスタ512,515が電流ミラーを構成し、第2及び第4NMOSトランジスタ514,517が電流ミラーを構成する。これにより、第1バイアス部510は、温度変化に対して電流ミラーを流れる内部電流量が一定である。
複数個の遅延端520,530,540,550は、直列連結され、温度検出信号T_detを受けて第1一定遅延信号CD1を出力する。
第1遅延端520は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第1及び第2PMOSトランジスタ521,522、第1及び第2NMOSトランジスタ523,524を備える。第1PMOSトランジスタ521のゲートは、第1バイアス信号VB1に連結され、第2NMOSトランジスタ524のゲートは、第2バイアス信号VB2に連結される。第2PMOSトランジスタ522と第1NMOSトランジスタ523とのゲートは、温度検出信号T_detと連結される。第2PMOSトランジスタ522と第1NMOSトランジスタ523とのドレインは、第1遅延端520の出力となる。第1遅延端520の出力は、第2遅延端530の入力に連結される。
残りの遅延端530,540,550は、第1遅延端520と同じ構成を有する。遅延端520,530,540,550,560の第1PMOSトランジスタ521は、第1バイアス部510の第2PMOSトランジスタ513と電流ミラーで構成される。各遅延端520,530,540,550,560の第2NMOSトランジスタ524は、第1バイアス部510の第1NMOSトランジスタ512と電流ミラーで構成される。
各遅延端520,530,540,550は、第1バイアス部510と電流ミラー形式で動作するため、各遅延端520,530,540,550を流れる電流も温度に対して一定である。したがって、各遅延端520,530,540,550の遅延時間も一定である。第1一定遅延信号CD1は、温度変化に関係なく一定の周期で発生する。
一定遅延セル411をシミュレーションした結果が図6に示されている。図6に示すように、温度変化に対して第1一定遅延信号CD1が数nsほどの遅延時間変化を有する。これは、後述する可変遅延セル420の数μsほどの遅延時間変化に比べれば、遅延時間変化がほとんどなくて一定であるといえる。
図7は、可変遅延セル420を説明する回路ダイヤグラムである。図7に示すように、可変遅延セル420は、第2バイアス部710と複数個の遅延端720,730,740,750,760とを備える。
第2バイアス部710は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第1PMOSトランジスタ711及び抵抗712を備える。第1PMOSトランジスタ711は、そのゲートとそのドレインとが互いに連結されている。そして、第2バイアス部710は、電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列連結される第2PMOSトランジスタ713及びNMOSトランジスタ714を備える。第2PMOSトランジスタ713のゲートは、第1PMOSトランジスタ711のゲートと連結され、第1及び第2PMOSトランジスタ711,713は電流ミラーを構成する。NMOSトランジスタ714は、そのゲートとそのドレインとが互いに連結されている。第1PMOSトランジスタ711のゲートは、第3バイアス信号VBとなり、NMOSトランジスタ714のゲートは、第2バイアス信号VB4となる。
第2バイアス部710は、温度が上昇すれば、抵抗712の抵抗値が増加して、第1PMOSトランジスタ711を流れる電流量が少なくなる。第1PMOSトランジスタ711とミラーリングされた第2PMOSトランジスタ713の電流量も少なくなり、第2PMOSトランジスタ713と直列連結されるNMOSトランジスタ714を流れる電流量も少なくなる。
これと逆に、第2バイアス部710は、温度が下降すれば、抵抗712の抵抗値が減少して、第1PMOSトランジスタ711を流れる電流量が多くなる。これにより、第2PMOSトランジスタ713の電流量も多くなり、NMOSトランジスタ714の電流量も多くなる。
複数個の遅延端720,730,740,750,760は、直列連結され、温度検出信号T_detを受けて可変遅延信号VDを出力する。各遅延端720,730,740,750,760は、前述した図5の遅延端510,520,530,540と同じ構成を有する。説明の重複を避けるために、具体的な説明は省略する。
各遅延端720,730,740,750,760の第1PMOSトランジスタ721は、第2バイアス部710の第1PMOSトランジスタ711と電流ミラーで構成される。各遅延端720,730,740,750,760の第2NMOSトランジスタ724は、第2バイアス部710のNMOSトランジスタ714と電流ミラーで構成される。
