JP5024842B1 - 検査装置、及び検査方法 - Google Patents
検査装置、及び検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5024842B1 JP5024842B1 JP2011160926A JP2011160926A JP5024842B1 JP 5024842 B1 JP5024842 B1 JP 5024842B1 JP 2011160926 A JP2011160926 A JP 2011160926A JP 2011160926 A JP2011160926 A JP 2011160926A JP 5024842 B1 JP5024842 B1 JP 5024842B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- objective lens
- detector
- optical
- inspection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、照明光が入射する偏光ビームスプリッタ11と、偏光ビームスプリッタ11からの照明光を集光して、EUVマスク40に照射する対物レンズ13と、EUVマスク40で反射して対物レンズ13を通過した反射光の一部の光路を変化させて、反射光の光軸と垂直な面における位置に応じて反射光を分割する分割ミラー15と、一方の光ビームを受光して、対物レンズ13の視野における第1の領域を撮像する検出器16と、偏光ビームスプリッタからの光学距離が検出器17の偏光ビームスプリッタ11からの光学距離と異なる位置に配置され、他方の光ビームを受光して対物レンズ13の視野における第2の領域を撮像する検出器17と、を備えるものである。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の実施の形態1について図面を参照しながら説明する。
本発明の実施の形態1に係る検査装置について、図1を用いて説明する。図1は、EUVマスクの多層膜基板を検査するための検査装置100の断面構造を示した構成図である。検査装置100では、照明光としてS波の反射照明光Lのみが図示されていない光源から導かれており、PBS11に入射して下方に反射される。なお、非アクティニック検査を行うため、反射照明光Lとして、例えば193nmのDUV光を用いることができる。PBS11で反射された反射照明光Lは、1/4波長板12を通過して円偏光となる。円偏光となった反射照明光Lは、対物レンズ13を通って、EUVマスク40の表面に集光する。
次に本発明の実施形態2に係る検査装置200について、図3を用いて説明する。なお、本実施形態にかかる検査装置200の基本的構成は、実施の形態1に係る検査装置100と同様であるため、重複する構成については、適宜説明を省略する。特に、PBS11、及び波長板12については、実施の形態1と同様にリレーレンズ14と対物レンズ13の間に配置されているため、本実施形態では図示を省略している。
次に実施形態3の係る検査装置の構成に付いて図6を用いて説明する。図6は本実施形態にかかる検査装置300の構成図である。検査装置300では、上記の実施形態と同様に2台の検出器16、17が用いられている。ただし、上記の実施形態と異なる点は、これら検出器16、17へ投影する光学像を分割するための分割ミラー15が、検出器16、17直前ではなく、中間投影像の近傍に配置されていることである。そのため、その中間投影像の前後でリレー光学系19が形成されている。リレー光学系19はリレーレンズ14a〜14eを備えている。
12 1/4波長板
13 対物レンズ
14 リレーレンズ
15 分割ミラー
16 検出器
17 検出器
21 補正板
22 補正板
40 EUVマスク
41 基板
42 多層膜
43 保護膜
44 吸収体
Claims (8)
- EUVマスクに用いられる試料の検査装置であって、
照明光が入射する偏光ビームスプリッタと、
前記偏光ビームスプリッタからの照明光を集光して、試料に照射する対物レンズと、
前記試料で反射して前記対物レンズを通過した反射光の一部の光路の向きを変化させて、前記反射光の光軸と垂直な面における位置に応じて当該反射光を、前記対物レンズの視野における異なる領域ごとに分割する分割手段と、
前記分割手段で分割された一方の光ビームを受光して、前記対物レンズの視野における第1の領域を撮像する第1の検出器と、
前記偏光ビームスプリッタからの光学距離が前記第1の検出器の前記偏光ビームスプリッタからの光学距離と異なる位置に配置され、前記分割手段で分割された他方の光ビームを受光して前記対物レンズの視野における第2の領域を撮像する第2の検出器と、を備え、
前記第1及び第2の領域が同じ偏光状態の照明光で照明されていることを特徴とする検査装置。 - 前記分割手段で分割された一方の光ビームの光路中に挿脱可能に設けられ、前記一方の光ビームの光学距離を調整する平行平板が設けられている請求項1に記載の検査装置。
- 前記第1及び第2の検出器への投影倍率が20倍以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の検査装置
- 前記対物レンズから前記第1及び第2の検出器までの間に前記試料の中間投影像を形成するリレー光学系が配置され、
前記中間投影像が形成される面の近傍に前記分割手段が配置されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の検査装置。 - EUVマスクに用いられる試料の検査方法であって、
偏光ビームスプリッタに照明光を入射させるステップと、
前記偏光ビームスプリッタからの照明光を対物レンズにより集光して、試料に照射するステップと、
前記試料で反射して前記対物レンズを通過した反射光の一部の光路の向きを変化させて、前記反射光の光軸と垂直な面における位置に応じて当該反射光を、前記対物レンズの視野における異なる領域ごとに分割するステップと、
分割された一方の光ビームを第1の検出器で受光し、前記対物レンズの視野における第1の領域を撮像するステップと、
前記偏光ビームスプリッタからの光学距離が前記第1の検出器の前記偏光ビームスプリッタからの光学距離と異なる位置に配置された第2の検出器で分割された他方の光ビームを受光し、前記対物レンズの視野における第2の領域を撮像するステップと、を備え、
