JP5078460B2 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 - Google Patents
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Description
被加工面が画定された加工対象物を、該被加工面に沿う方向に移動可能に保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された加工対象物の被加工面の一部の領域にレーザビームを入射させるレーザ光学系と、
前記保持機構に保持された加工対象物を、被加工面に沿う方向に移動させる移動機構と、
前記保持機構に保持された加工対象物の、前記レーザ光学系からのレーザビームが入射する領域を支持し、支持されている領域を、被加工面に対して高さ方向に変位させる高さ調整機構と
を有し、前記高さ調整機構は、エアベアリングと、前記エアベアリングを前記保持機構に対して高さ方向に変位させる昇降機構とを含むとともに、該高さ調整機構に対し、被加工面に沿う方向に関して前記加工対象物が相対的に移動可能に該加工対象物の一部を支持するレーザ加工装置が提供される。
被加工面が画定された可撓制を有する加工対象物を、該被加工面に沿う方向に移動可能に保持する保持機構と、前記保持機構に保持された加工対象物の一部を支持するエアベアリングとの上に、前記加工対象物を保持する工程と、
(a)前記エアベアリングを前記保持機構に対して高さ方向に変位させて、前記加工対象物を撓ませることによって、レーザビームの経路内の部分を、該被加工面に関して高さ方向に変位させる工程と、
(b)前記レーザビームの経路内の部分を変位させた後、変位した部分にレーザビームを入射させる工程と
を有するレーザ加工方法が提供される。
31a、31b 折り返しミラー
32 ホモジナイザ
32a フォーカスレンズ
40、40a〜40f 基板浮上パッド
41 高さ検出器
42 高さ制御機構
43a、43b ガイド
44a、44b 基板保持器
45 基板搬送手段
50 基板
55 ビーム入射位置
60 エア
70a、70b、73a、73b ガイド
71a、71b、74a、74b 基板保持器
72 X軸方向基板搬送手段
75 Y軸方向基板搬送手段
LB レーザビーム
Claims (5)
- 被加工面が画定された加工対象物を、該被加工面に沿う方向に移動可能に保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された加工対象物の被加工面の一部の領域にレーザビームを入射させるレーザ光学系と、
前記保持機構に保持された加工対象物を、被加工面に沿う方向に移動させる移動機構と、
前記保持機構に保持された加工対象物の、前記レーザ光学系からのレーザビームが入射する領域を支持し、支持されている領域を、被加工面に対して高さ方向に変位させる高さ調整機構と
を有し、前記高さ調整機構は、エアベアリングと、前記エアベアリングを前記保持機構に対して高さ方向に変位させる昇降機構とを含むとともに、該高さ調整機構に対し、被加工面に沿う方向に関して前記加工対象物が相対的に移動可能に該加工対象物の一部を支持するレーザ加工装置。 - 更に、加工対象物の被加工面の高さ方向に関して、前記レーザ光学系からのレーザビームが入射する領域の加工対象物の位置を検出する高さ検出器を含む請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記保持機構は、加工対象物を気体で浮上させて保持する請求項1または2に記載のレーザ加工装置。
- 被加工面が画定された可撓制を有する加工対象物を、該被加工面に沿う方向に移動可能に保持する保持機構と、前記保持機構に保持された加工対象物の一部を支持するエアベアリングとの上に、前記加工対象物を保持する工程と、
(a)前記エアベアリングを前記保持機構に対して高さ方向に変位させて、前記加工対象物を撓ませることによって、レーザビームの経路内の部分を、該被加工面に関して高さ方向に変位させる工程と、
(b)前記レーザビームの経路内の部分を変位させた後、変位した部分にレーザビーム
を入射させる工程と
を有するレーザ加工方法。 - さらに、前記加工対象物を、レーザビームの経路に対して、被加工面に沿って移動させながら前記工程(a)及び(b)を交互に繰り返す工程を含む請求項4に記載のレーザ加工方法。
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