かかる可変遅延セル420の動作は、次の通りである。
温度が上昇すれば、第2バイアス部710の第1PMOSトランジスタ711とNMOSトランジスタ714とを流れる電流量が少なくなり、各遅延端720,730,740,750,760の第1PMOSトランジスタ721と第2NMOSトランジスタ724との電流量も少なくなる。各遅延端720,730,740,750,760を流れる電流量が少なくなってその動作速度が遅くなるにつれて、各遅延端720,730,740,750,760の遅延時間が長くなる。
温度が下降すれば、第2バイアス部710の第1PMOSトランジスタ711とNMOSトランジスタ714とを流れる電流量が多くなり、各遅延端720,730,740,750,760の第1PMOSトランジスタ721と第2NMOSトランジスタ724との電流量も多くなる。各遅延端720,730,740,750,760を流れる電流量が多くなってその動作速度が速くなるにつれて、各遅延端720,730,740,750,760の遅延時間が短くなる。
可変遅延セル420をシミュレーションした結果が図8に示されている。図8に示すように、温度変化に対して可変遅延信号VDが数μsほどの遅延時間変化を有するということが分かる。
図4に戻って、複数個のラッチ部431,432,433,434は、可変遅延信号VDに応答して、第1ないし第4一定遅延セル411,412,413,414の第1ないし第4一定遅延信号CD1,CD2,CD3,CD4をそれぞれラッチする。第1ないし第4ラッチ部431,432,433,434それぞれは、可変遅延信号CDがそのクロック信号CKとして入力され、第1ないし第4一定遅延信号CD1,CD2,CD3,CD4がそのデータ入力Dとして入力されるD−フリップフロップで構成されうる。
第1ないし第4ラッチ部431,432,433,434の出力は、区間判別ロジック部440で提供される。区間判別ロジック部440は、図9に示したように、例えば0℃ないし25℃の温度区間を第1区間Iに設定し、25℃ないし50℃の温度区間を第2区間IIに設定し、50℃ないし75℃の温度区間を第3区間IIIに設定し、75℃ないし100℃の温度区間を第4区間IVに設定する。
図9のグラフにおいて、温度変化に依存する第1ないし第4一定遅延信号CD1,CD2,CD3,CD4及び可変遅延信号VDが示されている。可変遅延信号VDと第1ないし第4一定遅延信号CD1,CD2,CD3,CD4それぞれとが合う点で、温度区間IないしIVが分けられるということが分かる。これにより、区間判別ロジック部440は、可変遅延信号VDに応答して、第1ないし第4一定遅延信号CD1,CD2,CD3,CD4をラッチして温度コード信号Tcodeとして発生する。第1区間Iの温度コードは、“1000”で表れ、第2区間IIの温度コードは、“1100”で表れ、第3区間IIIの温度コードは、“1110”で表れ、第4区間IVの温度コードは、“1111”で表れる。
図10は、温度センサ400の動作を説明するタイミングダイヤグラムである。図10に示すように、ロジックハイの温度検出信号T_detを遅延させて、一定遅延信号CD1ないしCD4及び可変遅延信号VDがロジックハイに発生する。可変遅延信号VDは、温度に応じてその遅延時間が変わるため、100℃であるときの可変遅延信号VDは、0℃であるときの可変遅延信号VDより遅く発生する。第1ないし第4一定遅延信号CD1ないしCD4は、温度変化に関係なく一定の遅延時間後に発生する。これにより、0℃であるときは、温度コードTcodeが“0000”で表れて、チップの現在温度が第1区間Iにあるということを表す。100℃であるときの温度コードTcodeは“1111”で表れて、チップの現在温度が第4区間IVにあるということを表す。
本発明は、図面に示した一実施形態を参考にして説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想により決まらねばならない。
本発明は、温度を検出する半導体装置関連の技術分野に適用可能である。
半導体装置の温度特性を示すグラフである。 従来の温度センサを説明する回路ダイヤグラムである。 図2の温度センサの温度検出方法を説明する図面である。 本発明の一実施形態による温度センサを説明するブロックダイヤグラムである。 図4の一定遅延セルを説明する回路ダイヤグラムである。 図5の一定遅延セルをシミュレーションした結果を示す図面である。 図4の可変遅延セルを説明する回路ダイヤグラムである。 図7の可変遅延セルをシミュレーションした結果を示す図面である。 図4の区間判別ロジック部を説明するグラフである。 図4の温度センサの動作を説明するタイミングダイヤグラムである。
符号の説明
411,412,413,414 一定遅延セル
420 可変遅延セル
