JP5079829B2 - 有機発光表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は、有機発光表示装置に係り、さらに詳細には、工程の効率性を向上させ、コントラストを向上させうる有機発光表示装置に関する。
近来、ディスプレイ装置は、携帯可能な薄型の平板表示装置に代替されている。平板ディスプレイ装置のうちでも電界発光表示装置は、自発光型ディスプレイ装置であって、視野角が広く、かつコントラストに優れるだけでなく、応答速度が速いという長所を有していて、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層の形成物質が有機物で構成される有機発光表示装置は、無機発光表示装置に比べて、輝度、駆動電圧及び応答速度特性に優れており、多色化が可能であるという長所を有している。
有機発光表示装置が天然色の可視光線を具現するために、赤色、緑色及び青色の色を発光する有機発光層を形成する。しかし、この場合、赤色、緑色及び青色のそれぞれに該当する有機発光層は、異なる寿命特性を有しており、長時間駆動する場合、ホワイトバランスを維持し難いという短所がある。
これを解決するために、単一色の光を放出する有機発光層を形成し、有機発光層から放出される光から所定色に該当する光を抽出するためのカラーフィルタ層または有機発光層から放出される光を所定色の光に変換する色変換層を形成する方法がある。
一方、有機発光表示装置のコントラストを向上するために、可視光線を吸収する物質としてブラックマトリックス(Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ)を形成することもある。
カラーフィルタ層及びＢＭをいずれも含む有機発光表示装置を形成して、コントラストの向上及びホワイトバランスの維持を容易にできる。しかし、カラーフィルタ層及びＢＭは、所定のパターニングを必要とし、カラーフィルタ層及びＢＭを共に含む有機発光表示装置の製造が容易ではなく、製造効率性が低下する。したがって、カラーフィルタ層及びＢＭをいずれも含む有機発光表示装置の特性の向上に限界がある。
本発明が解決しようとする課題は、工程の効率性を向上させ、コントラストを向上させうる有機発光表示装置を提供することである。
前記課題を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上に形成され、有機発光素子を備える表示部と、前記表示部を封止するように前記表示部上に形成される封止層と、前記封止層上に形成されるカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に形成される保護層と、前記保護層上に形成されるブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）と、を備える有機発光表示装置を開示する。
本発明において、前記保護層は、前記カラーフィルタ層を覆うように形成されうる。
本発明において、前記保護層は、無機物を含有できる。
本発明において、前記保護層は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコン及び窒化アルミニウムからなる群から選択されたいずれか一つを含みうる。
本発明において、前記ＢＭ上に形成されたカバー層をさらに備えうる。
本発明において、前記カバー層は、前記ＢＭ及び前記保護層を覆うように形成されうる。
本発明において、前記カバー層は、無機物を含有できる。
本発明において、前記カバー層は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコン及び窒化アルミニウムからなる群から選択されたいずれか一つを含みうる。
本発明に関する有機発光表示装置は、工程の効率性及びコントラストが向上する。
以下、添付した図面に示された本発明に関する実施形態を参照して、本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置を示した概略的な断面図であり、図２は、図１のＡの拡大図である。具体的に、図１及び図２は、パッシブマトリックス(Ｐａｓｓｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ：ＰＭ)型の有機発光表示装置１００を示す。
有機発光表示装置１００は、基板１０１、表示部１２０、封止層１３０、カラーフィルタ層１４０、保護層１５０、ブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）１６０及びカバー層１７０を備える。
