JP5059573B2 - Substrate holder, substrate transfer device, and substrate processing system - Google Patents

Substrate holder, substrate transfer device, and substrate processing system Download PDF

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Description

本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の基板を搬送する際にこれを保持する基板保持具およびこの基板保持具を備えた基板搬送装置および基板処理システムに関する。   The present invention relates to a substrate holder for holding, for example, a substrate for a flat panel display (FPD), a substrate transfer apparatus including the substrate holder, and a substrate processing system.

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に代表されるＦＰＤの製造過程においては、真空下でガラス基板等の基板に、エッチング、成膜等の各種処理が施される。ＦＰＤの製造には、基板処理室を複数備えた、いわゆるマルチチャンバタイプの基板処理システムが使用されている。このような基板処理システムは、基板を搬送する基板搬送装置が配備された搬送室と、この搬送室の周囲に設けられた複数のプロセスチャンバとを有している。そして、搬送室内の基板搬送装置によって、基板が各プロセスチャンバ内に搬入され、あるいは、処理済みの基板が各プロセスチャンバから搬出される。基板の搬送には、通例、フォークと呼ばれる基板保持具が使用される。フォークは、進出・退避が可能な搬送アーム部に取付られた共通の基部に複数の支持ピックが櫛歯状に形成された構造を有している。   In an FPD manufacturing process typified by a liquid crystal display (LCD), various processes such as etching and film formation are performed on a substrate such as a glass substrate under vacuum. In manufacturing the FPD, a so-called multi-chamber type substrate processing system including a plurality of substrate processing chambers is used. Such a substrate processing system has a transfer chamber in which a substrate transfer device for transferring a substrate is provided, and a plurality of process chambers provided around the transfer chamber. Then, the substrate is carried into each process chamber by the substrate carrying device in the carrying chamber, or the processed substrate is carried out from each process chamber. A substrate holder called a fork is usually used for transporting the substrate. The fork has a structure in which a plurality of support picks are formed in a comb-teeth shape on a common base attached to a transfer arm that can be advanced and retracted.

近時、ＦＰＤ用の基板に対する大型化の要求が強まっており、一辺が２ｍを超える巨大な基板を処理対象とする場合もある。そして、基板の大型化に対応して前記フォークも大型化している。フォークが大型化すると、基板を載置していない状態でも、その自重によって支持ピックの基端部から先端部へかけて弓状に撓みが生じる。また、大型基板をフォークに載置した状態では、さらに基板の荷重も加わる。このような撓みを防止するため、高剛性のセラミックスでフォークを形成することも行われている。しかし、セラミックス部品の製造には焼成工程が必要であるため、大型のフォークをセラミックスによって製造するためには大型の焼成炉が必要になる。この問題を解決するため、特許文献１では、リスト部と、リスト部と結合した複数のエンドエフェクタとを備え、該エンドエフェクタが、リスト部と結合した基部と、基部と結合した先端部とによって形成されているエンドエフェクタアセンブリが提案されている。つまり、特許文献１では、フォークの支持ピックを、その半分程度の長さで基部と先端部とに分割し、両者を継ぎ合わせた構造とすることにより、先端部として用いるセラミックス部品の製造を容易にしている。   Recently, there is an increasing demand for a large-sized FPD substrate, and there is a case where a huge substrate having a side of more than 2 m is processed. And the said fork is also enlarged corresponding to the enlargement of a board | substrate. When the fork is increased in size, even when the substrate is not placed, the bow is bent from the base end portion to the tip end portion of the support pick by its own weight. In addition, when the large substrate is placed on the fork, a load on the substrate is further applied. In order to prevent such bending, a fork is also formed from highly rigid ceramics. However, since a firing process is required for manufacturing ceramic parts, a large firing furnace is required to produce a large fork from ceramics. In order to solve this problem, Patent Document 1 includes a wrist unit and a plurality of end effectors coupled to the wrist unit, and the end effector includes a base unit coupled to the wrist unit and a tip unit coupled to the base unit. A formed end effector assembly has been proposed. In other words, in Patent Document 1, the fork support pick is divided into a base part and a tip part of about half the length of the pick, and a structure in which both are joined together makes it easy to manufacture a ceramic part used as the tip part. I have to.

ところで、フォークにおける支持ピックの材質として、ＣＦＲＰ（Carbon Fiber Reinforced Plastics；炭素繊維強化プラスチック）が用いられている。軽量かつ高剛性のＣＦＲＰは、支持ピックの材質として好ましい特性を有している。しかし、ＣＦＲＰの欠点として、炭素繊維を固めた複合材料であることから、破損した場合の修理・修復が難しいという問題があった。また、ＣＦＲＰは、炭素繊維が層構造をなしているため、傷がつくとその部分から炭素繊維が剥がれたり、層構造の繊維がめくれたりして、パーティクル発生源になりやすいという問題もあった。さらに、例えばＣＦＲＰ製の支持ピックを用いて搬送途中にガラス基板が破損した場合には、支持ピックに傷があるとそこから微小なガラス片が炭素繊維間に入り込んで除去が困難になり、新たなパーティクル発生源になり得るという問題もあった。   By the way, CFRP (Carbon Fiber Reinforced Plastics) is used as a material of the support pick in the fork. Lightweight and highly rigid CFRP has desirable characteristics as a material for the support pick. However, as a disadvantage of CFRP, since it is a composite material in which carbon fibers are hardened, there is a problem that it is difficult to repair and repair when it is damaged. In addition, since CFRP has a layered structure of carbon fibers, if scratched, the carbon fibers are peeled off from the part, or the fibers of the layered structure are turned up, which tends to become a particle generation source. . Furthermore, for example, when a glass substrate is damaged during conveyance using a support pick made of CFRP, if the support pick is damaged, a small piece of glass enters between the carbon fibers and becomes difficult to remove. There was also a problem that it could become a new particle generation source.

以上に挙げた問題から、高価なＣＦＲＰ材料で形成された支持ピックは、その一部分でも破損すると、支持ピックの全体を交換しなければならなかった。   Because of the above problems, if a part of the support pick made of expensive CFRP material is broken, the whole support pick has to be replaced.

特開２００６−４１４９６号公報JP 2006-41496 A

フォークの大型化に伴い、基板処理システム内でフォークを移動させる際の制御は、従来の小型のフォークを使用する場合に比べて格段に難しくなっている。このため、支持ピックの先端が、基板処理システムを構成するチャンバ壁などのシステム構成部材に接触して損傷を受ける確率は従来よりも増加している。支持ピックの材質としてＣＦＲＰを用いる場合も、システム構成部材とある程度の頻度で接触することはどうしても避けられない。   As the fork becomes larger, control when moving the fork in the substrate processing system has become much more difficult than when a conventional small fork is used. For this reason, the probability that the tip of the support pick is damaged due to contact with a system component such as a chamber wall constituting the substrate processing system is increased. Even when CFRP is used as the material of the support pick, it is inevitable that the system component is contacted with a certain frequency.

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、基板を支持する支持部材を有する基板保持具がシステム構成部材と接触した場合でも、支持部材の損傷を極力回避できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to prevent damage to a support member as much as possible even when a substrate holder having a support member that supports the substrate comes into contact with a system component. To do.

本発明に係る基板保持具は、基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材とを備え、これら複数の支持部材の上に基板を保持する基板保持具である。そして、本発明の基板保持具において、前記支持部材は、本体と該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて基板に下から当接する第２の突起部と、を備え、前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されている。
The substrate holder according to the present invention is a substrate holder that includes a base portion and a plurality of support members that are connected to the base portion with a space therebetween, and holds the substrate on the plurality of support members. Then, the substrate holder of the present invention, the support member includes a main body and a removable protective member for protecting the tip of the body, a plurality of detachable abutting from below into the substrate provided on an upper surface of said body A first protrusion and a second protrusion provided on an upper portion of the protection member and contacting the substrate from below, and the first protrusion and the second are on the basis of the upper surface of the main body . The height of the apex of the protrusion is formed such that the support point for supporting the substrate gradually increases from the base side toward the tip side .

本発明の基板保持具において、前記本体は、中空の筒形状をなしていてもよい。この場合、本発明の基板保持具は、前記保護部材によって前記本体の先端が塞がれていてもよい。また、前記保護部材は、前記本体の内部に挿入される凸部を有していてもよい。   In the substrate holder of the present invention, the main body may have a hollow cylindrical shape. In this case, in the substrate holder of the present invention, the tip of the main body may be blocked by the protective member. Moreover, the said protection member may have a convex part inserted in the inside of the said main body.

また、本発明の基板保持具において、前記保護部材は、前記本体の先端近傍の周囲を覆う被覆部を有していてもよい。また、本発明の基板保持具において、前記本体は、ＣＦＲＰで構成されていてもよい。   Moreover, the board | substrate holder of this invention WHEREIN: The said protection member may have a coating | coated part which covers the circumference | surroundings near the front-end | tip of the said main body. In the substrate holder of the present invention, the main body may be made of CFRP.

また、本発明の基板保持具において、前記保護部材は、金属またはヤング率が１ＭＰａ以上１０ＧＰａ以下の高分子材料で構成されていてもよい。この場合、前記金属がステンレス鋼またはアルミニウムであってもよいし、前記高分子材料が、フッ素ゴム、ポリテトラフルオロエチレン樹脂またはナイロン樹脂であってもよい。   In the substrate holder of the present invention, the protective member may be made of a metal or a polymer material having a Young's modulus of 1 MPa to 10 GPa. In this case, the metal may be stainless steel or aluminum, and the polymer material may be fluororubber, polytetrafluoroethylene resin, or nylon resin.

