JP5091970B2 - 半導体記憶装置およびその制御方法 - Google Patents
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Description
<1.構成>
1−1.全体構成例
まず、図1を用いて、本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置の全体構成例を説明する。
カラムゲート12は、カラム方向(ビット線方向)のアドレスをデコードする。また、カラムゲート12は、ビット線を駆動する駆動回路を備える。本例では、カラムゲート12は、ここでは図示しないが、メモリセルアレイ10の上側(Upper)および下側(Lower)にそれぞれ配置される形態でも良い。
センスアンプ13は、メモリセルのデータを読み出し、カラムゲート12、ビット線、および制御回路17に電気的に接続される。さらに、本例では、センスアンプ13は、ここでは図示しないが、メモリセルアレイ10の上側(Upper)および下側(Lower)にそれぞれ配置される形態でも良い。
アドレスバッファ14−1は、ロウデコーダ11およびカラムゲート12に電気的に接続され、ロウアドレスおよびカラムアドレスを一時的に保持する。
コマンドバッファ14−2は、制御回路17に電気的に接続され、制御コマンドを一時的に保持する。
ヒューズ(Fuse)用レジスタ15は、入出力バッファ19にデータバス線を介して電気的に接続され、例えば、管理データ等の必要なデータを保持する。
パワーオンリセット回路16は、この装置のパワーオンを検知してリセット信号を制御回路17に出力する。
電圧生成回路18は、ロウデコーダ11、カラムゲート12、センスアンプ13に電気的に接続され、制御回路17の制御に従ってこれらの回路に必要な電圧を供給する。
入出力バッファ19は、センスアンプ13およびヒューズ用レジスタ15にデータバス線を介して電気的に接続され、ホスト装置等の外部からのデータ(Data)、アドレス(Address)、コマンド(Command)を一時的に保持する。
制御回路17は、上記回路を制御する。例えば、制御回路17は、上記回路を制御し、後述するようなデータ書込み、データ読み出し、データ消去を行う。例えば、本例では、制御回路17は、センスアンプ13から検出される選択ビット(select bit)数を判定する。制御回路17は、電圧制御回路17aを備える。電圧制御回路17aは、センスアンプ13からの選択ビット(select bit)数に基づいて、電圧生成回路18の制御を行う。詳細については、後述する。
次に、図2を用い、本例に係るメモリセルアレイ10の構成例について説明する。図示するように、本例に係るメモリセルアレイ10は、複数のビット線BLとワード線WLとのマトリクス状の交差位置に複数のメモリセルMCがそれぞれ配置されるクロスポイント型の構造である。本例に係るメモリセルアレイ10には、共通のワード線WLに複数のメモリセルMCが接続され、複数のビット数を構成するメモリセル群20を備える。本例では、このメモリセル群20を単位として、データ書込み動作およびデータの消去動作を行う。
次に、図3を用い、本例に係るメモリセルMCの構成例について説明する。図示するように、本例に係るメモリセルMCは、ビット線BLとワード線WLとの間に、ダイオード(非オーミック素子)31および記憶層(抵抗変化層)として働く可変抵抗素子30が積層された構造である。この可変抵抗素子30は、所定の電圧が印加されることで可変抵抗素子30中の抵抗の状態が変化し、抵抗の状態が変化することで情報を記憶することが可能である。
2−1.データ書込み、読み出し、消去動作
まず、図4を用い、第1の実施形態に係る半導体記憶装置のデータ書込み、読み出し、消去動作を説明する。
次に、図5に示すフローに沿って、第1の実施形態に係る半導体記憶装置のデータ書込み(セット)制御動作を説明する。
図示するように、まずステップS101の際、メモリセル群20を単位として、制御回路17は、選択されるメモリセルMCの数(Select bit数)をカウントする。メモリセル群20中の選択されたメモリセルMCは、一括して同時に書込み電圧が印加される。
続いて、ステップS102の際、電圧制御回路17aは、選択されたメモリセルMCの数に対応する書込み電圧(印加電圧)を設定する。尚、例えば、書込み電圧は、図4に示した電圧関係の電圧パルスである。
設定された書込み電圧は、電圧制御回路17aの制御に従い、電圧生成回路18により生成される。
続いて、ステップS103の際、電圧制御回路17aは、メモリセル群20を単位として、生成された書込み電圧を、所定の間選択されたメモリセルに同時に印加する。