基板１０１は、ＳｉＯ２を主成分とする透明なガラス材質で形成されうる。基板１０１は、必ずしもこれに限定されず、透明なプラスチック材で形成することもある。プラスチック材で基板１０１を形成する場合、基板１０１は、ポリエーテルスルホン(ＰＥＳ：Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ)、ポリアクリレート(ＰＡＲ：Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ)、ポリエーテルイミド(ＰＥＩ：Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ)、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ：Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ)、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ)、ポリフェニレンスルフィド(ＰＰＳ：Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｓｕｌｆｉｄｅ）、ポリアリレート(Ｐｏｌｙａｌｌｙｌａｔｅ)、ポリイミド(Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)、ポリカーボネート(Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ：ＰＣ)、セルローストリアセテート(ＴＡＣ：Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ Ｔｒｉａｃｅｔａｔｅ)、セルロースアセテートプロピオネート(Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ Ａｃｅｔａｔｅ Ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ：ＣＡＰ)からなる群から選択される有機物を含みうる。
画像が基板１０１方向に具現される背面発光型有機発光表示装置である場合に、基板１０１は、透明な材質で形成せねばならない。しかし、画像が基板１０１の逆方向に具現される前面発光型有機発光表示装置である場合に、基板１０１は、必ずしも透明な材質で形成する必要はない。この場合、金属で基板１０１を形成できる。金属で基板１０１を形成する場合、基板１０１は、炭素、鉄、クロム、マンガン、ニッケル、チタン、モリブデン、ステンレススチール(ＳＵＳ）、Ｉｎｖａｒ合金、Ｉｎｃｏｎｅｌ合金及びＫｏｖａｒ合金からなる群から選択された一つ以上を含みうるが、これに限定されない。また、基板１０１は、金属フォイルで形成できる。
基板１０１上に表示部１２０が形成される。表示部１２０は、画像を具現する有機発光素子１２５を備えている。図２は、図１のＡの拡大図であって、表示部１２０を詳細に示している。表示部１２０は、有機発光素子１２５を備えるが、有機発光素子１２５は、第１電極１２１、中間層１２２及び第２電極１２３を備える。
基板１０１上にアノード電極である第１電極１２１が形成される。第１電極１２１は、フォトリソグラフィ法によって所定のパターンに形成する。第１電極１２１は、透明電極または反射電極に形成できる。第１電極１２１を透明電極に形成する時は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で形成でき、反射電極に形成する時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で膜を形成することによって形成できる。
前記は、第１電極１２１がアノード電極である場合を例としたが、第１電極１２１がカソード電極ともなりうる。第１電極１２１がカソード電極である場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物のような仕事関数が低い金属物質で形成できる。
第１電極１２１上に中間層１２２が形成される。中間層１２２は、有機発光層を備える。中間層１２２は、第１中間層１２２ａ、第２中間層１２２ｂ、第３中間層１２２ｃを備える。第１、２、３中間層１２２ａ,１２２ｂ,１２２ｃは、いずれも同一色の可視光線を発光する有機発光層を備えうる。その例として、中間層１２２は、白色または青色の可視光線を発光する有機発光層でありうる。
しかし、本発明は、これに限定されない。すなわち、第１、２、３中間層１２２ａ,１２２ｂ,１２２ｃは、それぞれ後述するカラーフィルタ層１４０に対応するように多様な色を発光する有機発光層を備えることもある。