また、前記本体は、前記第１の突起部の配設位置および／または配設個数を可変に調節可能な複数の取付け部を有していてもよい。   The main body may have a plurality of attachment portions that can variably adjust the arrangement position and / or the number of the first protrusions.

本発明に係る基板搬送装置は、進出および退避可能な搬送アーム部と、該搬送アーム部に装着された基板保持具とを備え、前記基板保持具により基板を保持して搬送する基板搬送装置である。この基板搬送装置において、前記基板保持具は、基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材と、を備えている。そして、本発明の基板搬送装置において、前記支持部材は、本体と、該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて基板に下から当接する第２の突起部と、を有し、前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されている。
A substrate transfer apparatus according to the present invention is a substrate transfer apparatus that includes a transfer arm portion that can be advanced and retracted, and a substrate holder attached to the transfer arm portion, and holds and transfers a substrate by the substrate holder. is there. In this substrate transport apparatus, the substrate holder includes a base portion and a plurality of support members connected to the base portion at intervals. Then, the substrate transfer apparatus of the present invention, the support member body and a removable protective member for protecting the tip of the body, a plurality of detachable abutting from below into the substrate provided on an upper surface of said body A first protrusion, and a second protrusion provided on an upper portion of the protection member and coming into contact with the substrate from below, and the first protrusion and The height of the apex of the second protrusion is formed such that the support point for supporting the substrate gradually increases from the base side toward the tip side .

本発明に係る基板処理システムは、基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置へ基板を搬送する基板搬送装置と、を備えている。この基板処理システムにおいて、前記基板搬送装置は、進出および退避可能な搬送アーム部と、該搬送アーム部に装着されて基板を保持する基板保持具とを備えている。さらに、この基板処理システムにおいて、前記基板保持具は、基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材と、を備えている。そして、本発明の基板処理システムにおいて、前記支持部材は、本体と、該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて、基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて、基板に下から当接する第２の突起部と、を備え、前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されている。

A substrate processing system according to the present invention includes a substrate processing apparatus that processes a substrate, and a substrate transfer apparatus that transfers the substrate to the substrate processing apparatus. In this substrate processing system, the substrate transfer apparatus includes a transfer arm portion that can be advanced and retracted, and a substrate holder that is mounted on the transfer arm portion and holds a substrate. Furthermore, in this substrate processing system, the substrate holder includes a base portion and a plurality of support members connected to the base portion at intervals. Then, in the substrate processing system of the present invention, the support member body and a removable protective member for protecting the tip of the body, provided on an upper surface of the body, attachment and detachment of a plurality of contact from below into the substrate A first protrusion that is possible, and a second protrusion that is provided on an upper portion of the protective member and contacts the substrate from below, and the first protrusion and the upper surface of the main body are used as a reference. The height of the apex of the second protrusion is formed such that the support point for supporting the substrate gradually increases from the base side toward the tip side .

本発明の基板保持具によれば、支持部材の先端に保護部材を設けたことにより、支持部材がチャンバ壁などに接触した場合でも、支持部材を保護し、支持部材の損傷を防ぐことができる。従って、支持部材の寿命を長期化できるとともに、支持部材の損傷に起因するパーティクルの発生を防止できる、という効果を奏する。   According to the substrate holder of the present invention, by providing the protection member at the tip of the support member, even when the support member contacts the chamber wall or the like, the support member can be protected and damage to the support member can be prevented. . Therefore, it is possible to prolong the life of the support member and to prevent generation of particles due to damage to the support member.

［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明の第１の実施の形態の基板保持具を備えた基板搬送装置および該基板搬送装置を備えた基板処理システムを例に挙げて説明を行なう。図１は、基板処理システムとしての真空処理システム１００を概略的に示す斜視図であり、図２は、各チャンバの内部を概略的に示す平面図である。この真空処理システム１００は、複数のプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃを有するマルチチャンバ構造をなしている。真空処理システム１００は、例えばＦＰＤ用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）Ｓに対してプラズマ処理を行なうための処理システムとして構成されている。なお、ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。 [First Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, a description will be given by taking as an example a substrate transfer apparatus including the substrate holder according to the first embodiment of the present invention and a substrate processing system including the substrate transfer apparatus. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing system 100 as a substrate processing system, and FIG. 2 is a plan view schematically showing the inside of each chamber. The vacuum processing system 100 has a multi-chamber structure having a plurality of process chambers 1a, 1b, and 1c. The vacuum processing system 100 is configured as a processing system for performing plasma processing on a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) S for FPD, for example. Examples of the FPD include a liquid crystal display (LCD), an electro luminescence (EL) display, a plasma display panel (PDP), and the like.

真空処理システム１００では、複数の大型チャンバが平面視十字形に連結されている。中央部には搬送室３が配置され、その三方の側面に隣接して基板Ｓに対してプラズマ処理を行なう３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃが配設されている。また、搬送室３の残りの一方の側面に隣接してロードロック室５が配設されている。これら３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ、搬送室３およびロードロック室５は、いずれも真空チャンバとして構成されている。搬送室３と各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃとの間には図示しない開口部が設けられており、該開口部には、開閉機能を有するゲートバルブ７ａがそれぞれ配設されている。また、搬送室３とロードロック室５との間には、ゲートバルブ７ｂが配設されている。ゲートバルブ７ａ，７ｂは、閉状態で各チャンバの間を気密にシールするとともに、開状態でチャンバ間を連通させて基板Ｓの移送を可能にしている。また、ロードロック室５と外部の大気雰囲気との間にもゲートバルブ７ｃが配備されており、閉状態でロードロック室５の気密性を維持するとともに開状態でロードロック室５内と外部との間で基板Ｓの移送を可能にしている。   In the vacuum processing system 100, a plurality of large chambers are connected in a cross shape in plan view. A transfer chamber 3 is disposed in the center, and three process chambers 1a, 1b, and 1c for performing plasma processing on the substrate S are disposed adjacent to the three side surfaces thereof. A load lock chamber 5 is disposed adjacent to the remaining one side surface of the transfer chamber 3. These three process chambers 1a, 1b, 1c, the transfer chamber 3 and the load lock chamber 5 are all configured as vacuum chambers. An opening (not shown) is provided between the transfer chamber 3 and each of the process chambers 1a, 1b, 1c, and a gate valve 7a having an opening / closing function is provided in the opening. A gate valve 7 b is provided between the transfer chamber 3 and the load lock chamber 5. The gate valves 7a and 7b hermetically seal between the chambers in the closed state, and allow the substrate S to be transferred by communicating between the chambers in the open state. Further, a gate valve 7c is also provided between the load lock chamber 5 and the outside air atmosphere so that the airtightness of the load lock chamber 5 is maintained in the closed state and the inside and outside of the load lock chamber 5 are opened. The substrate S can be transferred between the two.

ロードロック室５の外側には、２つのカセットインデクサ９ａ，９ｂが設けられている。各カセットインデクサ９ａ，９ｂの上には、それぞれ基板Ｓを収容するカセット１１ａ，１１ｂが載置されている。各カセット１１ａ，１１ｂ内には、基板Ｓが、上下に間隔を空けて多段に配置されている。また、各カセット１１ａ，１１ｂは、昇降機構部１３ａ，１３ｂによりそれぞれ昇降自在に構成されている。本実施の形態では、例えばカセット１１ａには未処理基板を収容し、他方のカセット１１ｂには処理済み基板を収容できるように構成されている。   Two cassette indexers 9 a and 9 b are provided outside the load lock chamber 5. On each cassette indexer 9a, 9b, cassettes 11a, 11b for accommodating the substrates S are placed. In each cassette 11a, 11b, substrates S are arranged in multiple stages at intervals in the vertical direction. Moreover, each cassette 11a, 11b is comprised by the raising / lowering mechanism parts 13a, 13b so that raising / lowering is possible respectively. In this embodiment, for example, an unprocessed substrate is accommodated in the cassette 11a, and a processed substrate is accommodated in the other cassette 11b.

これら２つのカセット１１ａ，１１ｂの間には、基板Ｓを搬送するための搬送装置１５が設けられている。この搬送装置１５は、上下２段に設けられた基板保持具としてのフォーク１７ａおよびフォーク１７ｂと、これらフォーク１７ａ，フォーク１７ｂを進出、退避および旋回可能に支持する駆動部１９と、この駆動部１９を支持する支持台２１とを備えている。   A transport device 15 for transporting the substrate S is provided between the two cassettes 11a and 11b. The transport device 15 includes a fork 17a and a fork 17b as substrate holders provided in two upper and lower stages, a drive unit 19 that supports the fork 17a and the fork 17b so that the fork 17a and the fork 17b can be advanced, retracted, and turned, and the drive unit 19 And a support base 21 for supporting the.

プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃは、その内部空間を所定の減圧雰囲気（真空状態）に維持できるように構成されている。各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内には、図２に示したように、基板Ｓを載置する載置台としてのサセプタ２が配備されている。そして、各プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃでは、基板Ｓをサセプタ２に載置した状態で、基板Ｓに対して、例えば真空条件でのエッチング処理、アッシング処理、成膜処理などのプラズマ処理が行なわれる。   The process chambers 1a, 1b, and 1c are configured so that their internal spaces can be maintained in a predetermined reduced pressure atmosphere (vacuum state). In each process chamber 1a, 1b, 1c, as shown in FIG. 2, a susceptor 2 as a mounting table on which the substrate S is mounted is arranged. In each of the process chambers 1a, 1b, and 1c, with the substrate S placed on the susceptor 2, the substrate S is subjected to plasma processing such as etching processing, ashing processing, and film formation processing under vacuum conditions. It is.

