JP5103891B2 - 液晶装置及びその製造方法、並びにこれを備えた電子機器 - Google Patents
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Description
本発明の液晶装置に係る第1実施形態を、図1乃至図8を参照して説明する。
先ず、図1及び図2を参照して本実施形態に係る液晶装置の構成について説明する。ここに図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側からみた平面図であり、図2は、図1のH−H´線断面図である。尚、以下で参照する各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
次に、図4乃至図8を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の実施形態を説明する。尚、以下では上述の液晶装置1と共通する部分には、共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。
次に、図9を参照しながら対向基板20の変形例を説明する。図9は、図2と同趣旨の断面図において、対向基板周辺を拡大して示した拡大断面図である。図9において、対向基板20は、マイクロレンズアレイ500及びカバーガラス600により構成されている。光学補償層202は、カバーガラス600の液晶層50に対向する表面上に形成されているが、マイクロレンズアレイ500及び配向膜22間であれば、どこに形成されていてもよい。このように、対向基板20がマイクロレンズアレイ500を有することにより、実質的な開口効率の向上、即ち光の利用効率の向上、及び明るさの向上や色純度の向上が可能となる。
本発明の液晶装置及びその製造方法に係る第2実施形態を、図10乃至図13を参照して説明する。第2実施形態では、光学補償層201が画素電極9aの上に形成されている以外は、第1実施形態と同様である。よって、第2実施形態について、第1実施形態と重複する説明を省略する。図10は、図3と同趣旨の、拡大断面図である。
図10において、TFTアレイ基板10上の積層構造100の最上層に画素電極9aが形成されている。該画素電極9a上に、柱状構造物201aが傾斜して配列することにより、光学補償層201が形成されている。そして、光学補償層201の上に、柱状構造物16aが傾斜して配列することによって配向膜16が形成されている。
次に、図11乃至図13を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の実施形態を説明する。
本発明の液晶装置及びその製造方法に係る第3実施形態を、図14を参照して説明する。第3実施形態では、光学補償層201及び配向膜16間にコーティング層300が形成されている以外は、第2実施形態と同様である。よって、第3実施形態について、第2実施形態と重複する説明を省略する。図14は、図2と同趣旨の断面図において、TFTアレイ基板周辺を拡大して示した拡大断面図である。
図14においては、画素電極9aを、光学補償層201より先に積層構造100上に形成し、コーティング層300は、光学補償層201及び配向膜16間に介在されている。これにより、光学補償層201及び配向膜間における好ましくない相互作用の発生を抑制することが可能となる。また、光学補償層201の配向膜と対向する側の表面を平坦化することが可能となる。
光学補償層201を、画素電極9a上に形成した後に、TFTアレイ基板10の基板面に対して、垂直方向からSiO2等を蒸着することによりコーティング層300を形成する。続いて、コーティング層300上に配向膜16を形成する。
本発明の液晶装置及びその製造方法に係る第4実施形態を、図15を参照して説明する。第4実施形態では、光学補償層が形成されている位置が異なる以外は、第1実施形態と同様である。よって、第4実施形態について、第1実施形態と重複する説明を省略する。図15は、図2と同趣旨の、H−H´線断面図である。
図15において、光学補償層201は、TFTアレイ基板10の液晶層50と対向する側と反対側に形成されている。光学補償層202は、対向基板20の液晶層50と対向する側と反対側に形成されている。これにより、光学補償層を基板の液晶層と対向する側に配置する場合に考慮しなければならない、TFTアレイ基板10及び対向基板20間のギャップが変化することによる、例えば透過率の変化等を考慮しなくてもよい。尚、光学補償層201及び202の液晶層50に対向する側と反対側に、防塵ガラス等を設けてもよい。
本実施形態に係る液晶装置の製造方法では、光学補償層を形成する工程及び配向膜を形成する工程は、どちらを先に行ってもよい。本実施形態では、光学補償層は、基板における配向膜が形成される側と反対側に形成される。従って、例えば斜方蒸着法により光学補償層201及び配向膜16をTFTアレイ基板10上に形成する場合には、光学補償層201を形成した後、又は配向膜16を形成した後に、TFTアレイ基板10を蒸着源に対して表裏逆にする必要がある。
次に、図16を参照しながら、上述した液晶装置を電子機器の一例であるプロジェクタを適用した場合を説明する。上述した液晶装置は、プロジェクタのライトバルブとして用いられている。図16は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。図16に示すように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gに入射される。
Claims (10)
- 一対の基板と、
該一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側に形成され、無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第1配向膜と、
前記第1配向膜に対して画素電極を介して前記一方の基板側に形成され、前記液晶層を通過する光を補償し且つ無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第1光学補償層と、
前記一対の基板のうち他方の基板の前記液晶層側に形成され、無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第2配向膜と、
前記第2配向膜に対して対向電極及び遮光膜を介して前記他方の基板側に形成され、前記液晶層に入射する光を補償し且つ無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第2光学補償層と、
を備えることを特徴とする液晶装置。 - 前記第1配向膜を構成する複数の柱状構造物は、前記一方の基板に対して傾いており、
前記第1光学補償層を構成する複数の柱状構造物は、前記一方の基板に対して、前記第1配向膜を構成する複数の柱状構造物が傾いている方向とは反対側の方向に傾いている
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記第1配向膜を構成する複数の柱状構造物は、前記一対の基板の一面に沿った面内で所定方位に傾いており、
前記第1光学補償層を構成する複数の柱状構造物は、前記面内で、前記所定方位に対して180±90度の方位に傾いている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。 - 前記第1光学補償層は、前記一方の基板における前記液晶層側に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記第1配向膜は、パッシベーション膜を介して、前記第1光学補償層上に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置。
- 前記第1光学補償層は、前記一方の基板における前記液晶層と反対側に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記第1光学補償層の一の表面上に設けられた平坦化膜を更に備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層と、無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第1配向膜と、前記第1配向膜に対して画素電極を介して前記一方の基板側に形成され、前記液晶層を通過する光を補償し且つ無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第1光学補償層と、前記一対の基板のうち他方の基板の前記液晶層側に形成され、無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第2配向膜と、前記第2配向膜に対して対向電極及び遮光膜を介して前記他方の基板側に形成され、前記液晶層に入射する光を補償し且つ無機材料を含む複数の柱状構造物を有する第2光学補償層と、を備える液晶装置の製造方法であって、
斜方蒸着法又は指向性スパッタ法を用いて、前記一対の基板のうち一方の基板に対して所定の方向から、前記第1光学補償層を形成する光学補償層形成工程と、
斜方蒸着法又は指向性スパッタ法を用いて、前記一方の基板に対して前記所定の方向とは反対の方向から、前記第1配向膜を形成する配向膜形成工程と、
を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記第1配向膜及び前記第1光学補償層を、同一の方法を用いて形成することを特徴とする請求項8に記載の液晶装置の製造方法。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
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