中間層１２２は、多様な有機物で形成できる。中間層１２２の有機発光層が低分子有機物で形成される場合、中間層１２２は、有機発光層を中心に、第１電極１２１の方向にホール輸送層(Ｈｏｌｅ Ｔｒａｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ)及びホール注入層(Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ：ＨＩＬ)が積層され、第２電極１２３の方向に電子輸送層(Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ：ＥＴＬ)及び電子注入層(Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ：ＥＩＬ)が積層されるように形成される。それ以外にも、必要に応じて、中間層１２２は、多様な層を備えうる。中間層１２２を形成するために使用可能な有機材料も銅フタロシアニン(ＣｕＰｃ：Ｃｏｐｐｅｒ Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ)、Ｎ,Ｎ−ジ(ナフタレン−１−イル)−Ｎ,Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン(ＮＰＢ)、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Ａｌｑ３)をはじめとして、多様に適用可能である。
一方、中間層１２２の有機発光層が高分子有機物で形成される場合には、有機発光層を中心に、第１電極１２１の方向にＨＴＬのみを備えうる。このような高分子ＨＴＬは、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン(ＰＥＤＯＴ：Ｐｏｌｙ−(２,４)−Ｅｔｈｙｌｅｎｅ−ＤｉｈｙｄｒｏｘｙＴｈｉｏｐｈｅｎｅ)やポリアニリン(ＰＡＮＩ：Ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ)を使用して、インクジェットプリンティングやスピンコーティング法によって第１電極１２１の上部に形成され、高分子有機発光層は、ＰＰＶ、可溶性ＰＰＶ、ＣＮ−ＰＰＶ、ポリフルオレンを使用でき、インクジェットプリンティングやスピンコーティングまたはレーザを利用した熱転写方式のような通常の方法でカラーパターンを形成できる。
中間層１２２上に第２電極１２３が形成されるが、第１電極１２１と交差する方向に形成される。第２電極１２３は、透明電極または反射電極で形成できるが、第２電極１２３を透明電極で形成する時には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇ及びこれらの化合物が中間層に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３のような透明な導電性物質で補助電極やバス電極ラインを形成することによって、第２電極１２３を形成できる。第２電極１２３が反射電極である場合には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇ及びこれらの化合物を蒸着して形成できる。以上は、第２電極１２３がカソード電極である場合である。
第２電極１２３がアノード電極である場合、第２電極１２３は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３のような仕事関数が高い透明導電物質で形成する。
有機発光素子１２５の第１電極１２１及び第２電極１２３に電圧を印加すれば、中間層１２２の有機発光層から可視光線が発光する。
第２電極１２３上に封止層１３０が形成される。封止層１３０は、有機発光素子１２５を外部の酸素や水分から保護するためのものであって、有機物、無機物または有機物と無機物との重畳構造に形成できる。
この時、封止層１３０を有機物または無機物を積層して形成するので、薄膜の封止層１３０を具現できる。望ましくは、封止層１３０を０.３μｍ以下に形成して薄膜の有機発光表示装置１００を容易に製造できる。
封止層１３０を形成するための無機物は、多様であるが、具体的に、封止層１３０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含みうる。このような無機物は、外部の水分または酸素が有機発光素子１２５に浸透することを防止する。
また、封止層１３０を形成するための有機物は、多様な物質を含む。具体的な例として、封止層１３０を形成するための有機物は、フォトアクリル系有機物またはＳｉＯＣを含む。有機物は、微細なパーチクルを覆うことができるので、表面が平坦な封止層１３０を容易に形成できる。
封止層１３０は、有機物の単一層、無機物の単一層、有機物の複数層、無機物の複数層または有機物/無機物積層体でありうる。