続いて、ステップS104の際、制御回路17は、書込み電圧が印加されたメモリセル群20にベリファイ読出し(Verify read)を行い、読み出された全てのメモリセルが所定の値をパスできるか否かを判定する。尚、例えば、ベリファイ読出しの際に与えられる電圧は、図4に示した電圧関係の電圧パルスである。
ステップS104の際に、全てのメモリセルが所定の値をパスしたと判定された場合(全Pass)には、この動作を終了する(End)。
一方、ステップS104の際に、全てのメモリセルが所定の値をパスしていないと判定された場合(Fail)には、選択ビット数からパスしたビット数を減少させ、電圧制御回路17aは、残りの選択ビット数に対応するように印加する電圧を低減させた書込み電圧を生成させるように電圧生成回路18を制御して、再び書込み電圧の設定(ステップS102)を行う。
このように、全てのメモリセルが所定の値をパスしていないと判定された場合(Fail)には、電圧制御回路17aは、低減した選択ビット数をセンスアンプ13からのフィードバックを受け、選択ビット数からパスしたメモリセルMCの数を減少させたメモリセルMCの数(選択ビット数)に応じて、書込み電圧を低減(調整)させる。そして、低減させた書込み電圧を再設定したステップS102を再び行う。
続いて、低減した書込み電圧を用い、再び選択ビットに書込み電圧を印加する(S103)。尚、再びステップS103を行う際、パスしたメモリセルについては、これをマスクして、これについては書込み電圧の印加を行わない。
次に、図6を用い、上記ステップS104の際に、全てのメモリセルが所定の値をパスしていないと判定された場合(Fail)に、残りの選択ビット数に対応するように印加する電圧を低減させた書込み電圧を生成させるように、再び書込み電圧の設定を行う際の、書込み電圧設定の具体例について説明する。図6中の(a)はワード線に流れる電流Iwlと時間との関係、(b)はワード線ビット線間の電圧Vwl−Vblと時間との関係、(c)はメモリセル群20におけるひとつのメモリセルに印加される電圧Vcellと時間との関係を示す。本例では、メモリセル群20における選択ビット数が8bitである場合を一例に挙げる。
そこで、本例では、(b)選択ビット数からパスしたビット数を減少させ、電圧制御回路17aは、残りの選択ビット数(7bit)に対応するように印加する電圧を低減させた書込み電圧(Vwl−Vbl´<Vwl−Vbl´)を生成させるように電圧生成回路18を制御して、再び書込み電圧の設定および電圧印加(ステップS102,S103)を行う。
上述したように、第1の実施形態に係る半導体記憶装置およびその制御方法によれば、少なくとも下記(1)の効果が得られる。
その結果、(c)メモリセル群20におけるひとつのメモリセルには、8bit同時選択時から7bit同時選択時に変更した場合でも、一定の電圧Vcellを印加することができる。このように、本例によれば、選択メモリセルのビット数が変更した場合でも、メモリセルへの余分な負荷、メモリセル自体の破壊、メモリセルへの誤書込を防止できるため、信頼性を向上できる点で有利である。また、電圧の制御が行われるため、メモリセルの抵抗を所望(ターゲット)の抵抗(例えばデータ書込み状態)により近づけることができる。これにより、該メモリセルへの次の電圧印加動作(例えば、データ書込み状態からデータ消去状態にする動作)が制御し易く(早く)なる。このように、メモリセルの制御性が良くなるという点でも有利である。
次に、図8および図9を用いて、本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置およびその制御方法について説明する。尚、この説明において、上記第1の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
第2の実施形態では、センスアンプ13が、ビット線毎に流れる電流を自動で検知する検知回路(図示せず)を更に備える点で、上記第1の実施形態と相違する。
次に、図8のフローに沿って、第2の実施形態に係る半導体記憶装置のデータ書込み(セット)制御動作を説明する。
本例では、ステップS203において、電圧制御回路17aは、メモリセル群20を単位として、生成された書込み電圧を、所定の間選択されたメモリセルに同時に印加する際に、選択されたメモリセルがベリファイをパスしているか否かを自動的に更に判定する。
次に、図9を用い、上記ステップS204の際に、全てのメモリセルが所定の値をパスしていないと判定された場合(Fail)に、残りの選択ビット数に対応するように印加する電圧を低減させた書込み電圧を生成させるように、再び書込み電圧の設定を行う際の、書込み電圧設定の具体例について説明する。図9中の(a)はワード線に流れる電流Iwlと時間との関係、(b)はワード線ビット線間の電圧Vwl−Vblと時間との関係、(c)はメモリセル群20におけるひとつのメモリセルに印加される電圧Vcellと時間との関係を示す。本例では、メモリセル群20における選択ビット数が8bitである場合を一例に挙げる。
