JP5057643B2 - チタン酸バリウム焼結体の製法 - Google Patents

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本発明は、チタン酸バリウム焼結体の製法に関するものである。
近年、電子機器の小型化に伴い、例えば、積層セラミック電子部品の代表例である積層セラミックコンデンサについては、市場の小型大容量化への要求に応えるため、誘電体層の薄層化および多層化が一層進められているが、誘電体層の製造工程で用いられるセラミックグリーンシートは、膜厚を薄層化するために用いるセラミック粉末の微粒化が図られている。
ここで、金属酸化物や金属の炭酸化物などを素原料粉末として用いる固相法により調製されるセラミック粉末の微粒化を達成するための方法として、下記の特許文献1に開示されるようなものが知られている。
図4は、セラミックスの製法における素原料粉末の混合および粉砕の従来の工程図である。図4に示すように、まず、複数種類の原料粉末を予め配合してスラリを調製し、次いで、このスラリを粉砕し乾燥させた後仮焼を行うものである。ここでの粉砕は粉砕容器内部に細かいボール(通称ビーズと呼ばれる)を充填して構成される強制撹拌型ミルを用いて行われる。上記の強制撹拌型ミルによれば、ポットの中に粉砕用のボールを入れ回転させて行う従来のボールミルに比較して、より直径の小さいメディアを用いることができることから、容易にメディアの直径に応じた粉砕粒度を達成できるという利点がある。
特開2003−306385号公報
しかしながら、上記したように、従来の製法では、複数種類の素原料粉末を粉砕前に混合した後に強制撹拌型ミルによる粉砕を行っているために、用いる複数種の素原料粉末の粉砕性が各々異なる場合、同一の粉砕条件下では、被粉砕物によっては過粉砕と粉砕不足とが同時に起こりやすくなり、過粉砕された方のスラリは凝集しやすくなり、一方、粉砕不足の素原料粉末では、目標とする粉砕粒度が得られず、このため粒径の違いにより均一なスラリが得にくいという問題があった。
また、上記のように複数の素原料粉末を用いる場合、どちらか一方でも粒径の大きな素原料粉末を用いた場合に、粗粒と微粒との分散が均一にできないことから、仮焼した後の粉末には部分的に不均質な組成物が形成される恐れがあった。
また、粉砕不足を解消しようとして過度の粉砕条件を採用した場合には、粉砕時のメディアや粉砕容器の内張り材質による不純物の混入量が多くなり、高純度の粉末が得られないという問題があった。
従って本発明は、極微細で均質なチタン酸バリウム粉末を容易に得ることができるとともに、粉砕時の不純物の混入量を低減でき、こうして得られたチタン酸バリウム粉末を用いることにより均質で微細結晶粒子により構成されるチタン酸バリウム焼結体の製法を提供することを目的とする。
本発明のチタン酸バリウム焼結体の製法は、Tiの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末と、Baの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末とを、それぞれ個別に、メディア強制撹拌型ミルまたはボールミルを用いて、素原料粉末の平均粒径が100nm以下となるように粉砕して、それぞれのスラリを作製する工程と、高圧分散装置を用いて、それぞれの前記スラリを高圧のガスとともに相互に吹き付けて混合スラリを作製する混合工程と、該混合スラリを乾燥させて作製した混合粉末を仮焼する仮焼工程と、該仮焼工程にて作製された仮焼粉末を用いて成形体を形成する成形工程と、該成形体を1150℃以下の温度で焼成する焼成工程と、を具備することを特徴とする。
本発明によれば、Tiの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末と、Baの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末の粉砕性が各々異なる場合であっても、それぞれの素原料粉末に対して、別々に、目標の粒度分布になるように粉砕条件を変えて仮焼前に粉砕を行うことにより、粉砕後に混合する素原料粉末の粒度を適正に調整できる。このような製法を採用することにより、過粉砕による素原料粉末の凝集を抑制できるとともに、過粉砕時に発生するミルあるいはボールからの不純物(コンタミネーション)の混入を抑制できる。
また、それぞれのスラリを作製する工程では、より被粉砕物が細かくなっても高い分散状態を与えるという理由からメディア強制撹拌型ミルまたはボールミルを用いて、素原料粉末の平均粒径が100m以下となるように粉砕する。
