JP5030542B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
このようなマスクの寸法が下方の処理される材料層に形成される回路構造は、前処理であるリソグラフィー処理がウエハ処理の元になっている。
(1)各処理容器の形状あるいは配置によって、ウエハのノッチ位置との相関位置関係が異なるために、ウエハ面内のウエハ処理特性が各処理室間で異なるという問題が発生していた。即ち、ウエハ処理において、精度良く安定して行って処理の効率や歩留まりを向上させるための構成については、十分に考慮されていなかった。
さらに、位置合わせ装置200による基準箇所の位置へのウエハ130の位置合わせの動作(のパターン)の指令を位置合わせ装置200に発信する(ステップ405)。なお、本実施例において、このような主制御装置120による処理の情報の入手及びウエハ130の基準箇所の位置の設定、位置合わせ装置200への指令の発信は、ステップ402処理の指令の受信から位置合わせ装置200上でのウエハ130の位置合わせまでの間に行われる。
さらには、処理の特性は、上記排気装置のみでなく、プラズマ形成のための電界または磁界の供給装置、試料台の形状、あるいは、処理室の内表面を構成する部材の配置の差異等の装置構成の差により影響を受けるのみでなく、両者で実施される処理の条件の差異によっても変動が生じる。例えば、同一の仕様のウエハに同一の処理を異なる処理室で行おうとする場合でも、処理室毎に異なる微小な仕様や構造上の相違から、電界の強度や周波数値、ガス圧力、ガスの流量といった処理の条件も処理室毎に異なることが一般的である。
上記実施例の真空処理装置100は、処理ユニット102,103は少なくとも処理室内の構成や電磁波源118,119の形状や配置が搬送ラインに垂直な奥行き方向の面について左右対称に配置されて、処理対象の試料に対して同等の処理を施すことが可能な構成を有している。しかしながら、上記のように、本実施例の処理ユニット102,103は、略多角形状の真空搬送容器110の隣り合う側壁に取り付けられ連結され、真空搬送容器110内に配置され中心の上下軸の周りに回転し処理ユニット102,103内にアームを伸張する一つの真空搬送ロボット115により試料が搬送される構成である。
101,102,103,104のハードが異なる例の場合を示す。例えば、装置のレイアウトや設置スペース等が図5,6に示すように処理ユニット102,103の構造が対称配置による相違、即ち、各処理ユニット102,103内のウエハ130が載せられる試料台122,123とプラズマ形成のための高周波を導入する導波管601,602の配置方向・プロセスガスの排気方向等の相対位置の相違により処理ユニット102,103内の処理室内のプラズマ状態、及び特性は異なる。
においてハード・プラズマ状態、及び特性・プロセス特性とウエハ膜仕様を考慮した条件にて最適な処理特性を得られるようにすることで、より最適、且つ高精度なウエハ処理ができるようにした。
101 処理ユニット
102 処理ユニット
103 処理ユニット
104 処理ユニット
105 カセット戴置台
106 ロック室
107 ロック室
108 大気搬送ロボット
109 筐体
110 真空搬送容器
111 臥台
112 臥台
113 臥台
114 臥台
115 真空搬送ロボット
120 主制御装置
121 試料台
122 試料台
123 試料台
124 試料台
130 ウエハ
131 切り欠き(ノッチ)
132 開口部
133 開口部
151 真空側ブロック
152 大気側ブロック
200 位置合わせ装置
201 光学測定手段
202 光学測定手段
206 カセット
301 ホストコンピュータ
425 データベース
601 導波管
602 導波管
Claims (4)
- 各々が減圧された内部に処理対象の円板状の試料が配置されその内側に処理用のガスが供給され前記試料を処理するためのプラズマが形成される処理室を備えた複数の真空容器と、
各々の前記真空容器内部の処理室内に配置されその上面に前記試料が載せられる円形の載置面を有した円筒形状の試料台と、
筺体の内側に配置され内部で前記試料が搬送される大気搬送室と、
前記筺体の前面側に配置され前記試料が複数収納可能なカセットがその上面に載置されるカセット台と、
前記筺体の後方側に配置されてその周囲の外側に前記複数の真空容器が連結され、減圧された内部を前記試料が搬送される真空搬送室と、
前記筺体の背面と前記真空搬送室との間に水平方向に並列に配置されこの真空搬送室と前記大気搬送室とに連通されて連結され前記大気搬送室から搬入された試料を内側に収納した状態で該内側を減圧する及び前記真空搬送室から搬入された試料を内側に収納した状態で該内側を大気圧まで昇圧する複数のロック室と、
前記大気搬送室の内部に配置され前記カセットと前記ロック室との間で前記試料を搬送する大気搬送ロボットと、
前記真空搬送室の内部に配置され予め定められた前記複数の真空容器のうちの1つの内部に配置された前記処理室と前記ロック室との間で前記試料を搬送するものであって、その上下方向の中心軸周りに回転してこの中心から前記処理室またはいずれかの前記ロック室の内部へ向かう方向に沿って伸長および収縮して前記試料を搬送する真空搬送ロボットと、