431,432,433,434 ラッチ部
440 区間判別ロジック部

Claims (20)

  1. 区間別温度に応じた温度コードを発生する温度センサにおいて、
    温度検出信号を受けて遅延させる複数個の直列連結された一定遅延セルと、
    前記温度検出信号を受けて遅延させる可変遅延セルと、
    前記可変遅延セルの出力に応答して前記一定遅延セルの出力をラッチし、前記温度コードを発生する区間判別ロジック部と、
    を備え、
    前記一定遅延セルは、入力された信号に対し一定時間遅延した信号を出力するように構成され、
    前記可変遅延セルは、入力された前記温度検出信号に対し、測定される温度に応じた遅延時間となる信号を出力するように構成されていることを特徴とする温度センサ。
  2. 前記一定遅延セルは、温度変化に関係なく一定の遅延時間を有することを特徴とする請求項1に記載の温度センサ。
  3. 前記一定遅延セルは、
    前記温度変化に関係なく一定の内部電流量で動作し、第1及び第2バイアス信号を出力する第1バイアス部と、
    前記第1及び第2バイアス信号に応答して、前記温度検出信号を受けて複数個の直列連結された遅延端と、
    を備えることを特徴とする請求項2に記載の温度センサ。
  4. 前記第1バイアス部は、
    電源電圧がそのソースに連結された第1PMOSトランジスタと、
    前記第1PMOSトランジスタのドレインがそのゲート及びそのドレインに連結され、接地電圧がそのソースに連結された第1NMOSトランジスタと、
    前記電源電圧がそのソースに連結され、そのゲートとそのドレインとが連結された第2PMOSトランジスタと、
    前記第2PMOSトランジスタのドレインがそのドレインに連結された第2NMOSトランジスタと、
    前記第2NMOSトランジスタのソースがそのドレインに連結され、前記第1NMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて前記第2バイアス信号として発生し、前記接地電圧がそのソースに連結された第3NMOSトランジスタと、
    前記電源電圧がそのソースに連結され、前記第2PMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて前記第1バイアス信号として発生する第3PMOSトランジスタと、
    前記第3PMOSトランジスタのドレインと前記第2NMOSトランジスタのゲートとがそのゲート及びそのドレインに連結され、前記接地電圧がそのソースに連結された第4NMOSトランジスタと、
    を備えることを特徴とする請求項3に記載の温度センサ。
  5. 前記遅延端のうちいずれか一つは、
    電源電圧がそのソースに連結され、前記第1バイアス信号がそのゲートに連結された第1PMOSトランジスタと、
    前記第1PMOSトランジスタのドレインがそのソースに連結され、前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結された第2PMOSトランジスタと、
    前記第2PMOSトランジスタのドレインがそのドレインに連結されて前記遅延端の出力信号として発生し、前記前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結された第1NMOSトランジスタと、
    前記第1NMOSトランジスタのソースがそのドレインに連結され、前記第2バイアス信号がそのゲートに連結され、接地電圧がそのソースに連結された第2NMOSトランジスタと、を備えることを特徴とする請求項3に記載の温度センサ。
  6. 前記可変遅延セルは、温度変化に応じて変化する遅延時間を有することを特徴とする請求項1に記載の温度センサ。
  7. 前記可変遅延セルは、
    前記温度変化に応じて変化する内部電流量で動作し、第3及び第4バイアス信号を出力する第2バイアス部と、
    前記第3及び第4バイアス信号に応答して、前記温度検出信号を遅延させる複数個の直列連結された遅延端と、
    を備えることを特徴とする請求項6に記載の温度センサ。
  8. 前記第2バイアス部は、
    電源電圧がそのソースに連結され、そのゲートとそのドレインとが連結された第1PMOSトランジスタと、
    前記第1PMOSトランジスタのドレインと接地電圧との間に連結された抵抗と、
    前記電源電圧がそのソースに連結され、前記第1PMOSトランジスタのゲートがそのゲートに連結されて前記第3バイアス信号として発生する第2PMOSトランジスタと、
    前記第2PMOSトランジスタのドレインがそのゲート及びそのドレインに連結されて前記第4バイアス信号として発生し、前記接地電圧がそのソースに連結されるNMOSトランジスタと、