らに、次の工程である混合工程では、混合時のメディアやミルからのコンタミネーションを低減するという理由から高圧分散装置またはメディアレス分散装置を用いる。さらに本製法においては、混合スラリを乾燥させて作製した混合粉末を仮焼する仮焼工程と、仮焼工程にて作製された仮焼粉末を用いて成形体を形成する成形工程と、該成形体を1150℃以下の温度で焼成する焼成工程と、を具備する。このような製法により、従来、チタン酸バリウムの焼結温度としてなしえなかった1150℃以下の温度での焼成を容易にできる。
以下、本発明に関し、積層セラミックコンデンサ用の材料であるチタン酸バリウム粉末の例について詳細に図1をもとに説明する。図1は、本発明のセラミックスの製法を示す工程図である。本発明のセラミックスの製法では、まず、用いる複数種の素原料粉末をそれぞれ個別に粉砕することが重要である。特に、本発明においては、粉砕機としてメディア強制撹拌型ミルを用いることが好ましい。図2は、本発明にかかるメディア強制撹拌型ミルの概略断面図である。メディア強制撹拌型ミルAは、撹拌容器1を備え、撹拌容器1の一方端には、スラリ導入口3が設けられ、同じく他方端には、スラリ排出口5が設けられている。
撹拌容器1内には、主軸7によって保持された撹拌回転体としての複数のディスク9が設けられている。ディスク9は、主軸7を回転駆動することによって、所定の周速をもって回転するように構成されている。なお、メディア強制撹拌ミルにおいて、撹拌用回転体としては、上述したディスク9の他、ロータまたはピンなどが用いられることもある。そして、撹拌容器1内の主軸7やディスク9を除く空間に粉砕用のメディア(図示せず)が充填され、そのメディアは、通称ビーズと呼ばれる微粒なボールが充填されている。なお、ボール径は本発明における被粉砕物の最終的な大きさをより微粒なものにするという点で300μm以下が好ましい。また、メディアとしては、アルミナ、ジルコニアなど材質とするものを好適に用いることができる。メディアの充填率は、撹拌容器1の有効内容積、より特定的には撹拌容器1の有効内容積の80〜98%とされる。また、スラリ中の素原料粉末の体積濃度は2体積%以上とされる。さらにディスクの周速は3m/秒以上とされる。特に、4〜10m/秒が好ましい。
次に、ディスク9が所定の周速をもって回転されながら、撹拌容器1のスラリ導入口3から素原料粉末を含むスラリが導入される。次いで、メディア強制撹拌ミルにおいて、メディアとともに湿式混合されたスラリは、スラリ排出口5から排出される。
このスラリは、例えば、水、エタノールなどの液体に原料粉末を分散させることによって得られたものである。本発明においては、このスラリに、それぞれ適する分散剤を添加することが好ましい。
そして本発明によれば、素原料粉末を粉砕した後の平均粒径は100nm以下、特に80nm以下とし、また、コンタミネーションを500ppm以下にすることができる。
これに対して、用いる複数種の素原料粉末を混合した後に同じ条件で粉砕する従来の手法では、それらの素原料粉末の粉砕性が各々異なる場合、同一の粉砕条件下では、被粉砕物によっては過粉砕と粉砕不足とが同時に起こりやすくなり、過粉砕された方のスラリは凝集しやすくなり、一方、粉砕不足の素原料粉末では、目標とする粉砕粒度が得られず、このため粒径の違いによる均一なスラリが得にくくなる。
また、上記のように複数の素原料粉末を用いる場合、どちらか一方でも粒径の大きな素原料粉末を用いた場合に、粒径が素原料粉末の粒径に依存した粒径となり、仮焼粉末について部分的には均一な組成物が形成できにくく、この点でも均質化が妨げられる。
さらには、粉砕不足を解消しようとして過度の粉砕条件を採用した場合には、粉砕時のメディアや粉砕容器の内張り材質による不純物の混入量が多くなり、高純度の粉末が得られない。
次に、他の素原料粉末について上記と同様に粉砕を行い、これら粉砕処理した単独スラリを混合して混合スラリを調製する。この混合スラリを調製する際の混合機としては、メディアからの不純物の混入を抑制するという点で、高圧分散装置またはメディアレス分散機を用いる。図3はメディアレス分散機を示す断面模式図である。図3に示すように、メディアレス分散機Bは、撹拌容器21を備え、撹拌容器21の一方端には、スラリ導入口23が設けられ、同じく他方端には、スラリ排出口25が設けられている。
撹拌容器21内には、主軸27によって保持された撹拌回転体としての複数の撹拌翼29が設けられている。撹拌翼29は、主軸27を回転駆動することによって所定の周速をもって回転するように構成されている。
また、高圧分散装置は、粉砕処理した単独スラリを高圧のガスとともに相互に吹き付ける方法である。場合によってはセラミック機材上に吹き付ける方法も採れる。このように単独スラリを高圧のガスとともに相互に吹き付ける方法によって、メディアからの不純物の混入を抑制できる。圧力は100MPa以上が好ましい。