本実施形態では、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃで同種の処理を行ってもよいし、プロセスチャンバ毎に異なる種類の処理を行ってもよい。なお、プロセスチャンバの数は３つに限らず、４つ以上であってもよい。   In the present embodiment, the same type of processing may be performed in the three process chambers 1a, 1b, and 1c, or different types of processing may be performed for each process chamber. The number of process chambers is not limited to three and may be four or more.

搬送室３は、真空処理室であるプロセスチャンバ１ａ〜１ｃと同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。搬送室３の中には、図２に示したように、搬送装置２３が配設されている。そして、搬送装置２３により、３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃおよびロードロック室５の間で基板Ｓの搬送が行われる。   The transfer chamber 3 is configured so that it can be maintained in a predetermined reduced-pressure atmosphere similarly to the process chambers 1a to 1c which are vacuum processing chambers. As shown in FIG. 2, a transfer device 23 is disposed in the transfer chamber 3. Then, the substrate S is transferred between the three process chambers 1 a, 1 b, 1 c and the load lock chamber 5 by the transfer device 23.

搬送装置２３は、上下２段に設けられた搬送機構を備え、それぞれ独立して基板Ｓの出し入れを行うことが出来るように構成されている。図３に、基板保持具としてのフォーク１０１を有する上段の搬送機構２３ａの概略構成を示した。搬送機構２３ａは、主要な構成として、台座部１１３と、台座部１１３に対してスライド可能に設けられたスライドアーム１１５と、このスライドアーム１１５の上にスライド可能に設けられ、基板Ｓを支持する支持部材としてのフォーク１０１とを備えている。フォーク１０１は、基部としてのピックベース１１７と、該ピックベース１１７に連結された複数（例えば４本）の支持ピック１１９を備えている。支持ピック１１９の先端には保護部材としてのキャップ１３３が設けられている。このフォーク１０１の詳細な構成については後述する。   The transport device 23 includes transport mechanisms provided in two upper and lower stages, and is configured so that the substrates S can be taken in and out independently. FIG. 3 shows a schematic configuration of an upper transport mechanism 23a having a fork 101 as a substrate holder. The transport mechanism 23a has, as main components, a pedestal portion 113, a slide arm 115 slidably provided with respect to the pedestal portion 113, and is slidably provided on the slide arm 115 and supports the substrate S. And a fork 101 as a support member. The fork 101 includes a pick base 117 as a base, and a plurality of (for example, four) support picks 119 connected to the pick base 117. A cap 133 as a protection member is provided at the tip of the support pick 119. The detailed configuration of the fork 101 will be described later.

スライドアーム１１５の側部には、台座部１１３に対してスライドアーム１１５をスライドさせるためのガイド１２１が設けられている。そして、ベース部１１３にはガイド１２１をスライド可能に支持するスライド支持部１２３が設けられている。   A guide 121 for sliding the slide arm 115 with respect to the pedestal portion 113 is provided on the side of the slide arm 115. The base portion 113 is provided with a slide support portion 123 that slidably supports the guide 121.

また、スライドアーム１１５の側部には、スライドアーム１１５に対してフォーク１０１をスライドさせるためのガイド１２５が、前記ガイド１２１と平行に設けられている。そして、ガイド１２５に沿ってスライドするスライダ１２７が設けられ、このスライダ１２７にフォーク１０１が装着されている。   Further, a guide 125 for sliding the fork 101 with respect to the slide arm 115 is provided in parallel with the guide 121 on the side of the slide arm 115. A slider 127 that slides along the guide 125 is provided, and the fork 101 is mounted on the slider 127.

図３では上段の搬送機構２３ａについて説明したが、下段の搬送機構（図示省略）も上段の搬送機構２３ａと同様の構成を有している。そして、上下の搬送機構は、図示しない連結機構によって連結され、一体となって水平方向に回転できるように構成されている。また、上下二段に構成された搬送機構には、スライドアーム１１５およびフォーク１０１のスライド動作や、台座部１１３の回転動作および昇降動作を行なう図示しない駆動ユニットに連結されている。   Although the upper transport mechanism 23a has been described with reference to FIG. 3, the lower transport mechanism (not shown) has the same configuration as the upper transport mechanism 23a. The upper and lower transport mechanisms are coupled by a coupling mechanism (not shown) and are configured to rotate together in the horizontal direction. Further, the transport mechanism configured in two upper and lower stages is connected to a drive unit (not shown) that performs the slide operation of the slide arm 115 and the fork 101 and the rotation operation and the elevation operation of the pedestal 113.

ロードロック室５は、プロセスチャンバ１ａ〜１ｃおよび搬送室３と同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。ロードロック室５は、大気雰囲気にあるカセット１１ａ，１１ｂと減圧雰囲気の搬送室３との間で基板Ｓの授受を行うためのものである。ロードロック室５は、大気雰囲気と減圧雰囲気とを繰り返す関係上、極力その内容積が小さく構成されている。ロードロック室５には基板収容部２７が上下２段に設けられており（図２では上段のみ図示）、各基板収容部２７には、基板Ｓを支持する複数のバッファ２８が間隔をあけて設けられている。これらバッファ２８の間隔は、櫛歯状の支持ピック（例えばフォーク１０１の支持ピック１１９）の逃げ溝となっている。また、ロードロック室５内には、矩形状の基板Ｓの互いに対向する角部付近に当接して位置合わせを行なうポジショナー２９が設けられている。   The load lock chamber 5 is configured to be able to be maintained in a predetermined reduced pressure atmosphere, like the process chambers 1 a to 1 c and the transfer chamber 3. The load lock chamber 5 is for transferring the substrate S between the cassettes 11a and 11b in an atmospheric atmosphere and the transfer chamber 3 in a reduced pressure atmosphere. The load lock chamber 5 is configured to have a small internal volume as much as possible because of the repeated atmosphere and reduced pressure atmosphere. The load lock chamber 5 is provided with substrate accommodation portions 27 in two upper and lower stages (only the upper stage is shown in FIG. 2), and in each substrate accommodation portion 27, a plurality of buffers 28 supporting the substrate S are spaced apart. Is provided. The interval between the buffers 28 is a relief groove of a comb-like support pick (for example, the support pick 119 of the fork 101). Further, a positioner 29 is provided in the load lock chamber 5 for abutting and positioning near the corners of the rectangular substrate S facing each other.

図２に示したように、真空処理システム１００の各構成部は、制御部３０に接続されて制御される構成となっている（図１では図示を省略）。制御部３０は、ＣＰＵを備えたコントローラ３１と、ユーザーインターフェース３２と記憶部３３とを備えている。コントローラ３１は、真空処理システム１００において、例えばプロセスチャンバ１ａ〜１ｃ、搬送装置１５、搬送装置２３などの各構成部を統括して制御する。ユーザーインターフェース３２は、工程管理者が真空処理システム１００を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、真空処理システム１００の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部３３には、真空処理システム１００で実行される各種処理をコントローラ３１の制御にて実現するための制御プログラム（ソフトウエア）や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。ユーザーインターフェース３２および記憶部３３は、コントローラ３１に接続されている。   As shown in FIG. 2, each component of the vacuum processing system 100 is connected to and controlled by the controller 30 (not shown in FIG. 1). The control unit 30 includes a controller 31 including a CPU, a user interface 32, and a storage unit 33. In the vacuum processing system 100, the controller 31 controls each component such as the process chambers 1a to 1c, the transfer device 15, and the transfer device 23 in an integrated manner. The user interface 32 includes a keyboard on which a process manager manages command input in order to manage the vacuum processing system 100, a display that visualizes and displays the operating status of the vacuum processing system 100, and the like. The storage unit 33 stores a recipe in which a control program (software) for realizing various processes executed in the vacuum processing system 100 under the control of the controller 31 and processing condition data are recorded. The user interface 32 and the storage unit 33 are connected to the controller 31.

そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース３２からの指示等にて任意のレシピを記憶部３３から呼び出してコントローラ３１に実行させることで、コントローラ３１の制御下で、真空処理システム１００での所望の処理が行われる。   If necessary, an arbitrary recipe is called from the storage unit 33 by an instruction from the user interface 32 and is executed by the controller 31, so that a desired process in the vacuum processing system 100 is performed under the control of the controller 31. Is done.

前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用できる。あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。   Recipes such as the control program and processing condition data can be stored in a computer-readable storage medium such as a CD-ROM, a hard disk, a flexible disk, or a flash memory. Alternatively, it can be transmitted from other devices as needed via, for example, a dedicated line and used online.

次に、以上のように構成された真空処理システム１００の動作について説明する。
まず、搬送装置１５の２枚のフォーク１７ａ，１７ｂを進退駆動させて、未処理基板を収容したカセット１１ａから基板Ｓを受け取り、ロードロック室５の上下２段の基板収容部２７のバッファ２８にそれぞれ載置する。 Next, the operation of the vacuum processing system 100 configured as described above will be described.
First, the two forks 17 a and 17 b of the transport device 15 are driven forward and backward to receive the substrate S from the cassette 11 a that stores unprocessed substrates, and is received in the buffers 28 of the upper and lower two-stage substrate storage portions 27 of the load lock chamber 5. Place each one.

フォーク１７ａ，１７ｂを退避させた後、ロードロック室５の大気側のゲートバルブ７ｃを閉じる。その後、ロードロック室５内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。次に、搬送室３とロードロック室５との間のゲートバルブ７ｂを開いて、搬送装置２３のフォーク１０１により、ロードロック室５の基板収容部２７に収容された基板Ｓを受け取る。   After the forks 17a and 17b are retracted, the gate valve 7c on the atmosphere side of the load lock chamber 5 is closed. Thereafter, the inside of the load lock chamber 5 is evacuated, and the inside is depressurized to a predetermined vacuum level. Next, the gate valve 7 b between the transfer chamber 3 and the load lock chamber 5 is opened, and the substrate S accommodated in the substrate accommodating portion 27 of the load lock chamber 5 is received by the fork 101 of the transfer device 23.