そこで、本例では、ステップS204に進むことなく、再びステップS203を行い、(b)選択ビット数からパスしたビット数を減少させ、電圧制御回路17aは、残りの選択ビット数(7bit)に対応するように印加する電圧を低減させた書込み電圧(Vwl−Vbl´<Vwl−Vbl´)を生成させるように電圧生成回路18を制御する。そして、書込み電圧が再設定された電圧により書込み電圧を印加(ステップS203)する。
上述した第2の実施形態によれば、少なくとも上記(1)の効果が得られる。加えて、本例によれば、下記(2)の効果を得ることができる。
本例では、センスアンプ13が、ビット線毎に流れる電流を自動で検知する検知回路(図示せず)を更に備える。検知回路は、データ書込み動作時に同時に選択されたメモリセルに電圧を印加している最中に、同時に選択されたメモリセルがベリファイをパスしているか否かを自動的に判定する。
次に、図10を用いて、上記第1の実施形態と比較するために、比較例1に係る半導体記憶装置のデータ書込み制御動作について説明する。
しかしながら、比較例1では、この減少ビット数をフィードバックした書込み電圧の設定が行われていない。そのため、(b)ワード線ビット線間の電圧Vwl−Vblには、一定の電圧しか与えることができない結果、(c)同時に選択するひとつのメモリセルに印加される電圧Vcell´が上昇してしまう(Vcell´>Vcell)。
次に、図11を用いて、上記第2の実施形態と比較するために比較例2に係る半導体記憶装置のデータ書込み制御動作の一例に関して説明する。
しかしながら、比較例2では、比較例1と同様に、この減少ビット数をフィードバックした書込み電圧の設定が行われていない。そのため、(b)ワード線ビット線間の電圧Vwl−Vblには、一定の電圧しか与えることができない結果、(c)同時に選択するひとつのメモリセルに印加される電圧Vcell´が上昇してしまう(Vcell´>Vcell)。
Claims (3)
- それぞれが可変抵抗素子を備えるメモリセル群の選択ビット数をカウントする第1ステップと、
前記カウントした選択ビット数に対応する書込み電圧を設定する第2ステップと、
前記設定した書込み電圧を前記メモリセル群に印加する第3ステップと、
前記印加したメモリセル群にベリファイ読出しを行い、前記ベリファイ読出しをパスするか否かを判定する第4ステップと、
を備え、
前記第4ステップの際にパスできないと判定された場合に、前記選択ビット数から前記パスしたビット数を減少させ、印加する電圧を低減させて前記第2ステップを再び行い、
前記第3ステップの最中に前記メモリセル群の選択ビット数が減少するか否かを判定し、前記メモリセル群の選択ビット数が減少した場合、前記第4ステップを行うことなく印加する電圧を低減させて前記第2ステップを再び行うこと
を特徴とする半導体記憶装置の制御方法。 - 前記第2ステップの際に設定する電圧は、前記書込み電圧よりも電圧が低く且つ印加時間が長い消去電圧であり、前記第3ステップの際に前記メモリセル群に印加する電圧は前記消去電圧であること
を特徴とする請求項1に記載の半導体装置の制御方法。 - それぞれが可変抵抗素子を備えるメモリセル群が配置されるメモリセルアレイと、
少なくとも前記メモリセルアレイの書込み電圧を発生させる電圧生成回路と、
前記メモリセル群の選択ビット数をカウントする第1ステップと、
前記カウントした選択ビット数に対応する書込み電圧を設定する第2ステップと、
前記設定した書込み電圧を前記メモリセル群に印加する第3ステップと、
前記印加したメモリセル群にベリファイ読出しを行い、前記ベリファイ読出しをパスするか否かを判定する第4ステップと、
前記第4ステップの際にパスできないと判定された場合に、前記選択ビット数から前記パスしたビット数を減少させ、印加する電圧を低減させて前記第2ステップを再び行い、前記第3ステップの最中に前記メモリセル群の選択ビット数が減少するか否かを判定し、前記メモリセル群の選択ビット数が減少した場合、前記第4ステップを行うことなく印加する電圧を低減させて前記第2ステップを再び行うように前記メモリセルアレイおよび前記電圧生成回路とを制御する制御回路と
を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
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