上述のような湿式混合工程における各条件は、後述する実験の結果に基づいて求められたものである。このような条件下での湿式混合工程を含む製造方法によれば、素原料粉末に対して混入する不純物量が極力少なく粒度分布がシャープなスラリが得られる。
より具体的には、例えば、一般式ABOで表されるペロブスカイト型複合酸化物にあっては、組成ばらつきとしてのA/Bモル比ばらつきを0.01以下にすることができる。つまり、本発明では、予め調製した単独のスラリ同士を混合することから、単独スラリ中に含まれるセラミック粉末は希釈されており、このため、セラミック粉末を直接混合する場合に比較して、希釈した分だけ組成変動を低減できる。なお、A/Bモル比のばらつきは、TEMにより10個の1次粒子についての組成を求めたときの最大値と最小値の差である。
また、本発明では、素原料粉末として、Ba、Tiの、酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物を用いることができるが、特に、一般式ABOで表されるペロブスカイト型複合酸化物粉末を得るにあたり、Aサイトを占める元素としてBa以外に2価である例えば、Mg、Ca、Sr、Bサイトを占める元素としてTi以外に4価であるZrを含有していてもよい
次に、排出された混合スラリは、乾燥された後、1000℃以下の温度で仮焼され、次いで、仮焼粉末についても上述の平均粒径を維持するように解砕される。解砕した混合原料粉末は、次に、所望の形状に成形した後、焼成することによりセラミック焼結体が得られる。このような本発明の製法によって得られる微粒のセラミック粉末を用いれば、焼成温度は、従来、チタン酸バリウムの焼結温度としてなしえなかった1150℃以下に容易にできる。
まず、この発明にかかる複合酸化物として、チタン酸バリウムを選び、素原料粉末として純度98%、平均粒径が約0.25μmのBaCOと、純度97%、平均粒径30nmのTiOを準備した。
次に、素原料粉末を各々撹拌容器に入れ、溶媒として、水と、分散剤としてポリアクリル酸塩と、を添加して、撹拌容器中で30分間撹拌して各々の予備分散スラリを調製した。このときの素原料粉末の水に対する固形分比率は、BaCOが40質量%、TiOが10質量%となるように分散させた。
次に、予備分散スラリをメディア強制撹拌型ミル、ボールミル、あるいは高圧分散機を用いて粉砕、混合処理を行った。粉砕条件は表1に示した。メディアはジルコニアを用い、粉砕条件としては、メディア径、メディア充填率、周速、滞留時間、圧力、流量およびミル内を通過させるパス回数として調整した。各試料の調製方法は以下の条件にて行った。
粉砕して調製した各スラリのBa/Ti比が1になるように混合スラリを調製した。混合スラリの乾燥は温度110℃で、10時間の条件とした。
本発明の試料における粉砕、混合の条件は以下のようにした。即ち、No.1では、得られた2種類の予備分散スラリーを各々メディア強制撹拌型ミルで粉砕分散した。BaCOのメディア強制撹拌型ミル条件はメディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速6m/s、滞留時間3min、2パスとした。TiOのメディア強制撹拌型ミル条件はメディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速12m/s、滞留時間3minとした。次に得られた2種類のスラリーをBa/Tiモル比=1.000となるように調合し、高圧分散装置にて単独スラリを高圧のガスとともに相互に吹き付けて分散混合した。圧力150MPa、流量500ml/min、1パスで処理した。
No.2では、No.1と同じ条件でメディア強制撹拌型ミルにて粉砕処理した2種類のスラリーを、Ba/Tiモル比=1.000となるように調合し、ビーズミルにて分散混合した。メディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速4m/s、滞留時間5minとした。
No.3では、得られた2種類の予備分散スラリーをボールミルで粉砕分散した。BaCOのボールミル条件は1Lポリポット、メディア0.5φZrO、充填率60%、周速1m/s、回転時間72Hrとした。TiOのボールミル条件はメディア0.5φZrO、充填率60%、周速1m/s、回転時間150Hrとした。
次に得られた2種類のスラリーをBa/Tiモル比=1.000となるように調合し、高圧分散装置にて分散混合した。圧力150MPa、流量500ml/min、1パスで処理した。
No.4では、No.3と同じ条件でボールミルにて粉砕処理した2種類のスラリーを、Ba/Tiモル比=1.000となるように調合し、メディア強制撹拌型ミルにて分散混合した。メディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速4m/s、滞留時間5minとした。
