JP5081559B2 - 測定装置 - Google Patents
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Description
また、一つの走査線において受光位置のピーク値が明確とならず、受光位置が確定できない場合でも、その走査線において検出されたデータと同じ投光量において検出された他の走査線で検出されたデータに基づいて、好適に受光位置が推定される。
図1に示すように、本実施の形態にかかる測定装置10は、投光手段としての投光素子11から対象物としてのワークW及びワークWが載置された測定台Tに対して線状のレーザ光を照射し、ワークWにて反射された光をイメージセンサ12で受光するように構成されている。なお、測定台Tの表面は反射率が低く、ワークWの表面は光沢があり非常に反射率が高い。
(1)測定装置10では、投光素子11から照射されるレーザ光の投光量を増減させることで、受光位置の検出に用いられる受光信号のレベルが変更され、それぞれのレベルにおいて検出された受光位置に基づいて、ワークW及び測定台Tの受光位置が求められる。これにより、受光信号のレベルを強くすることで反射率が低い部分(測定台T)の測定を行うことができ、受光量のレベルを弱くすることで反射率が高い部分(ワークW)の測定を行うことができ、対象物に反射率の高い部分と低い部分が混在していても、正確に測定を行うことができる。
・上記実施形態では、投光素子11を構成する複数のLDに対して、投光させるLDの数を変更して投光量を調整するようにしたが、1つのLDに対して供給する電流量を制御して投光量を調整するようにしてもよい。また、投光素子11と対象物との間にフィルタ等の透過光の光量を調整可能な光学素子と、その光学素子を移動させるモータ等のアクチュエータとを投光制御手段として備える構成としてもよい。
・上記実施形態において、投光素子11はLDに限定されず、例えばLED(発光ダイオード)を用いてもよい。
Claims (5)
- 対象物に線状の光を照射する投光手段と、前記投光手段から照射され前記対象物で反射した線状の反射光を受光する二次元撮像手段と、前記二次元撮像手段の走査線毎に受光量に応じた受光信号を出力する受光処理手段と、前記受光処理手段から入力した受光信号に基づいて前記対象物の受光位置を検出する受光位置検出手段とを備えた測定装置であって、
前記投光手段の投光量を予め決められた複数段階の量に変更することにより前記二次元撮像手段の受光量を変更して、前記受光位置検出手段に入力される受光信号のレベルを変更する変更手段と、
前記変更手段により受光信号のレベルを変更するとともに、各レベルにおいて検出された受光位置の選択に基づいて前記各走査線毎に前記対象物の受光位置を求める制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記受光位置検出手段により一つの走査線において複数の受光位置が検出された場合は、同じ投光量において検出された他の走査線の受光位置との平均位置をその走査線での受光位置とすることを特徴とする測定装置。 - 請求項1に記載の測定装置において、
前記制御手段は、前記変更手段による受光信号のレベルの変更によって一つの走査線において複数の受光位置が検出された場合は、それら複数の受光位置の平均位置をその走査線での受光位置とすることを特徴とする測定装置。 - 請求項1又は2に記載の測定装置において、
前記変更手段により変更する前記投光手段の投光量を調整する調整手段を備えたことを特徴とする測定装置。 - 請求項1〜3のうち何れか1項に記載の測定装置において、
前記受光位置検出手段は、前記受光信号が所定の範囲内である場合に受光位置を検出することを特徴とする測定装置。 - 請求項1〜4のうち何れか1項に記載の測定装置において、
前記受光位置検出手段が受光位置を検出しない場合は、その旨を報知する報知手段を備えたことを特徴とする測定装置。
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