    を備えることを特徴とする請求項7に記載の温度センサ。
  9. 前記遅延端のうちいずれか一つは、
    電源電圧がそのソースに連結され、前記第3バイアス信号がそのゲートに連結された第1PMOSトランジスタと、
    前記第1PMOSトランジスタのドレインがそのソースに連結され、前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結される第2PMOSトランジスタと、
    前記第2PMOSトランジスタのドレインがそのドレインに連結されて前記遅延端の出力信号として発生し、前記前段の遅延端の出力信号がそのゲートに連結された第1NMOSトランジスタと、
    前記第1NMOSトランジスタのソースがそのドレインに連結され、前記第4バイアス信号がそのゲートに連結され、接地電圧がそのソースに連結される第2NMOSトランジスタと、
    を備えることを特徴とする請求項7に記載の温度センサ。
  10. 前記区間判別ロジック部は、
    温度変化に応じて、前記可変遅延セルの出力と前記一定遅延セルの出力それぞれが一致する温度を基準として、前記区間別温度を決定することを特徴とする請求項1に記載の温度センサ。
  11. 前記温度センサは、
    前記可変遅延セルによって遅延された可変遅延信号に応答して、複数個の前記一定遅延セルによって遅延されたそれぞれの一定遅延信号をラッチするラッチ部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の温度センサ。
  12. 前記ラッチ部それぞれは、
    前記可変遅延信号がそのクロック信号として入力され、前記一定遅延信号がそのデータ入力として入力されるD−フリップフロップで構成されることを特徴とする請求項11に記載の温度センサ。
  13. 区間別温度の検出方法において、
    温度検出信号を受けて、温度変化に関係なく前記温度検出信号が一定の時間間隔で遅延された複数個の一定遅延信号を発生するステップと、
    前記温度検出信号に応答して、該温度検出信号に対して前記温度変化に応じて変化する遅延時間を有する可変遅延信号を発生するステップと、
    前記可変遅延信号に応答して前記一定遅延信号をラッチするステップと、
    前記ラッチされた一定遅延信号に応答して温度コードを発生するステップと、
    を含むことを特徴とする温度検出方法。
  14. 前記温度検出方法は、
    前記可変遅延信号と前記一定遅延信号とが一致する温度を基準として、前記区間別温度を決定することを特徴とする請求項13に記載の温度検出方法。
  15. 前記温度コードは、
    前記区間別温度に対応することを特徴とする請求項14に記載の温度検出方法。
  16. 前記一定遅延信号は、
    前記温度変化に関係なく一定の内部電流量で動作するバイアス部と電流ミラーリングされ、前記温度検出信号を遅延させる直列連結されたインバータチェーンから発生することを特徴とする請求項13に記載の温度検出方法。
  17. 前記可変遅延信号は、
    前記温度変化に応じて変化する内部電流量で動作するバイアス部と電流ミラーリングされ、前記温度検出信号を遅延させる直列連結されたインバータチェーンから発生することを特徴とする請求項13に記載の温度検出方法。
  18. 温度検出信号を一定時間遅延させるために、少なくとも一つの固定されたバイアス信号を発生する第1バイアス部と、前記少なくとも一つの固定されたバイアス信号に応答して、前記温度検出信号を遅延させる複数個の遅延端とを含む複数個の直列連結された一定遅延セルと、
    検出される温度に応じて前記温度検出信号を遅延させるために、前記検出され温度に応答して変化する少なくとも一つの可変バイアス信号を発生する第2バイアス部と、前記少なくとも一つの可変バイアス信号に応答して、前記温度検出信号を遅延させる複数個の遅延端とを含む可変遅延セルと、
    前記可変遅延セルからの前記遅延された温度検出信号に応答して、前記一定遅延セルにより発生した前記遅延された温度検出信号それぞれをラッチする複数個のラッチ部と、
    前記ラッチされた温度検出信号を受けて温度コード信号を発生する区間判別ロジック部と、を備えることを特徴とする温度センサ。
  19. 前記一定遅延セルの前記遅延端それぞれは、前記可変遅延セルの各遅延端と同じ構造を有することを特徴とする請求項18に記載の温度センサ。
  20. 前記第1及び第2バイアス部それぞれは、前記一定遅延セルの前記遅延端と前記可変遅延セルの前記遅延端とにそれぞれ入力される二つのバイアス信号を発生させることを特徴とする請求項18に記載の温度センサ。
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