JP5086886B2 - 座標検出装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る第1の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものである。最初に本実施の形態により製造される座標検出装置について説明する。
図1は、本実施の形態における座標検出装置におけるシステムの構成を示す。本実施の形態では、座標入力システム100として、いわゆる5線式アナログ抵抗膜方式のタッチパネルについて説明する。本実施の形態における座標入力システム100は、パネル部111とインタフェースボード112から構成されている。
次に、下部基板121の構成を図2に基づき説明する。図2(A)は下部基板121の平面図であり、図2(B)は線A−Aにおいて切断した断面図であり、図2(C)は線B−Bにおいて切断した断面図であり、図2(D)は線C−Cにおいて切断した断面図であり、図2(E)は線D−Dにおいて切断した断面図である。
抵抗膜除去領域133は、ガラス基板131の周縁部であって、共通電極134が形成される領域に設けられている。具体的には、透明抵抗膜132において抵抗膜除去領域133が形成されたものの上に、共通電極134が形成される。これにより、隣接する抵抗膜除去領域133間の透明抵抗膜132と共通電極134が接続され、電位供給部141が形成される。本実施の形態では、図3(a)に示すように、相互に隣接する抵抗膜除去領域133間の間隔W、即ち、後述するように、この間に形成される電位供給部141の幅は同一幅で形成されており、パネル部121における第1の辺171−1、第2の辺171−2、第3の辺171−3、第4の辺171−4の両端周辺においては、形成される抵抗膜除去領域133のピッチは広く、中心部に近づくに従い狭くなるように形成されている。具体的には、両端より中心部に向けて、抵抗膜除去領域133のピッチP1、P2、P3、P4・・・が、(P1>P2>P3>P4・・・)となるように形成されている。
電位供給部141は、相互に隣接する抵抗膜除去領域133間における透明抵抗膜132と共通電極134との接触領域において形成される。本実施の形態において、具体的に、図3(b)に基づき説明すると、パネル部121における第1の辺171−1、第2の辺171−2、第3の辺171−3、第4の辺171−4の両端周辺においては、電位供給部141は広いピッチで形成され、中央部では狭いピッチで形成されている。このような構成にすることにより、電位分布が大きく内部に歪みやすい部位である第1の辺171−1、第2の辺171−2、第3の辺171−3、第4の辺171−4における電位分布の歪みを低減し、透明抵抗膜132における電位分布を均一にすることができる。これによって、正確な座標位置検出を行うことが可能となる。
共通電極134は、例えば、Ag−Cから構成されており、抵抗膜除去領域133及び、抵抗膜除去領域133間における透明抵抗膜132上に形成される。
第1の絶縁膜135は、抵抗膜除去領域133の上部に共通電極134を覆うように積層し形成する。第1の絶縁膜135には、下部基板121の4つの角部に第1から第4の貫通孔151−1から151−4が形成されている。第1から第4の貫通孔151−1から151−4は、駆動電圧印加部を構成している。
第1の配線136−1は、例えば、Ag等の低抵抗材料から構成されており、第1の絶縁膜135の上部に、下部基板121の第1辺171−1に沿って形成されている。このとき、第1の配線136−1は、第1の絶縁膜135に形成された第1の貫通孔151−1を埋めるように形成されている。また、第1の配線136−1は、FPCケーブル124の第1の配線に接続されている。
次に、上部基板122の構成について、図4に基づき説明する。図4(A)は上部基板122の上面図であり、図4(B)は上部基板122の断面図である。上部基板122は、フィルム基板211、透明抵抗膜212、電極213により構成されている。フィルム基板211は、例えば、PET等の可撓性を有する樹脂フィルムから構成されている。フィルム基板211の下部基板121に対向する側の面には、その全面にわたって透明抵抗膜212が形成されている。透明抵抗膜212は、ITOなどの透明導電材料により構成されている。電極213は、上部基板122の透明抵抗膜212上、X1方向の端部に配置されており、不図示のコンタクトを介して下部基板121に接続されたFPCケーブル124の第5の配線に接続されている。この上部基板122をプローブとして下部基板121の電位をインタフェースボード112により検出することにより座標位置が検出される。
次に、本実施の形態の座標検出装置における座標位置検出の手順について説明する。図5はインタフェースボード112の処理フローチャート、図6は下部基板121の電位分布を示す図を示す。図6(a)はX座標検出時、図6(b)はY座標検出時の電位分布を示す。
次に、本実施の形態に係る座標検出装置の製造方法について説明する。具体的には、本実施の形態は、上述した下部基板121の製造方法に関するものである。本実施の形態について、図7、図8に基づき説明する。
本発明に係る第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものであり、具体的には、上述した下部基板121の製造方法に関するものであって、エッチングペーストを用いた方法である。本実施の形態について、図9、図10に基づき説明する。
本発明に係る第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものであり、具体的には、上述した下部基板121の製造方法に関するものである。本実施の形態について、図11に基づき説明する。尚、図11は、下部基板121の製造工程を示す上面図である。
本発明に係る第4の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものであり、具体的には、上述した下部基板121の製造方法に関するものである。本実施の形態について、図12に基づき説明する。尚、図12は、下部基板121の製造工程を示す上面図である。
本発明に係る第5の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものであり、具体的には、上述した下部基板121の製造方法に関するものである。本実施の形態について、図13に基づき説明する。尚、図13は、下部基板121の製造工程を示す上面図である。
本発明に係る第6の実施の形態について説明する。本実施の形態は、座標検出装置の製造方法に関するものであり、具体的には、上述した下部基板121の製造方法に関するものである。本実施の形態について、図14に基づき説明する。尚、図14は、下部基板121の製造工程を示す上面図である。
111 パネル部
112 インタフェースボード
121 下部基板
122 上部基板
123 スペーサ
124 FPCケーブル
131 ガラス基板
132 透明抵抗膜
133 抵抗膜除去領域
134 共通電極