封止層１３０上にカラーフィルタ層１４０が形成される。カラーフィルタ層１４０は、第１カラーフィルタ層１４０ａ、第２カラーフィルタ層１４０ｂ、第３カラーフィルタ層１４０ｃを備える。カラーフィルタ層１４０は、下部の第１電極１２１に対応するように形成される。
第１カラーフィルタ層１４０ａ、第２カラーフィルタ層１４０ｂ及び第３カラーフィルタ層１４０ｃは、異なる色を具現するが、例えば、第１カラーフィルタ層１４０ａは、赤色カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層１４０ｂは、緑色カラーフィルタ層、第３カラーフィルタ層１４０ｃは、青色カラーフィルタ層でありうる。
カラーフィルタ層１４０は、多様な方法で形成できる。具体的に、レーザ熱転写法を利用すれば、カラーフィルタ層１４０の下部の封止層１３０及び有機発光素子１２５に影響を与えず、カラーフィルタ層１４０を形成し易い。
カラーフィルタ層１４０上にカラーフィルタ層１４０を覆うように保護層１５０が形成される。保護層１５０は、無機物を含むことが望ましい。具体的に、保護層１５０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含む。
保護層１５０上にＢＭ １６０を形成する。ＢＭ １６０は、所定のパターンに形成されるが、有機発光素子１２５の非発光部に対応するように形成される。ＢＭ １６０が外部から入射した可視光線を吸収し、カラーフィルタ１４０を通じて出る可視光線の混色及び干渉を防止して、有機発光表示装置１００のコントラストを向上する。
ＢＭ １６０は、所定のパターンを有するように黒色の物質を塗布した後に、フォトリソグラフィ法の工程を経て形成されるが、この時、下部のカラーフィルタ層１４０が損傷される恐れがある。特に、ＢＭ １６０とカラーフィルタ層１４０とが接着すれば、ＢＭ １６０のパターニング工程中にカラーフィルタ層１４０が損傷されるか、またはＢＭ １６０のパターニングが不完全になる問題が生じる。
しかし、本実施形態の有機発光表示装置１００は、カラーフィルタ層１４０とＢＭ １６０との間に保護層１５０が介在する。保護層１５０がカラーフィルタ層１４０を覆ってカラーフィルタ層１４０とＢＭ １６０とは、離隔される。これを通じて、ＢＭ １６０をパターニングする工程中にカラーフィルタ層１４０が損傷されることを防止できる。また、ＢＭ １６０がカラーフィルタ層１４０に接着されることを防止して、ＢＭ １６０のパターニング特性が向上する。
特に、保護層１５０が無機物を含有する場合、ＢＭ １６０のパターニング工程のうち、現像工程を進める時に、保護層１５０は、現像液と反応しないので、保護層１５０は、現像液によって損傷されず、保護層１５０とＢＭ １６０との接着力が大きくないので、ＢＭ １６０のパターニングも容易になる。
それから、ＢＭ １６０上にカバー層１７０を形成できる。カバー層１７０は、ＢＭ １６０及び保護層１５０を覆って基板１０１に接触する。特に、カバー層１７０は、封止層１３０より大きく形成され、望ましくは、基板１０１のエッジ領域に対応するようにカバー層１７０を形成できる。これを通じて、ＢＭ １６０、カラーフィルタ層１４０を外部から保護できる。
カバー層１７０は、無機物を含む。具体的に、カバー層１７０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含む。
図３は、本発明の他の実施形態に関する有機発光表示装置を示した概略的な断面図であり、図４は、図３のＢの拡大図である。具体的に、図３及び図４は、アクティブマトリックス(Ａｃｔｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ：ＡＭ)型の有機発光表示装置２００を示す。
図３及び図４を参照すれば、基板２０１の上部に薄膜トランジスタ(ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ)と、これに連結された有機発光素子２２５とが示されている。ＴＦＴは、活性層２０３、ゲート電極２０５、ソース電極２０７及びドレイン電極２０８を備える。これを具体的に説明する。
基板２０１の上面には、基板２０１の上部を平坦にし、基板２０１に不純元素が浸透することを遮断するために、バッファ層２０２が形成されている。バッファ層２０２は、ＳｉＯ２及び/またはＳｉＮＸで形成できる。
バッファ層２０１上に所定パターンの活性層２０３が形成される。活性層２０３は、アモルファスシリコンまたはポリシリコンのような無機半導体や有機半導体で形成され、ソース領域、ドレイン領域及びチャンネル領域を備える。