次に、搬送装置２３のフォーク１０１により、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃのいずれかに基板Ｓを搬入し、サセプタ２に受け渡す。そして、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内で基板Ｓに対してエッチング等の所定の処理が施される。次に、処理済みの基板Ｓは、サセプタ２から搬送装置２３のフォーク１０１に受け渡され、プロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃから搬出される。   Next, the substrate S is carried into one of the process chambers 1 a, 1 b, and 1 c by the fork 101 of the transfer device 23 and transferred to the susceptor 2. Then, a predetermined process such as etching is performed on the substrate S in the process chambers 1a, 1b, and 1c. Next, the processed substrate S is transferred from the susceptor 2 to the fork 101 of the transfer device 23 and is unloaded from the process chambers 1a, 1b, and 1c.

そして、基板Ｓは、前記とは逆の経路でロードロック室５を経て、搬送装置１５によりカセット１１ｂに収容される。なお、処理済みの基板Ｓを元のカセット１１ａに戻してもよい。   And the board | substrate S is accommodated in the cassette 11b by the conveying apparatus 15 through the load lock chamber 5 by the path | route reverse to the above. The processed substrate S may be returned to the original cassette 11a.

次に、図４および図５を参照しながら、第１の実施の形態に係る基板保持具としてのフォーク１０１について説明を行う。図４は、フォーク１０１の外観を示す斜視図である。前記のとおり、フォーク１０１は、スライダ１２７に固定されたピックベース１１７と、該ピックベース１１７に連結された支持部材としての複数（例えば４本）の支持ピック１１９を備えている。   Next, the fork 101 as the substrate holder according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a perspective view showing the appearance of the fork 101. As described above, the fork 101 includes the pick base 117 fixed to the slider 127 and a plurality of (for example, four) support picks 119 as support members connected to the pick base 117.

ピックベース１１７は、複数の支持ピック１１９（本実施形態では４本）を確実に固定し、スライドアーム１１５（スライダ１２７）に連結できるものであればその構成は問わない。また、ピックベース１１７と支持ピック１１９との連結構造も任意である。例えば、ピックベース１１７として支持ピック１１９の基端部を挟持可能な２枚の板材を用いた固定構造でもよいし、複数の支持ピック１１９を支持可能な１枚の板材を用いた固定構造でもよい。本実施の形態では、ピックベース１１７は、例えば断面視コの字型に折曲げられた板材により構成されている。そして、折曲げられた板材の隙間に複数の支持ピック１１９のそれぞれの基端部が挿入され、図示しない固定手段例えば螺子等により固定されている。   The pick base 117 may be of any configuration as long as it can securely fix a plurality of support picks 119 (four in this embodiment) and can be connected to the slide arm 115 (slider 127). Further, the connection structure between the pick base 117 and the support pick 119 is also arbitrary. For example, the pick base 117 may be a fixed structure using two plate materials capable of sandwiching the base end portion of the support pick 119, or may be a fixed structure using a single plate material capable of supporting a plurality of support picks 119. . In the present embodiment, the pick base 117 is made of a plate material bent into, for example, a U shape in a sectional view. And each base end part of the some support pick 119 is inserted in the clearance gap between the bent board | plate materials, and it fixes with the fixing means which is not shown in figure, such as a screw.

フォーク１０１の支持ピック１１９は、中空の角筒状をなす本体１３１と、本体１３１の先端に着脱自在に装着された保護部材としてのキャップ１３３とを有している。支持ピック１１９の本体１３１の材質としては、軽量で、かつ大型の基板Ｓを載置した状態で荷重による撓みがなるべく生じないように、高い剛性を有する材質として、例えばＣＦＲＰが用いられている。   The support pick 119 of the fork 101 has a main body 131 having a hollow rectangular tube shape, and a cap 133 as a protective member that is detachably attached to the tip of the main body 131. As a material of the main body 131 of the support pick 119, for example, CFRP is used as a material having a high rigidity so that the light-weight and large-sized substrate S is not bent due to a load.

フォーク１０１の各支持ピック１１９の上面には、基板Ｓを支持する第１の突起部としての支持突起２００が複数箇所（図４では、一つの支持ピック１１９において２箇所）に着脱可能に設けられている。支持突起２００は、例えばゴムやＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）樹脂、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）樹脂などの弾性材料により構成されている。支持突起２００の形状は問わず、例えば半球状やＯリングのような環状でもよい。   On the upper surface of each support pick 119 of the fork 101, support protrusions 200 as first protrusions for supporting the substrate S are detachably provided at a plurality of positions (two positions in one support pick 119 in FIG. 4). ing. The support protrusion 200 is made of an elastic material such as rubber, PEEK (polyether ether ketone) resin, or PTFE (polytetrafluoroethylene) resin. The shape of the support protrusion 200 is not limited, and may be a hemispherical shape or an annular shape such as an O-ring.

本体１３１にキャップ１３３が装着された状態の支持ピック１１９の先端部の断面構造を図５に示した。キャップ１３３は、支持ピック１１９の本体１３１の先端を塞ぐように装着されている。支持ピック１１９を軽量化するためには、ＣＦＲＰのように軽量かつ高い剛性の材料を用いて本体１３１を筒状に形成し、内部を空洞にすることが好ましい。しかし、中空角筒状の本体１３１の先端が開口した状態では、衝撃に対する強度が不十分になるほか、内部にゴミなどが付着してパーティクル発生源となることが懸念される。本実施の形態では、本体１３１を中空状にして支持ピック１１９の軽量化を図りつつ、その先端をキャップ１３３によって閉塞しておくことにより、対衝撃性を確保するとともにパーティクルの発生を予防している。   FIG. 5 shows a cross-sectional structure of the tip of the support pick 119 in a state where the cap 133 is attached to the main body 131. The cap 133 is attached so as to close the tip of the main body 131 of the support pick 119. In order to reduce the weight of the support pick 119, it is preferable to form the main body 131 in a cylindrical shape using a lightweight and highly rigid material such as CFRP and to make the inside hollow. However, in the state where the end of the hollow rectangular tube-shaped main body 131 is opened, there is a concern that the strength against impact becomes insufficient, and dust or the like adheres to become a particle generation source. In the present embodiment, the main body 131 is made hollow to reduce the weight of the support pick 119, and the tip of the support pick 119 is closed by the cap 133, thereby ensuring impact resistance and preventing the generation of particles. Yes.

本実施の形態では、キャップ１３３は、中空状の本体１３１の先端に挿入された取付ブロック１３５に螺子１３７によって着脱可能に固定されている。取付ブロック１３５は、例えば接着剤などによって本体１３１の内面に固定されている。キャップ１３３は、支持ピック１１９の先端特に角部を保護する目的から、本体１３１の断面積以上の大きさを有していることが好ましい。また、キャップ１３３は支持ピック１１９の先端付近にのみ設けられるものである。本体１３１の長さに対するキャップ１３３の長さは、例えば１／１０〜１／５００程度とすることが好ましい。支持ピック１１９の全長におけるキャップ１３３の長さ配分を大きくしすぎると、先端の重量が増加して支持ピック１１９に撓みが発生しやすくなるので、本体１３１に対するキャップ１３３の長さの比は上記範囲内とすることが好ましい。   In the present embodiment, the cap 133 is detachably fixed to the mounting block 135 inserted at the tip of the hollow main body 131 by a screw 137. The mounting block 135 is fixed to the inner surface of the main body 131 with, for example, an adhesive. The cap 133 preferably has a size equal to or larger than the cross-sectional area of the main body 131 for the purpose of protecting the tip of the support pick 119, particularly the corner. The cap 133 is provided only near the tip of the support pick 119. The length of the cap 133 relative to the length of the main body 131 is preferably about 1/10 to 1/500, for example. If the length distribution of the cap 133 in the entire length of the support pick 119 is too large, the weight of the tip increases and the support pick 119 is likely to bend. Therefore, the ratio of the length of the cap 133 to the main body 131 is within the above range. It is preferable to be inside.

キャップ１３３を装着することによって、支持ピック１１９が基板処理システム１００におけるシステム構成部材であるチャンバ壁などに接触した場合でも、高価なＣＦＲＰ材料により構成される支持ピック１１９の本体１３１を保護できる。この場合、キャップ１３３が破損しても、キャップ１３３のみを交換すればよいため、支持ピック１１９の本体１３１の寿命を長期化できる。また、キャップ１３３によって支持ピック１１９の本体１３１の損傷を防ぐことができるので、本体１３１の損傷部位からＣＦＲＰ材料の炭素繊維が剥離したり、捲れたりしてパーティクル源となることを防止できる。さらに、本体１３１の損傷部位にガラス片などが混入してパーティクル源になることも防止できる。   By mounting the cap 133, the main body 131 of the support pick 119 made of an expensive CFRP material can be protected even when the support pick 119 comes into contact with a chamber wall or the like that is a system constituent member in the substrate processing system 100. In this case, even if the cap 133 is damaged, only the cap 133 needs to be replaced, so that the life of the main body 131 of the support pick 119 can be extended. Further, since the cap 133 can prevent the main body 131 of the support pick 119 from being damaged, it is possible to prevent the carbon fiber of the CFRP material from peeling or dripping from the damaged portion of the main body 131 to become a particle source. Furthermore, it is possible to prevent a glass piece or the like from being mixed into a damaged part of the main body 131 to become a particle source.