135 第1の絶縁膜
136−1〜136−4 配線
137 第2の絶縁膜
141 電位供給部
Claims (5)
- 抵抗膜と、前記抵抗膜に電圧を印加する共通電極と、前記共通電極より前記抵抗膜に電位を供給することにより、前記抵抗膜に電位分布を発生させ、前記抵抗膜の接触位置の電位を検出することにより、前記抵抗膜の接触位置座標を検出する座標検出装置の製造方法において、
絶縁体からなる基板上に形成されている前記抵抗膜上に、フォトレジストを塗布する工程と、
塗布されたレジストに対し、所定のマスクを介して露光光を照射し、その後現像することによりレジストパターンを形成する工程と、
レジストパターンの形成されていない領域の前記抵抗膜を除去し、抵抗膜除去領域を形成する工程と、
からなる座標検出装置の製造方法であって、
前記抵抗膜除去領域の外側には前記共通電極が形成されており、前記共通電極の端と、前記抵抗膜除去領域の端の間隔が、0〔mm〕以上、5〔mm〕以下であることを特徴とする座標検出装置の製造方法。 - 前記抵抗膜を除去する工程は、酸を用いたウエットエッチングであることを特徴とする請求項1に記載の座標検出装置の製造方法。
- 前記抵抗膜を除去する工程は、ドライエッチングであることを特徴とする請求項1に記載の座標検出装置の製造方法。
- 抵抗膜と、前記抵抗膜に電圧を印加する共通電極と、前記共通電極より前記抵抗膜に電位を供給することにより、前記抵抗膜に電位分布を発生させ、前記抵抗膜の接触位置の電位を検出することにより、前記抵抗膜の接触位置座標を検出する座標検出装置の製造方法において、
絶縁体からなる基板上に形成されている前記抵抗膜上における前記抵抗膜が除去される抵抗膜除去領域となる領域上にエッチングペーストを印刷する工程と、
熱処理を行うことにより、前記エッチングペーストの形成された領域における抵抗膜を除去する工程と、
前記熱処理を行った後、残存する前記エッチングペーストを除去する工程と、
からなる座標検出装置の製造方法であって、
前記抵抗膜除去領域の外側には前記共通電極が形成されており、前記共通電極の端と、前記抵抗膜除去領域の端の間隔が、0〔mm〕以上、5〔mm〕以下であることを特徴とする座標検出装置の製造方法。 - 抵抗膜除去領域は、前記抵抗膜除去領域の周囲の抵抗膜を除去した部分と、前記部分の内側に形成される抵抗膜残存部とにより形成されるものであって、前記抵抗膜残存部は、前記抵抗膜とは電気的に絶縁された構造であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の座標検出装置の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008128139A JP5086886B2 (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 座標検出装置の製造方法 |
US12/463,468 US8133660B2 (en) | 2008-05-15 | 2009-05-11 | Method of manufacturing a coordinate detector |
KR1020090041704A KR101077731B1 (ko) | 2008-05-15 | 2009-05-13 | 좌표 검출 장치의 제조 방법 |
TW098116055A TWI522883B (zh) | 2008-05-15 | 2009-05-14 | 座標檢測器之製造方法 |
CN2009101390634A CN101582004B (zh) | 2008-05-15 | 2009-05-15 | 制造坐标检测器的方法 |
US13/365,410 US8507183B2 (en) | 2008-05-15 | 2012-02-03 | Method of manufacturing a coordinate detector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008128139A JP5086886B2 (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 座標検出装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009277046A JP2009277046A (ja) | 2009-11-26 |
JP5086886B2 true JP5086886B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=41316500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008128139A Expired - Fee Related JP5086886B2 (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 座標検出装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8133660B2 (ja) |
JP (1) | JP5086886B2 (ja) |
KR (1) | KR101077731B1 (ja) |
CN (1) | CN101582004B (ja) |
TW (1) | TWI522883B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5086886B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2012-11-28 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置の製造方法 |
KR101073333B1 (ko) * | 2009-08-27 | 2011-10-12 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 |
KR101365332B1 (ko) * | 2011-10-25 | 2014-02-20 | 삼성전기주식회사 | 도전 기판 및 그 제조방법 |
CN102707838A (zh) * | 2012-05-08 | 2012-10-03 | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 | 触控面板结构 |
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JP2020505315A (ja) * | 2017-01-31 | 2020-02-20 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスシート縁部粒子の削減方法 |