前記筺体に設置され前記カセットと前記ロック室との間の前記試料の搬送経路上に配置され前記試料を異なる位置に位置合わせする位置合わせ機であって、前記試料がその上に載せられて回転する載置台と該試料の外周部に配置された切り欠きのこの試料の中心周りの角度位置を検知する検知器とを備えた位置合わせ機とを備えた真空処理装置であって、
前記位置合わせ機が、当該試料が前記大気搬送ロボット及び前記真空搬送ロボットにより搬送される経路またはこの試料が予め定められた搬送される予定の目標の処理室を考慮して、この目標の処理室内の前記試料台上の前記載置面上に載せられた状態でこの処理室の前記試料台の上下方向の軸の軸方向の上方から見て前記真空搬送ロボットの当該処理室についての前記搬送の方向に対する前記プラズマの形成のために供給される電界の方向、排気の方向、ガスの供給の方向を含む前記処理の特性に関する方向の1つに対して前記試料の中心から前記切り欠き部に向かう方向が水平面内でなす角度を別の試料が前記他方の真空容器の処理室内の前記試料台の前記載置面に載せられた状態でこの他方の処理室の試料台の前記軸の上方から見て当該他方の処理室での前記処理の特性に関する方向の1つに対する前記別の試料の中心から前記切り欠き部に向かう方向が水平面内でなす角度と等しくなるように、前記試料を回転させて前記中心に対する前記切り欠き部の角度位置を前記異なる位置にする真空処理装置。 - 各々が減圧された内部に処理対象の円板状の試料が配置されその内側に処理用のガスが供給され前記試料を処理するためのプラズマが形成される処理室を備えた2つの真空容器と、
各々の前記真空容器内部の処理室内に配置されその上面に前記試料が載せられる円形の載置面を有した円筒形状の試料台と、
筺体の内側に配置され内部で前記試料が搬送される大気搬送室と、
前記筺体の前面側に配置され前記試料が複数収納可能なカセットがその上面に載置されるカセット台と、
前記筺体の後方側に配置されてその周囲の外側に前記2つの真空容器が連結され、減圧された内部を前記試料が搬送される真空搬送室と、
前記筺体の背面と前記真空搬送室との間に水平方向に並列に配置されこの真空搬送室と前記大気搬送室とに連通されて連結され前記大気搬送室から搬入された試料を内側に収納した状態で該内側を減圧する及び前記真空搬送室から搬入された試料を内側に収納した状態で該内側を大気圧まで昇圧する複数のロック室と、
前記大気搬送室の内部に配置され前記カセットと前記ロック室との間で前記試料を搬送する大気搬送ロボットと、
前記真空搬送室の内部に配置され予め定められた前記2つの真空容器のうちの1つの内部に配置された前記処理室と前記ロック室との間で前記試料を搬送するものであって、その上下方向の中心軸周りに回転してこの中心から前記処理室またはいずれかの前記ロック室の内部へ向かう方向に沿って伸長および収縮して前記試料を搬送する真空搬送ロボットと、
前記筺体に設置され前記カセットと前記ロック室との間の前記試料の搬送経路上に配置され前記試料を前記試料が搬送される前記予め定められた真空容器内の処理室に応じた異なる位置に位置合わせする位置合わせ機であって、前記試料がその上に載せられて回転する載置台と該試料の外周部に配置された切り欠きのこの試料の中心周りの角度位置を検知する検知機とを備えた位置合わせ機とを備えた真空処理装置であって、
前記試料がその外周部の所定の箇所に切り欠きを有し、各々の前記処理室内の前記試料台の載置面が前記試料の切り欠きに合わせた形状を有した部分を有し、
前記2つの真空容器は各々の内部に配置された前記処理室においてその内部の試料台の軸方向の上方から見て、前記真空搬送ロボットの当該処理室についての前記搬送の方向に対する前記プラズマの形成のために供給される電界の方向、排気の方向、ガスの供給の方向を含む前記処理の特性に関する方向の1つに対して前記試料台の前記載置面の中心からその外周部の前記試料の切り欠きに合わせた形状を有した部分に向かう方向が水平面内でなす角度が等しくされ、
前記位置合わせ機が、当該試料が前記大気搬送ロボット及び前記真空搬送ロボットにより搬送される経路またはこの試料が予め定められた搬送される予定の目標の処理室を考慮して、前記試料を回転されて前記中心に対する前記切り欠き部の角度位置を前記異なる位置にする真空処理装置。
- 請求項1に記載の真空処理装置であって、
前記複数の真空容器内の処理室の各々は、処理対象の前記試料が前記試料台上の前記載置面上に載せられた状態でこの処理室の前記試料台の上下方向の軸の軸方向の上方から見て前記試料台の中心と前記真空搬送ロボットの前記回転の中心とを結ぶ線と前記試料の中心から前記切り欠き部に向かう方向とが水平面内でなす角度が異なるものである真空処理装置。 - 請求項2に記載の真空処理装置であって、
前記2つの真空容器内の処理室の各々は、前記真空搬送ロボットの前記回転の中心軸の上方から見て各々の処理室の内部に配置された前記試料台の前記載置面の中心と前記真空搬送ロボットの前記回転の中心軸とを結ぶ方向が前記真空搬送ロボットの前記回転の中心軸を通るこの真空処理装置の前後方向の面に対して対称に配置された真空処理装置。
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