このように、キャップ１３３を装着することにより、支持ピック１１９の本体１３１に傷がついたり破損したりすることが効果的に予防される。さらに、支持ピック１１９の本体１３１の損傷を回避できる結果として、パーティクルの発生も低減できる。   In this way, by attaching the cap 133, it is possible to effectively prevent the main body 131 of the support pick 119 from being damaged or broken. Further, as a result of avoiding damage to the main body 131 of the support pick 119, the generation of particles can also be reduced.

キャップ１３３の材質としては、例えば金属のほか、ゴムや合成樹脂などの高分子材料を用いることができる。キャップ１３３の材質に求められる特性としては、軽量であること、衝撃に強いこと、成型が容易であること、他の部材と接触した際に相手側に与える対物損傷の可能性が低いことが挙げられる。このような観点から、キャップ１３３の候補となる数種の材料について、「重量」、「衝撃強さ」、「成型性」、「対物損傷可能性」の４つの項目に関する評価を行った。   As a material of the cap 133, for example, a polymer material such as rubber or synthetic resin can be used in addition to a metal. The characteristics required for the material of the cap 133 include that it is lightweight, resistant to impact, easy to mold, and has a low possibility of object damage to the other party when it comes into contact with other members. It is done. From such a point of view, evaluation was made on four items of “weight”, “impact strength”, “moldability”, and “possibility of object damage” for several kinds of materials as candidates for the cap 133.

キャップ１３３の材料候補としては、セラミックス（アルミナ）、ガラス、ＣＦＲＰ（東邦テナックス社製、商品名コンポジット）、ＳＵＳ、フッ素ゴム（ニチアス社製、商品名フロロプラス）、ポリテトラフルオロエチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、アルミニウムおよびＭＣナイロン樹脂の８種類を選定した。   Materials for the cap 133 include ceramics (alumina), glass, CFRP (commercial name composite manufactured by Toho Tenax Co., Ltd.), SUS, fluororubber (manufactured by NICHIAS CO., LTD., Commercial name Fluoroplus), polytetrafluoroethylene resin (PTFE). Eight types of aluminum and MC nylon resin were selected.

この評価では、キャップ１３３の材質として不適なものを「１」、キャップ１３３の材質として良好なものを「５」、両者の中間でキャップ１３３の材質として一応使用可能なものを「３」として三段階で評価した。そして、全評価項目の合計点をもとにキャップ１３３の材質としての適否を総合的に判断した。その結果を表１に示した。   In this evaluation, “1” is an inappropriate material for the cap 133, “5” is a good material for the cap 133, and “3” is a material that can be used as a material for the cap 133 in between. Rated by stage. And the suitability as a material of the cap 133 was judged comprehensively based on the total score of all the evaluation items. The results are shown in Table 1.

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本実施の形態では、合計点が１２点以上の材料をキャップ１３３の材質として「適」と判断した。一方、合計点が１２点未満の材料はキャップ１３３の材質として「不適」と判断した。以上の評価に従い、キャップ１３３の材質として、例えばアルミニウム、ＳＵＳ（ステンレス鋼）などの金属材料、フッ素ゴム、ＰＴＦＥ樹脂やナイロン樹脂などの高分子材料などを用いることが好ましい。一方、セラミックスは、高い剛性を有している反面、対物損傷性が高く、かつ脆くて衝撃強さに欠けるためキャップ１３３の材質として好ましくない。また、ガラスやＣＦＲＰも脆くて衝撃強さに欠ける点でキャップ１３３の材質としては好ましくない。   In the present embodiment, a material having a total score of 12 or more is determined as “appropriate” as the material of the cap 133. On the other hand, a material having a total score of less than 12 was determined to be “unsuitable” as the material of the cap 133. In accordance with the above evaluation, it is preferable to use, for example, a metal material such as aluminum or SUS (stainless steel), a polymer material such as fluororubber, PTFE resin, or nylon resin as the material of the cap 133. On the other hand, ceramics is not preferable as the material of the cap 133 because it has high rigidity but has high object damage property and is brittle and lacks impact strength. Further, glass and CFRP are also fragile and are not preferable as the material of the cap 133 in that the impact strength is lacking.

また、本実施の形態では、耐衝撃性や耐破壊靭性を十分に確保する観点から、キャップ１３３の材質として、ヤング率が１００ＧＰａ以下（例えば１ＭＰａ以上１００ＧＰａ以下）の材料を用いることが好ましい。ヤング率が１００ＧＰａ以下の材料としては、金属では例えばアルミニウムが挙げられる。ゴムや合成樹脂などに代表される高分子材料は、一般にヤング率が１００ＧＰａ以下であるが、特にヤング率が１０ＧＰａ以下（例えば１ＭＰａ以上１０ＧＰａ以下）の弾性を持つ高分子材料を用いることが好ましい。ヤング率が１ＭＰａ以上１０ＧＰａ以下の高分子材料の好ましい例としては、例えばフッ素ゴム、ＰＴＦＥ樹脂、ＭＣナイロン樹脂などを挙げることができる。   In this embodiment, it is preferable to use a material having a Young's modulus of 100 GPa or less (for example, 1 MPa or more and 100 GPa or less) as the material of the cap 133 from the viewpoint of sufficiently ensuring impact resistance and fracture toughness. Examples of the material having a Young's modulus of 100 GPa or less include aluminum. The polymer material typified by rubber or synthetic resin generally has a Young's modulus of 100 GPa or less, but it is particularly preferable to use a polymer material having elasticity with a Young's modulus of 10 GPa or less (for example, 1 MPa or more and 10 GPa or less). Preferable examples of the polymer material having a Young's modulus of 1 MPa or more and 10 GPa or less include fluorine rubber, PTFE resin, MC nylon resin, and the like.

以上のように、本実施の形態のフォーク１０１によれば、支持ピック１１９の先端にキャップ１３３を設けたことにより、支持ピック１１９が基板処理システム１００におけるシステム構成部材であるチャンバ壁などに接触した場合でも、支持ピック１１９の本体１３１を保護できる。従って、支持ピック１１９の使用寿命を長期化できるとともに、本体１３１の損傷に起因するパーティクルの発生などを防止できる、という効果を奏する。   As described above, according to the fork 101 of the present embodiment, by providing the cap 133 at the tip of the support pick 119, the support pick 119 comes into contact with a chamber wall that is a system constituent member in the substrate processing system 100. Even in this case, the main body 131 of the support pick 119 can be protected. Accordingly, the service life of the support pick 119 can be extended, and the generation of particles due to damage to the main body 131 can be prevented.

［第２の実施の形態］
図６は、本発明の第２の実施の形態に係るフォーク１０１における支持ピック１１９の先端部の断面構造を示している。本実施の形態では、キャップ１３９は、主にＸ方向の衝撃を吸収する主保護部１３９ａと、この主保護部１３９ａから突設された挿入部１３９ｂとを有して断面が凸形をなしている。なお、以下の説明では、第１の実施の形態との相違点を中心に説明し、第１の実施の形態と同様の構成には同一の符号を付して説明を省略する。 [Second Embodiment]
FIG. 6 shows a cross-sectional structure of the tip of the support pick 119 in the fork 101 according to the second embodiment of the present invention. In the present embodiment, the cap 139 has a main protection portion 139a that mainly absorbs an impact in the X direction and an insertion portion 139b that protrudes from the main protection portion 139a and has a convex cross section. Yes. In the following description, differences from the first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

キャップ１３９は、その一部分である挿入部１３９ｂが支持ピック１１９の本体１３１の先端部分に挿入されて装着されている。キャップ１３９は、基板処理システム１００におけるシステム構成部材であるチャンバ壁などとの接触時の衝撃から支持ピック１１９の先端を保護する。また、キャップ１３９では、挿入部１３９ｂを角筒状の本体１３１の内面に密着した状態で嵌め込むことにより、中空状の本体１３１を内側から補強する機能を持たせることができる。つまり、キャップ１３９によって、支持ピック１１９の先端付近では、正面（Ｘ方向）からの衝撃だけでなく、支持ピック１１９の側方や上下方向（例えばＹ方向やＺ方向）からの衝撃に対しても耐衝撃性を向上させることができる。従って、支持ピック１１９の先端部分において、本体１３１の破損を極力防止できる。   The cap 139 is mounted by inserting an insertion portion 139b, which is a part of the cap 139, into the distal end portion of the main body 131 of the support pick 119. The cap 139 protects the tip of the support pick 119 from an impact at the time of contact with a chamber wall or the like that is a system component in the substrate processing system 100. The cap 139 can be provided with a function of reinforcing the hollow main body 131 from the inside by fitting the insertion portion 139b in close contact with the inner surface of the rectangular tubular main body 131. In other words, the cap 139 causes not only an impact from the front (X direction) near the tip of the support pick 119 but also an impact from the side of the support pick 119 or from the vertical direction (for example, the Y direction or the Z direction). Impact resistance can be improved. Therefore, damage to the main body 131 can be prevented as much as possible at the tip portion of the support pick 119.

また、キャップ１３９は、挿入部１３９ｂを角筒状の本体１３１の内面に密着させて嵌め込むことによって、摩擦抵抗により本体１３１に固定される。従って、挿入部１３９ｂは、キャップ１３９が支持ピック１１９の本体１３１から抜け落ちることを防止する抜け止め作用部としても機能する。この抜け止め機能は、本体１３１に挿入される挿入部１３９ｂの挿入長さＬ１によって適宜調整することができる。 The cap 139 is fixed to the main body 131 by frictional resistance by fitting the insertion portion 139b into close contact with the inner surface of the rectangular tubular main body 131. Therefore, the insertion portion 139b also functions as a retaining action portion that prevents the cap 139 from falling off the main body 131 of the support pick 119. The retaining feature may be appropriately adjusted by inserting a length L 1 of the insertion portion 139b to be inserted into the body 131.