活性層２０３の上部には、ゲート絶縁膜２０４が形成されるが、ゲート絶縁膜２０４は、金属酸化物または金属窒化物のような無機物で形成されるか、または絶縁性高分子のような有機物で形成されることもある。また、ゲート絶縁膜２０４は、ＳｉＯ２、ＳｉＮＸで形成されうる。
ゲート絶縁膜２０４の上部の所定領域には、ゲート電極２０５が形成される。ゲート電極２０５は、ＴＦＴのオン/オフ信号を印加するゲートライン(図示せず)と連結されている。ゲート電極２０５は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｍｏ、またはＡｌ：Ｎｄ、Ｍｏ：Ｗ合金のような金属または金属の合金で形成されうるが、これに限定されない。
ゲート電極２０５の上部には、層間絶縁膜２０６を形成し、コンタクトホールを通じてソース電極２０７及びドレイン電極２０８がそれぞれ活性層２０３のソース及びドレイン領域に接するように形成する。このように形成したＴＦＴは、絶縁膜２０９を覆って保護する。
絶縁膜２０９は、無機物及び/または有機物を使用して形成できるが、無機物には、ＳｉＯ２、ＳｉＮＸ、ＳｉＯＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、ＢＳＴ、ＰＺＴが含まれ、有機物には、一般汎用高分子(ＰＭＭＡ、ＰＳ）、フェノール基を有する高分子誘導体、アクリル系高分子、イミド系高分子、アリールエーテル系高分子、アミド系高分子、フッ素系高分子、ｐ−キシレン系高分子、ビニルアルコール系高分子及びこれらの混合物が含まれうる。絶縁膜２０９は、無機絶縁膜及び有機絶縁膜の複合積層物でも形成できる。
絶縁膜２０９の上部には、有機発光素子２２５のアノード電極となる第１電極２２１が形成される。第１電極２２１は、フォトリソグラフィ法によって、各画素に対応するように形成される。
第１電極２２１を覆うように絶縁物で画素定義膜２１０が形成される。この画素定義膜２１０に所定の開口を形成した後、この開口に限定された領域内に中間層２２２が形成される。
中間層２２２は、有機発光層を備える。中間層２２２は、第１中間層２２２ａ、第２中間層２２２ｂ、第３中間層２２２ｃを備える。第１、２、３中間層２２２ａ、２２２ｂ、２２２ｃは、いずれも同じ可視光線を発光する有機発光層を備えうる。その例として、中間層１２２は、白色または青色有機発光層でありうる。
しかし、本発明は、これに限定されない。すなわち、第１、２、３中間層２２２ａ、２２２ｂ、２２２ｃは、それぞれ後述するカラーフィルタ層２４０に対応するように、多様な色を発光する有機発光層を備えることもある。
そして、全体画素をいずれも覆うように、有機発光素子２２５のカソード電極となる第２電極２２３が形成される。もちろん、第１電極２２１と第２電極２２３との極性は、互いに逆に変わってもよい。
第１電極２２１と第２電極２２３とを形成する材料は、前述した実施形態と同じであるので、ここでは、説明を省略する。
第２電極２２３上に封止層２３０が形成される。封止層２３０は、有機発光素子２２５を外部の酸素や水分から保護するためのものとして、有機物、無機物または有機物と無機物との重畳構造で形成できる。
封止層２３０を形成するための無機物は、多様であるが、具体的に、封止層２３０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含みうる。
また、封止層２３０を形成するための有機物は、多様な物質を含む。具体的な例として、封止層２３０を形成するための有機物は、フォトアクリル系有機物またはＳｉＯＣを含む。
封止層２３０は、有機物の単一層、無機物の単一層、有機物の複数層、無機物の複数層または有機物/無機物積層体でありうる。
封止層２３０上にカラーフィルタ層２４０が形成される。カラーフィルタ層２４０は、第１カラーフィルタ層２４０ａ、第２カラーフィルタ層２４０ｂ、第３カラーフィルタ層２４０ｃを備える。カラーフィルタ層２４０は、下部の第１電極２２１に対応するように形成される。
第１カラーフィルタ層２４０ａ、第２カラーフィルタ層２４０ｂ及び第３カラーフィルタ層２４０ｃは、異なる色を具現するが、例えば、第１カラーフィルタ層２４０ａは、赤色カラーフィルタ層、第２カラーフィルタ層２４０ｂは、緑色カラーフィルタ層、第３カラーフィルタ層２４０ｃは、青色カラーフィルタ層でありうる。
カラーフィルタ層２４０は、多様な方法で形成できる。例えば、フォトリソグラフィ法を利用して、カラーフィルタ層２４０をパターニングできる。
カラーフィルタ層２４０上にカラーフィルタ層２４０を覆うように、保護層２５０が形成される。保護層２５０は、無機物を含む。具体的に、保護層２５０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含む。