比較例(プロセスB)であるNo.5〜7については、まず、BaCO粉末とTiO粉末を、Ba/Tiモル比=1.000となるように調合し、粉末重量に対して1%のポリアクリル酸塩系分散剤を添加して、純水中に固形分比率が30重量%となるように分散させ、攪拌機で30分間攪拌し、予備混合スラリーを得た。
No.5では、得られた予備混合スラリーをメディア強制撹拌型ミルで粉砕、混合した。メディア強制撹拌型ミル条件はメディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速12m/s、滞留時間8minとした。
No.6では、予備混合スラリーをメディア強制撹拌型ミルで粉砕、混合した。メディア強制撹拌型ミル条件はメディア0.05φZrO、ビーズ充填率85%、周速6m/s、滞留時間8minとした。
No.7では、予備混合スラリーを高圧分散装置にて分散混合した。圧力245MPa、流量500ml/min、3パスで処理した。
次に、上記No.1〜7の混合粉末100質量部に対して、焼結助剤としてガラス粉末を1質量部、バインダとしてポリビニルアルコールを3質量部添加して造粒を行い、この造粒した粉末をプレス成形機を用いて圧力100MPaにて直径12mmΦ、厚み2mmの成形体を形成した。
次に、この成形体を大気中、500℃、2時間の熱処理をして脱脂を行い、次に、還元雰囲気中、1100℃にて2時間の焼成を行い、さらに、大気中1000℃にて再酸化処理を行い、セラミック焼結体を得た。次に、得られたセラミック焼結体の上下表面にIn・Ga合金を塗布し、特性評価用資料とした。不純物量は混合粉末についてICP分析を行い求めた。上記得られた粉砕後の粉末および焼結後の結晶粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真より20個の平均値として求めた。混合粉末における未反応のBaCO量および格子定数c/aはX線回折パターンからリートベルト法により求めた。セラミック焼結体の比誘電率はLCRメータを用いて、1MHz、1v、1分間保持後の測定により求めた。表1に結果を示す。
Figure 0005057643
表1の結果から明らかなように、No.1、3は、素原料粉末を各々粉砕処理した後に高圧分散装置にて混合して得られた本発明の試料を示している。混合後の不純物量が500ppm以下に抑えられていた。BaCO残量が1%以下と少なく正方晶性c/aも1.007以上と高かった。いずれも粉砕後の平均粒径は95nm以下、焼結後の結晶粒径も150nm以下であった。また、結果として得られた焼結体の比誘電率は900以上を満たす特性が得られた。なお、No.2、4は参考例である。
No.5〜7は、素原料粉末を混合した後に粉砕した本発明の範囲外の試料を示している。不純物量が500ppm以上と多く、BaCOの未反応分が6%以上と多く、正方晶性c/aが1.002以下と低かった。粉砕後の平均粒径は110〜160nm、焼結後の結晶粒径も180〜250nmであった。このため、得られる焼結体の比誘電率は著しく低下していた。
本発明のチタン酸バリウム焼結体の製法における素原料粉末の粉砕および混合を示す工程図である。 本発明にかかるメディア強制撹拌型ミルの概略断面図である。 本発明にかかるメディアレス分散機を示す断面模式図である。 チタン酸バリウム焼結体の製法における素原料粉末の混合および粉砕の従来の工程図である。
符号の説明
A メディア強制撹拌型ミル
1 撹拌容器
3 スラリ導入口
5 スラリ排出口
7 主軸
9 ディスク
B メディアレス分散機
21 撹拌容器
23 スラリ導入口
25 スラリ排出口
27 主軸
29撹拌翼

Claims (1)

  1. Tiの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末と、Baの酸化物、炭酸化合物、塩化物のうちいずれかの化合物からなる素原料粉末とを、それぞれ個別に、メディア強制撹拌型ミルまたはボールミルを用いて、素原料粉末の平均粒径が100nm以下となるように粉砕して、それぞれのスラリを作製する工程と、
    高圧分散装置を用いて、それぞれの前記スラリを高圧のガスとともに相互に吹き付けて混合スラリを作製する混合工程と、
    該混合スラリを乾燥させて作製した混合粉末を仮焼する仮焼工程と、
    該仮焼工程にて作製された仮焼粉末を用いて成形体を形成する成形工程と、
    該成形体を1150℃以下の温度で焼成する焼成工程と、
    を具備することを特徴とするチタン酸バリウム焼結体の製法。
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