本実施の形態では、キャップ１３９を、例えばゴムや合成樹脂などの弾性材料から構成することが好ましい。なお、図示は省略するが、キャップ１３９の挿入部１３９ｂの周囲に、凹凸（ひだ）を形成して抜け止め作用を向上させてもよい。また、キャップ１３９を螺子等で本体１３１に固定してもよい。   In the present embodiment, the cap 139 is preferably made of an elastic material such as rubber or synthetic resin. Although illustration is omitted, unevenness (folds) may be formed around the insertion portion 139b of the cap 139 to improve the removal preventing function. The cap 139 may be fixed to the main body 131 with a screw or the like.

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。   Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

［第３の実施の形態］
図７は、本発明の第３の実施の形態に係るフォークにおける支持ピック１１９の先端部の断面構造を示している。本実施の形態では、図７に示したように、キャップ１４１は、主にＸ方向からの衝撃を吸収する主保護部１４１ａと、この主保護部１４１ａに略直角に形成された壁状の被覆部１４１ｂとを有して断面が凹形をなしている。キャップ１４１の一部分である被覆部１４１ｂは、支持ピック１１９の本体１３１の先端付近の周囲を覆うようにして装着されている。 [Third Embodiment]
FIG. 7 shows a cross-sectional structure of the tip of the support pick 119 in the fork according to the third embodiment of the present invention. In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the cap 141 includes a main protective portion 141a that mainly absorbs an impact from the X direction, and a wall-shaped covering formed substantially perpendicular to the main protective portion 141a. And a cross section having a concave shape. A covering portion 141 b that is a part of the cap 141 is attached so as to cover the vicinity of the tip of the main body 131 of the support pick 119.

キャップ１４１は、基板処理システム１００におけるシステム構成部材であるチャンバ壁などとの接触時の衝撃から支持ピック１１９の本体１３１の先端を保護する。キャップ１４１では、被覆部１４１ｂによって本体１３１の先端付近の周囲を覆うことができるので、本体１３１の先端だけでなく、先端から少し基端部側の位置まで保護する機能を持たせることができる。つまり、被覆部１４１ｂによって覆うことにより、支持ピック１１９の先端付近では、正面（Ｘ方向）からの衝撃だけでなく、支持ピック１１９の側方や上下方向（Ｙ方向やＺ方向）からの衝撃に対しても耐衝撃性を向上させることができる。また、被覆部１４１ｂによって覆うことにより、支持ピック１１９の先端付近に細かな傷がつくことが防止される。従って、本体１３１の破損や破損によるパーティクルの発生を極力防止できる。   The cap 141 protects the tip of the main body 131 of the support pick 119 from an impact at the time of contact with a chamber wall or the like that is a system component in the substrate processing system 100. Since the cap 141 can cover the vicinity of the front end of the main body 131 with the covering portion 141b, it can have a function of protecting not only the front end of the main body 131 but also a position slightly closer to the base end side from the front end. That is, by covering with the covering portion 141b, near the tip of the support pick 119, not only the impact from the front (X direction), but also the impact from the side of the support pick 119 or from the vertical direction (Y direction or Z direction). In contrast, the impact resistance can be improved. Further, by covering with the covering portion 141b, it is possible to prevent a fine scratch near the tip of the support pick 119. Accordingly, it is possible to prevent the main body 131 from being damaged and the generation of particles due to the damage as much as possible.

キャップ１４１は、被覆部１４１ｂの内側に角筒状の本体１３１を密着させて嵌め込むことによって、摩擦抵抗によって本体１３１に固定される。従って、被覆部１４１ｂは、キャップ１４１が支持ピック１１９の本体１３１から抜け落ちることを防止する抜け止め作用部としても機能する。この抜け止め機能は、本体１３１の側部を覆う被覆部１４１ｂの内径や、被覆長さＬ２によって適宜調整することができる。 The cap 141 is fixed to the main body 131 by frictional resistance by fitting the rectangular tube-shaped main body 131 into close contact with the inner side of the covering portion 141b. Therefore, the covering portion 141 b also functions as a retaining action portion that prevents the cap 141 from falling off the main body 131 of the support pick 119. The retaining feature, the inner diameter and the cover portion 141b that covers the side of the body 131 can be appropriately adjusted by coating the length L 2.

本実施の形態では、キャップ１４１を、例えばゴムや合成樹脂などの弾性材料から構成することが好ましい。キャップ１４１の被覆部１４１ｂを弾性材料で形成することにより、被覆部１４１ｂの上面で基板Ｓを下側から支持することもできる。この場合、支持ピック１１９の最も先端位置で基板Ｓを支持できるので、フォーク１０１により安定して基板Ｓを支持できる。なお、図示は省略するが、本実施の形態のキャップ１４１では、被覆部１４１ｂの内周に抜け止め作用を持つ凹凸（ひだ）を形成してもよい。また、キャップ１４１を螺子等で本体１３１に固定してもよい。   In the present embodiment, the cap 141 is preferably made of an elastic material such as rubber or synthetic resin. By forming the covering portion 141b of the cap 141 from an elastic material, the substrate S can be supported from below by the upper surface of the covering portion 141b. In this case, since the substrate S can be supported at the most distal end position of the support pick 119, the substrate S can be stably supported by the fork 101. In addition, although illustration is abbreviate | omitted, in the cap 141 of this Embodiment, you may form the unevenness | corrugation (pleat) which has a retaining effect in the inner periphery of the coating | coated part 141b. The cap 141 may be fixed to the main body 131 with a screw or the like.

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。   Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

［第４の実施の形態］
次に、図８から図１０を参照しながら、本発明の第４の実施の形態について説明する。図８は、本発明の第４の実施の形態に係るフォークにおける支持ピック１１９の先端部の断面構造を示している。本実施の形態では、第１の実施の形態と同様の構成のキャップ１３３の上部に、基板Ｓを下から支持する第２の突起部としての支持突起１４３を設けた。支持突起１４３は、例えばゴム、合成樹脂などの弾性材料で形成されている。支持突起１４３は、図８に示したような半球状以外に、例えばＯリングのような環状でもよい。本実施の形態では、例えば金属性のキャップ１３３上に別の材質（例えばゴム）で形成された弾性部材を固定して支持突起１４３とした。キャップ１３３へ支持突起１４３を固定する方法は、例えば螺子止め、接着材による固定など任意である。なお、例えばゴム等の弾性材料でキャップ１３３と支持突起１４３を一体に形成してもよい。 [Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 shows a cross-sectional structure of the tip of the support pick 119 in the fork according to the fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, a support protrusion 143 as a second protrusion for supporting the substrate S from below is provided on the top of the cap 133 having the same configuration as that of the first embodiment. The support protrusion 143 is made of an elastic material such as rubber or synthetic resin. The support protrusion 143 may have an annular shape such as an O-ring other than the hemispherical shape shown in FIG. In the present embodiment, for example, an elastic member made of another material (for example, rubber) is fixed on the metallic cap 133 to form the support protrusion 143. A method of fixing the support protrusion 143 to the cap 133 is arbitrary, for example, screwing or fixing with an adhesive. For example, the cap 133 and the support protrusion 143 may be integrally formed of an elastic material such as rubber.

本実施の形態では、キャップ１３３の上部に支持突起１４３を設けたことにより、図８に示したように、支持ピック１１９の最も先端で基板Ｓを支持できる。基板Ｓは大型になるほど撓みが生じやすいため、支持ピック１１９の最も先端に支持突起１４３を設けて下支えすることにより、フォーク１０１において基板Ｓを安定して保持することができる。   In the present embodiment, the support protrusion 143 is provided on the upper portion of the cap 133, so that the substrate S can be supported by the most distal end of the support pick 119 as shown in FIG. Since the substrate S becomes larger as the substrate S becomes larger, the substrate S can be stably held by the fork 101 by providing the support protrusion 143 at the front end of the support pick 119 and supporting it.

なお、支持突起１４３は、第２の実施の形態のキャップ１３９や第３の実施の形態のキャップ１４１にも設けることができる。図９は、第２の実施の形態に係るキャップ１３９の上部に支持突起１４３を一体に形成した例である。また、図１０は、第３の実施の形態に係るキャップ１４１の上部に支持突起１４３を一体に形成した例である。   The support protrusion 143 can also be provided on the cap 139 of the second embodiment and the cap 141 of the third embodiment. FIG. 9 shows an example in which a support protrusion 143 is integrally formed on the top of the cap 139 according to the second embodiment. FIG. 10 shows an example in which a support protrusion 143 is integrally formed on the top of the cap 141 according to the third embodiment.

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１から第３の実施の形態と同様である。   Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first to third embodiments.

［第５の実施の形態］
図１１は、本発明の第５の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの平面図を示している。本実施の形態のフォークにおいて、支持ピック１１９の本体１３１の上面には支持突起２００を装着するための取付孔１５０が複数箇所に設けられている。取付孔１５０は、支持ピック１１９の本体１３１の上面に所定間隔で配設されている。 [Fifth Embodiment]
FIG. 11 shows a plan view of a support pick in a fork according to a fifth embodiment of the present invention. In the fork of the present embodiment, mounting holes 150 for mounting the support protrusions 200 are provided at a plurality of locations on the upper surface of the main body 131 of the support pick 119. The mounting holes 150 are arranged at predetermined intervals on the upper surface of the main body 131 of the support pick 119.