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CN208538435U (zh) * | 2018-08-01 | 2019-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4661655B1 (en) * | 1984-12-24 | 1997-01-21 | Elographics Inc | Electrographic touch sensor and method of reducing bowed equipotential fields therein |
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JPH0612508B2 (ja) * | 1990-09-27 | 1994-02-16 | グンゼ株式会社 | 接触式位置検出装置 |
JPH0546306A (ja) * | 1991-08-19 | 1993-02-26 | Fujitsu Ltd | 座標入力装置 |
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JPH09146707A (ja) * | 1995-11-17 | 1997-06-06 | Itochu Fine Chem Kk | ガラスタッチパネル |
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JP3799639B2 (ja) * | 1995-12-11 | 2006-07-19 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標入力装置 |
JP3984670B2 (ja) | 1996-09-06 | 2007-10-03 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置 |
JP2001125724A (ja) | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Finput Co Ltd | タッチパネル |
KR100329576B1 (ko) * | 2000-04-26 | 2002-03-23 | 김순택 | 터치 패널과 이의 제조방법 |
KR100505536B1 (ko) | 2002-03-27 | 2005-08-04 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 투명한 도전성 박막, 그것의 제조방법, 그것의 제조를위한 소결 타겟, 디스플레이 패널용의 투명한 전기전도성기재, 및 유기 전기루미네선스 디바이스 |
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CN100363826C (zh) * | 2002-08-26 | 2008-01-23 | 中佛罗里达州大学研究基金会股份有限公司 | 高速、宽视角液晶显示器 |
US7180508B2 (en) * | 2002-09-17 | 2007-02-20 | Tyco Electronics Corporation | Dynamic corrections for a non-linear touchscreen |
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KR100573931B1 (ko) | 2005-09-27 | 2006-04-26 | 한국표준과학연구원 | 면저항 인증표준물질 제조방법 |
JP4802778B2 (ja) * | 2006-03-13 | 2011-10-26 | ソニー株式会社 | 入力装置、電気光学装置並びに電子機器 |
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JP4996531B2 (ja) * | 2008-04-23 | 2012-08-08 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置 |
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JP5086886B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2012-11-28 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置の製造方法 |
JP5065152B2 (ja) * | 2008-05-19 | 2012-10-31 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置の製造方法 |
-
2008
- 2008-05-15 JP JP2008128139A patent/JP5086886B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-05-11 US US12/463,468 patent/US8133660B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-05-13 KR KR1020090041704A patent/KR101077731B1/ko active IP Right Grant
- 2009-05-14 TW TW098116055A patent/TWI522883B/zh not_active IP Right Cessation
- 2009-05-15 CN CN2009101390634A patent/CN101582004B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-03 US US13/365,410 patent/US8507183B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI522883B (zh) | 2016-02-21 |
TW200947293A (en) | 2009-11-16 |
US20090286186A1 (en) | 2009-11-19 |
KR101077731B1 (ko) | 2011-10-27 |
JP2009277046A (ja) | 2009-11-26 |
CN101582004A (zh) | 2009-11-18 |
CN101582004B (zh) | 2012-12-26 |
US8133660B2 (en) | 2012-03-13 |
KR20090119716A (ko) | 2009-11-19 |
US8507183B2 (en) | 2013-08-13 |
US20120125881A1 (en) | 2012-05-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120614 |
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