保護層２５０上にＢＭ ２６０を形成する。ＢＭ ２６０は、所定のパターンで形成されるが、有機発光素子２２５の非発光部に対応するように形成される。ＢＭ ２６０が外部から入射した可視光線を吸収し、カラーフィルタ２４０を通じて出る可視光線の混色及び干渉を防止して、有機発光表示装置２００のコントラストを向上する。
ＢＭ ２６０は、所定のパターンを有するように、黒色の物質を塗布した後に、フォトリソグラフィ法のような工程を経て形成されるが、この時、下部のカラーフィルタ層２４０が損傷される恐れがある。特に、ＢＭ ２６０とカラーフィルタ層２４０とが接着すれば、ＢＭ ２６０のパターニング工程中にカラーフィルタ層２４０が損傷されるか、またはＢＭ ２６０のパターニングが不完全になるという問題が発生する。
しかし、本実施形態の有機発光表示装置２００は、カラーフィルタ層２４０とＢＭ ２６０との間に保護層２５０が介在する。保護層２５０がカラーフィルタ層２４０を覆って、カラーフィルタ層２４０とＢＭ ２６０とは、離隔される。これにより、ＢＭ ２６０をパターニングする工程中にカラーフィルタ層２４０が損傷されることを防止できる。また、ＢＭ ２６０がカラーフィルタ層２４０に接着されることを防止して、ＢＭ ２６０のパターニング特性が向上する。
特に、保護層２５０が無機物を含有するので、ＢＭ２６０のパターニング時に保護層２５０が損傷されず、ＢＭ２６０のパターニングも容易になる。
ＢＭ ２６０上にカバー層２７０を形成する。カバー層２７０は、ＢＭ ２６０、保護層２５０を覆うように形成される。カバー層２７０は、封止層２３０と同じサイズに形成するか、または封止層２３０より大きく形成されうる。カバー層２７０は、ＢＭ ２６０、カラーフィルタ層２４０を外部から保護できる。
カバー層２７０は、無機物を含む。具体的に、カバー層２７０は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコンまたはアルミニウムナイトライドを含む。
以上、トップゲート構造のアクティブマトリックス型有機発光表示装置２００のみを説明したが、前述したように、本発明は、これに限定されず、その他の多様な形態の有機発光表示装置に適用可能である。特に、柔軟性を備えたフレキシブル構造、折り畳み構造、超薄膜構造の表示装置に有効に適用できる。
図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
本発明は、有機発光表示装置関連の技術分野に好適に適用可能である。
１００,２００ 有機発光表示装置
１０１,２０１ 基板
１２０,２２０ 表示部
１３０,２３０ 封止層
１４０,２４０ カラーフィルタ層
１５０,２５０ 保護層
１６０,２６０ ＢＭ
１７０,２７０ カバー層
１０１,２０１ 基板
１２０,２２０ 表示部
１３０,２３０ 封止層
１４０,２４０ カラーフィルタ層
１５０,２５０ 保護層
１６０,２６０ ＢＭ
１７０,２７０ カバー層
Claims (6)
- 基板と、
前記基板上に形成され、有機発光素子を備える表示部と、
前記表示部を封止するように前記表示部上に形成される封止層と、
前記封止層上に形成されるカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層上に形成される保護層と、
前記保護層上に形成されるブラックマトリックスと、を備え、
前記保護層は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコン及び窒化アルミニウムからなる群から選択されたいずれか一つの無機物を含むことで、前記カラーフィルタ層への前記ブラックマトリックスの接着を防止して、該カラーフィルタ層の損傷を防止することを特徴とする有機発光表示装置。 - 前記保護層は、前記カラーフィルタ層を覆うように形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示装置。
- 前記ブラックマトリックス上に形成されたカバー層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示装置。
- 前記カバー層は、前記ブラックマトリックス及び前記保護層を覆うように形成されることを特徴とする請求項３に記載の有機発光表示装置。
- 前記カバー層は、無機物を含有することを特徴とする請求項３に記載の有機発光表示装置。
- 前記カバー層は、酸化カルシウム、アルミナ、シリカ、チタニア、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、窒化シリコン及び窒化アルミニウムからなる群から選択されたいずれか一つを含むことを特徴とする請求項３に記載の有機発光表示装置。
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