取付孔１５０を利用した支持突起２００の取付構造の例を図１２および図１３に示した。図１２は、支持ピック１１９の取付孔１５０を利用して、半球状の支持突起２００ａを装着した状態を示している。半球状の支持突起２００ａは、支持ピック１１９の本体１３１の上面に配置された金属製（アルミニウムなど）の当て板１５１の上から、弾性部材２０１の下部のフランジ２０１ａを螺子２０３で挟み込むことにより本体１３１に着脱可能に固定されている。なお、図１２では、螺子２０３による固定を容易に行うため、支持ピック１１９の本体１３１の取付孔１５０に、ナットサート１５３が装着されている。   Examples of the mounting structure of the support protrusion 200 using the mounting hole 150 are shown in FIGS. FIG. 12 shows a state in which the hemispherical support protrusion 200a is mounted using the mounting hole 150 of the support pick 119. The hemispherical support protrusion 200a is formed by sandwiching a flange 201a at the bottom of the elastic member 201 with a screw 203 from a metal (aluminum or the like) backing plate 151 disposed on the upper surface of the main body 131 of the support pick 119. It is fixed to 131 so that attachment or detachment is possible. In FIG. 12, a nutsert 153 is mounted in the mounting hole 150 of the main body 131 of the support pick 119 in order to facilitate fixing with the screw 203.

図１３は、支持ピックの取付孔１５０を利用して、Ｏリング状の支持突起２００ｂを装着した状態を示している。Ｏリング状の支持突起２００ｂは、支持ピック１１９の上面に配設された金属製の当て板１５１の上から、皿状の固定部材２１１を介して螺子２０３で本体１３１に着脱可能に固定されている。皿状の固定部材２１１は、Ｏリング状の弾性部材２１３の内周側に当接して該弾性部材２１３を当て板１５１に押し付ける役割を果たしている。なお、図１３では、螺子２０３による固定を容易に行うため、支持ピック１１９の取付孔１５０に、ナットサート１５３が装着されている。   FIG. 13 shows a state in which an O-ring-shaped support protrusion 200b is mounted using the mounting hole 150 of the support pick. The O-ring-shaped support protrusion 200b is detachably fixed to the main body 131 by a screw 203 via a dish-shaped fixing member 211 from a metal backing plate 151 disposed on the upper surface of the support pick 119. Yes. The dish-shaped fixing member 211 is in contact with the inner peripheral side of the O-ring-shaped elastic member 213 and plays a role of pressing the elastic member 213 against the contact plate 151. In FIG. 13, a nutsert 153 is mounted in the mounting hole 150 of the support pick 119 in order to facilitate fixing with the screw 203.

なお、図１２および図１３に示した取付孔１５０への支持突起２００ａ，２００ｂの取り付け構造はあくまでも例示であり、これらに限定されるものではない。   In addition, the attachment structure of support protrusion 200a, 200b to the attachment hole 150 shown to FIG. 12 and FIG. 13 is an illustration to the last, and is not limited to these.

本実施の形態では、支持ピック１１９の上面に多数の取付孔１５０を設けたことにより、支持突起２００の配置を自由に変更できる。例えば図１４は、支持ピック１１９の２箇所に半球状の支持突起２００ａを配置した例を示している。図１５は、支持ピック１１９の４箇所に半球状の支持突起２００ａを配設し、さらにキャップ１３３にも支持突起１４３を設けた例を示している。また、図１６は、支持ピック１１９の上面に、半球状の支持突起２００ａと、Ｏリング状の支持突起２００ｂを各２つずつ配設し、さらにキャップ１３３にも支持突起１４３を設けた例を示している。図１７は、各支持ピック１１９上に支持突起２００ａと２００ｂとを適宜配置したフォーク１０１の平面図である。   In the present embodiment, the arrangement of the support protrusions 200 can be freely changed by providing a large number of mounting holes 150 on the upper surface of the support pick 119. For example, FIG. 14 shows an example in which hemispherical support protrusions 200 a are arranged at two locations on the support pick 119. FIG. 15 shows an example in which hemispherical support protrusions 200 a are provided at four locations on the support pick 119, and support caps 143 are also provided on the cap 133. FIG. 16 shows an example in which two hemispherical support protrusions 200 a and two O-ring-shaped support protrusions 200 b are provided on the upper surface of the support pick 119, and support caps 143 are also provided on the cap 133. Show. FIG. 17 is a plan view of the fork 101 in which support protrusions 200a and 200b are appropriately arranged on each support pick 119. FIG.

このように本実施の形態では、取付孔１５０を本体１３１の多くの箇所に設けたので、支持突起２００の配置の自由度を高めることができる。支持突起２００は、フォーク１０１（各支持ピック１１９）上で基板Ｓを下支えする支点となるため、基板Ｓの大きさなどに応じて支持突起２００の配置や種類を変更にすることによって、フォーク１０１上に安定的に基板Ｓを保持することができる。例えば、基板Ｓがフォーク１０１に貼りつくことを防ぎたい場合には、基板Ｓとの接触面積の小さな半球状の支持突起２００ａを重点的に用いたり、逆に基板Ｓとフォーク１０１との吸着力を大きくしたい場合には、Ｏリング状の支持突起２００ｂを多数配置したりするなど、種々の応用が可能である。さらに、本実施の形態では、必要に応じてキャップ１３３の支持突起１４３も利用できるため、支持突起２００と支持突起１４３との組み合わせによって、フォーク１０１における基板Ｓの保持能力をより高め、安定的に基板Ｓを保持することができる。   As described above, in the present embodiment, since the attachment holes 150 are provided at many locations on the main body 131, the degree of freedom of arrangement of the support protrusions 200 can be increased. Since the support protrusion 200 serves as a fulcrum for supporting the substrate S on the fork 101 (each support pick 119), the fork 101 can be changed by changing the arrangement and type of the support protrusion 200 according to the size of the substrate S and the like. The substrate S can be stably held thereon. For example, when it is desired to prevent the substrate S from sticking to the fork 101, the hemispherical support protrusion 200a having a small contact area with the substrate S is used mainly, or conversely, the adsorption force between the substrate S and the fork 101 is used. When it is desired to increase the length, various applications such as arranging a large number of O-ring-shaped support protrusions 200b are possible. Furthermore, in the present embodiment, the support protrusion 143 of the cap 133 can also be used as necessary. Therefore, by combining the support protrusion 200 and the support protrusion 143, the holding ability of the substrate S in the fork 101 is further increased and stable. The substrate S can be held.

また、本実施の形態では、支持突起２００の交換が容易であるため、支持突起２００を、様々な機能を持つ材質で構成できる。例えば、支持突起２００の材質として導電性材料を用いることにより、基板Ｓと支持ピック１１９との導通を図ることができる。また、支持突起２００の構成材料として、例えば吸着性材料を用いて基板Ｓを確実に保持したり、逆に基板Ｓに対する粘着性が低い低粘着性材料を使用することにより、フォーク１０１への基板Ｓの貼り付きを防止したりすることができる。   In the present embodiment, since the support protrusions 200 can be easily replaced, the support protrusions 200 can be made of materials having various functions. For example, by using a conductive material as the material of the support protrusion 200, electrical connection between the substrate S and the support pick 119 can be achieved. Further, as a constituent material of the support protrusion 200, for example, the substrate S is securely held using an adsorbing material, or conversely, a low-adhesive material having low adhesiveness to the substrate S is used. S sticking can be prevented.

さらに、本実施の形態では、支持ピック１１９上に複数の支持突起２００を配置可能であることから、例えば図１８に示したように、支持ピック１１９のピックベース１１７側から、最も先端のキャップ１３３へ向けて、支持突起２００の高さを段階的に高くしていくことも可能である。つまり、図１８では、支持ピック１１９の上面に対して、最もピックベース１１７に近い側の１番目の支持突起２００の高さＨ１と、２番目の支持突起２００の高さＨ２と、３番目の支持突起２００の高さＨ３と、４番目のキャップ１３３の支持突起１４３の高さＨ４が、Ｈ４＞Ｈ３＞Ｈ２＞Ｈ１となるように設定されている。 Further, in the present embodiment, since a plurality of support protrusions 200 can be arranged on the support pick 119, as shown in FIG. 18, for example, the cap 133 at the front end from the pick base 117 side of the support pick 119 is used. It is also possible to increase the height of the support protrusion 200 step by step. That is, in FIG. 18, the upper surface of the support pick 119, the height H 1 of the first supporting protrusions 200 on the side closest to the pick base 117, a height H 2 of the second supporting projections 200, 3 th the height H 3 of the support projections 200, the height H 4 of the support protrusion 143 of the fourth cap 133, H 4> H 3> H 2> are set such that H 1.

このように、本実施の形態では、支持ピック１１９のピックベース１１７側から先端側へ向けて基板Ｓを支持する支持点が徐々に高くなるように支持突起２００および支持突起１４３の高さを設定することができる。かかる構成によって、基板Ｓの重さや支持ピック１１９の自重による撓みによってフォーク１０１の先端側が下降した場合でも、下降幅を支持突起２００および支持突起１４３の高さによってある程度まで相殺できる。従って、フォーク１０１によって基板Ｓを極力水平に近い状態で安定的に保持しつつ搬送動作を行うことができる。   As described above, in the present embodiment, the height of the support protrusion 200 and the support protrusion 143 is set so that the support point for supporting the substrate S gradually increases from the pick base 117 side to the front end side of the support pick 119. can do. With this configuration, even when the front end side of the fork 101 is lowered due to the weight of the substrate S or the weight of the support pick 119, the lowered width can be offset to some extent by the height of the support protrusion 200 and the support protrusion 143. Accordingly, the fork 101 can perform the transporting operation while stably holding the substrate S as close to horizontal as possible.

なお、以上の説明では、第１の実施の形態のキャップ１３３を例に挙げて説明したが、キャップ１３３に替えてキャップ１３９（第２の実施の形態）やキャップ１４１（第３の実施の形態）を使用できることは言うまでもない。本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１から第４の実施の形態と同様である。   In the above description, the cap 133 according to the first embodiment has been described as an example. However, instead of the cap 133, a cap 139 (second embodiment) and a cap 141 (third embodiment) are described. Needless to say, you can use Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first to fourth embodiments.

