JP5073917B2 - 電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップならびに該光電子半導体チップを製造するための方法 - Google Patents
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Description
−金属または金属合金から成るミラー層と、
−該ミラー層の腐食を低減するための保護層と、
−バリア層と、
−付着媒介層(Haftvermittlungsschicht)と、
−はんだ層と
を有しているようにした。
2 ミラー層
3 保護層
4 バリア層
5 付着媒介層
6 濡れ層
7 金層
8 はんだ層
9 金層
10 マスク層
11 不働態化部
12 蒸着方向
13 薄い層
Claims (26)
- 電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップ(1)において、
該電気的なコンタクトが、
−金属または金属合金から成るミラー層(2)と、
−該ミラー層(2)の腐食を低減するための保護層(3)と、
−バリア層(4)と、
−付着媒介層(5)と、
−はんだ層(8)と
を有しており、
−光電子半導体チップ(1)が、電気的なコンタクトによって支持体に結合されており、
−はんだ層(8)の材料が、支持体の材料と共に1つの合金を形成するために適しており、
−はんだ層(8)がAuGeを含有しており、支持体がGeを含有しているか、またははんだ層(8)がAuSiを含有しており、支持体がSiを含有している
ことを特徴とする、電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップ。 - 当該電気的なコンタクトが、付着媒介層(5)とはんだ層(8)との間に濡れ層(6)を有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 当該電気的なコンタクトが、半導体チップ(1)の、窒化物系化合物半導体材料を有する表面に被着されている、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- ミラー層(2)が銀、アルミニウムまたは白金を含有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- ミラー層(2)が70nm〜130nmの厚さを有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- ミラー層(2)の付着を改善するために、導電性材料から成る0.1〜0.5nmの薄い層(13)が半導体チップ(1)とミラー層(2)との間に含まれている、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 半導体チップ(1)の表面が窒化物系化合物半導体材料を有しており、ミラー層(2)がAlまたはAgを含有しており、前記薄い層(13)がPt、PdまたはNiを含有している、請求項6記載の光電子半導体チップ。
- 保護層(3)がチタンまたは白金を含有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 保護層(3)が5nm〜15nmの厚さを有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- バリア層(4)が、ミラー層(2)と保護層(3)とを完全に覆い隠している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- バリア層(4)がTiW(N)を含有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- バリア層(4)が300nm〜500nmの厚さを有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 付着媒介層(5)がチタンを含有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 付着媒介層(5)が30nm〜70nmの厚さを有している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 濡れ層(6)が白金を含有している、請求項2記載の光電子半導体チップ。
- 濡れ層(6)が70nm〜130nmの厚さを有している、請求項2記載の光電子半導体チップ。
- 濡れ層(6)に金層(7)が被着されている、請求項2記載の光電子半導体チップ。
- はんだ層(8)に金層(9)が被着されている、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- はんだ層(8)に被着された金層(9)が約30nm〜70nmの厚さを有している、請求項18記載の光電子半導体チップ。
- はんだ層(8)の材料が、支持体の材料と共に1つの共晶合金を形成するために適している、請求項1記載の光電子半導体チップ。
- 前記薄い層(13)がパラジウムまたは酸化ニッケルを含有している、請求項6記載の光電子半導体チップ。
- 請求項1から21までのいずれか1項記載の、電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップを製造するための方法において、ミラー層(2)を銀から形成し、付着を改善するために約300℃で熱処理することを特徴とする、電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップを製造するための方法。
- 請求項1から21までのいずれか1項記載の、電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップを製造するための方法において、当該電気的なコンタクトをリフトオフ技術によって構造化することを特徴とする、電気的なコンタクトを有する光電子半導体チップを製造するための方法。
- リフトオフ技術のために半導体チップ(1)に被着されたマスク層(10)にアンダカットを施与し、ミラー層(2)を方向付けて蒸着させ、バリア層(4)を、方向付けされていない全面被覆法によって、該バリア層(4)がその下に位置する層を完全に覆い隠すように被着させる、請求項23記載の方法。
- 請求項6記載の光電子半導体チップを製造するための方法において、ミラー層(2)の付着を改善するために、導電性の材料から成る0.1〜0.5nmの薄い層(13)を、ミラー層(2)の被着前に半導体チップ(1)に被着させることを特徴とする、光電子半導体チップを製造するための方法。
- 半導体チップ(1)の表面が窒化物系化合物半導体材料を有しており、ミラー層(2)がAlまたはAgを含有しており、前記薄い層(13)がPt、PdまたはNiを含有している、請求項25記載の方法。
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