以上、本発明の実施形態を述べたが、本発明は上記実施形態に制約されることはなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、支持ピック１１９の本体１３１が中空の角筒状である場合を例に挙げたが、本体の形状としては、例えば断面が三角形をなす上面が平らな筒形状であってもよい。また、基板保持具として真空側の搬送室３に配備された搬送装置２３におけるフォーク１０１を例に挙げて説明したが、例えば大気側の搬送装置１５のフォーク１７ａ，１７ｂにも本発明を適用できる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not restrict | limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible. For example, in the above embodiment, the case where the main body 131 of the support pick 119 has a hollow rectangular tube shape is taken as an example, but the shape of the main body is, for example, a cylindrical shape with a flat top surface having a triangular cross section. May be. Further, the fork 101 in the transfer device 23 provided in the vacuum-side transfer chamber 3 has been described as an example as a substrate holder, but the present invention can also be applied to the forks 17a and 17b of the atmospheric-side transfer device 15, for example. .

また、本発明の基板保持具を使用可能な基板搬送装置の構成は、上下２段に配備されたスライドアーム式に限らず、１段構成でも３段構成でもよいし、スライド式に限らず例えば多関節アーム式の基板搬送装置であっても構わない。   In addition, the configuration of the substrate transport apparatus that can use the substrate holder of the present invention is not limited to the slide arm type arranged in the upper and lower two stages, and may be a one-stage configuration or a three-stage configuration. An articulated arm type substrate transfer apparatus may be used.

また、本発明の基板保持具による搬送対象としては、ＦＰＤ製造用の基板に限らず、各種用途の基板を対象にすることができる。   Moreover, as a conveyance object by the board | substrate holder of this invention, not only the board | substrate for FPD manufacture but the board | substrate of various uses can be made into object.

真空処理システムを概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing system. 図１の真空処理システムの平面図である。It is a top view of the vacuum processing system of FIG. 搬送機構の概略構成を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining schematic structure of a conveyance mechanism. フォークの概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a fork. 本発明の第１の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の断面図である。It is sectional drawing of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の断面図である。It is sectional drawing of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の断面図である。It is sectional drawing of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第４の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の断面図である。It is sectional drawing of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第４の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の別の例の断面図である。It is sectional drawing of another example of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第４の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの先端部の先端部のさらに別の例の断面図である。It is sectional drawing of another example of the front-end | tip part of the front-end | tip part of the support pick in the fork which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第５の実施の形態に係るフォークにおける支持ピックの平面図である。It is a top view of the support pick in the fork concerning a 5th embodiment of the present invention. 支持突起の固定構造を説明する図面である。It is drawing explaining the fixing structure of a support protrusion. 支持突起の固定構造の別の例を説明する図面である。It is drawing explaining another example of the fixing structure of a support protrusion. 支持突起の配置例を示す支持ピックの平面図である。It is a top view of the support pick which shows the example of arrangement | positioning of a support protrusion. 支持突起の別の配置例を示す支持ピックの平面図である。It is a top view of the support pick which shows another example of arrangement | positioning of a support protrusion. 支持突起のさらに別の配置例を示す支持ピックの平面図である。It is a top view of the support pick which shows another example of arrangement | positioning of a support protrusion. 支持突起の配置例を示すフォークの平面図である。It is a top view of the fork which shows the example of arrangement of a support projection. 支持突起の配設例を示す支持ピックの側面図である。It is a side view of the support pick which shows the example of arrangement | positioning of a support protrusion.

符号の説明Explanation of symbols

１ａ，１ｂ，１ｃ…プロセスチャンバ、３…搬送室、５…ロードロック室、１００…真空処理システム、１０１…フォーク、１１７…ピックベース、１１９…支持ピック、１３１…本体、１３３…キャップ、１３５…取付ブロック、２００…支持突起   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b, 1c ... Process chamber, 3 ... Transfer chamber, 5 ... Load lock chamber, 100 ... Vacuum processing system, 101 ... Fork, 117 ... Pick base, 119 ... Support pick, 131 ... Main body, 133 ... Cap, 135 ... Mounting block, 200 ... support projection

Claims (12)

基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材とを備え、これら複数の支持部材の上に基板を保持する基板保持具であって、
前記支持部材は、本体と該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて基板に下から当接する第２の突起部と、を備え、
前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されていることを特徴とする基板保持具。 A substrate holder that includes a base and a plurality of support members connected to the base at a distance from each other, and holds the substrate on the plurality of support members,
The support member includes a main body, a removable protective member that protects the tip of the main body, a plurality of removable first protrusions that are provided on the upper surface of the main body and come into contact with the substrate from below, and the protective member A second protrusion that is provided on the top of the substrate and abuts against the substrate from below,
With reference to the upper surface of the main body, the heights of the vertices of the first protrusion and the second protrusion are such that the support points for supporting the substrate gradually increase from the base side toward the tip side. A substrate holder characterized by being formed. 前記本体は、中空の筒形状をなしていることを特徴とする請求項１に記載の基板保持具。   The substrate holder according to claim 1, wherein the main body has a hollow cylindrical shape. 前記保護部材によって前記本体の先端が塞がれていることを特徴とする請求項２に記載の基板保持具。   The substrate holder according to claim 2, wherein a tip of the main body is blocked by the protective member. 前記保護部材は、前記本体の内部に挿入される凸部を有することを特徴とする請求項３に記載の基板保持具。   The substrate holder according to claim 3, wherein the protection member has a convex portion inserted into the main body. 前記保護部材は、前記本体の先端近傍の周囲を覆う被覆部を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基板保持具。   5. The substrate holder according to claim 1, wherein the protection member has a covering portion that covers a periphery of the vicinity of the tip of the main body. 前記本体は、ＣＦＲＰで構成されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の基板保持具。   The substrate holder according to any one of claims 1 to 5, wherein the main body is made of CFRP. 前記保護部材は、金属またはヤング率が１ＭＰａ以上１０ＧＰａ以下の高分子材料で構成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の基板保持具。   The substrate holder according to any one of claims 1 to 6, wherein the protective member is made of a metal or a polymer material having a Young's modulus of 1 MPa or more and 10 GPa or less. 前記金属がステンレス鋼またはアルミニウムであることを特徴とする請求項７に記載の基板保持具。   The substrate holder according to claim 7, wherein the metal is stainless steel or aluminum. 前記高分子材料が、フッ素ゴム、ポリテトラフルオロエチレン樹脂またはナイロン樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の基板保持具。   The substrate holder according to claim 7, wherein the polymer material is fluororubber, polytetrafluoroethylene resin, or nylon resin. 前記本体は、前記第１の突起部の配設位置および／または配設個数を可変に調節可能な複数の取付け部を有していることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の基板保持具。   The said main body has a some attachment part which can adjust the arrangement | positioning position and / or the number of arrangement | positioning of a said 1st projection part variably. The substrate holder according to item 1. 進出および退避可能な搬送アーム部と、該搬送アーム部に装着された基板保持具とを備え、前記基板保持具により基板を保持して搬送する基板搬送装置であって、
前記基板保持具は、基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材と、を備え、
前記支持部材は、本体と、該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて基板に下から当接する第２の突起部と、を有し、
前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されていることを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer apparatus that includes a transfer arm unit that can be advanced and retracted, and a substrate holder mounted on the transfer arm unit, and holds and transfers a substrate by the substrate holder,
The substrate holder includes a base and a plurality of support members connected to the base with a space therebetween,
The support member includes a main body, a removable protective member that protects the tip of the main body, a plurality of removable first protrusions that are provided on the upper surface of the main body and come into contact with the substrate from below, and the protection A second protrusion provided on the top of the member and contacting the substrate from below,
With reference to the upper surface of the main body, the heights of the vertices of the first protrusion and the second protrusion are such that the support points for supporting the substrate gradually increase from the base side toward the tip side. A substrate transfer device formed. 基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置へ基板を搬送する基板搬送装置と、を備えた基板処理システムであって、
前記基板搬送装置は、進出および退避可能な搬送アーム部と、該搬送アーム部に装着されて基板を保持する基板保持具とを備えており、
前記基板保持具は、基部と、互いに間隔をあけて前記基部に連結された複数の支持部材と、を備え、
前記支持部材は、本体と、該本体の先端を保護する着脱可能な保護部材と、前記本体の上面に設けられて基板に下から当接する複数の着脱可能な第１の突起部と、前記保護部材の上部に設けられて基板に下から当接する第２の突起部と、を備え、
前記本体の上面を基準に、前記第１の突起部及び前記第２の突起部の頂点の高さは、前記基部側から先端側へ向けて基板を支持する支持点が徐々に高くなるように形成されていることを特徴とする基板処理システム。
A substrate processing system comprising: a substrate processing apparatus that processes a substrate; and a substrate transfer apparatus that transfers the substrate to the substrate processing apparatus,
The substrate transfer device includes a transfer arm unit that can be advanced and retracted, and a substrate holder that is mounted on the transfer arm unit and holds a substrate,
The substrate holder includes a base and a plurality of support members connected to the base with a space therebetween,
The support member includes a main body, a removable protective member that protects the tip of the main body, a plurality of removable first protrusions that are provided on the upper surface of the main body and come into contact with the substrate from below, and the protection A second protrusion provided on the member and contacting the substrate from below,
With reference to the upper surface of the main body, the heights of the vertices of the first protrusion and the second protrusion are such that the support points for supporting the substrate gradually increase from the base side toward the tip side. A substrate processing system which is formed.
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