前記第1及び第2の領域が同じ偏光状態の照明光で照明されていることを特徴とする検査方法。 - 分割された一方の光ビームの光路中に挿脱可能に設けられた平行平板が、分割された一方の反射光の光学距離を調整することを特徴とする請求項5に記載の検査方法。
- 前記第1及び第2の検出器への投影倍率が20倍以上であることを特徴とする請求項5又は6に記載の検査方法
- 前記対物レンズから前記第1及び第2の検出器までの間に前記試料の中間投影像を形成するリレー光学系が配置され、
前記中間投影像が形成される面の近傍で前記反射光を分割している請求項5〜7のいずれか1項に記載の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011160926A JP5024842B1 (ja) | 2011-07-22 | 2011-07-22 | 検査装置、及び検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011160926A JP5024842B1 (ja) | 2011-07-22 | 2011-07-22 | 検査装置、及び検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5024842B1 true JP5024842B1 (ja) | 2012-09-12 |
JP2013024772A JP2013024772A (ja) | 2013-02-04 |
Family
ID=46980566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011160926A Expired - Fee Related JP5024842B1 (ja) | 2011-07-22 | 2011-07-22 | 検査装置、及び検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5024842B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6587264B1 (ja) | 2018-12-11 | 2019-10-09 | レーザーテック株式会社 | マスク検査装置、切り替え方法及びマスク検査方法 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS638621A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-14 | Nikon Corp | 顕微鏡画像撮影装置 |
JPH01254844A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | 画像認識方法 |
JPH02247510A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Fujitsu Ltd | 外観検査装置 |
JPH03209153A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Narumi China Corp | 自動外観検査装置 |
JPH06229936A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検出方法とその装置 |
JP2000199856A (ja) * | 1999-01-05 | 2000-07-18 | Nikon Corp | 観察方法及び観察装置 |
JP2001264266A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | 基板検査装置 |
JP2002501194A (ja) * | 1998-01-22 | 2002-01-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学検査方法及び装置 |
JP2006072147A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Lasertec Corp | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
JP2006170932A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2011095177A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Lasertec Corp | 検査装置、及び検査方法 |
JP2011106965A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Lasertec Corp | 検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法 |
-
2011
- 2011-07-22 JP JP2011160926A patent/JP5024842B1/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS638621A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-14 | Nikon Corp | 顕微鏡画像撮影装置 |
JPH01254844A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | 画像認識方法 |
JPH02247510A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Fujitsu Ltd | 外観検査装置 |
JPH03209153A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Narumi China Corp | 自動外観検査装置 |
JPH06229936A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検出方法とその装置 |
JP2002501194A (ja) * | 1998-01-22 | 2002-01-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学検査方法及び装置 |
JP2000199856A (ja) * | 1999-01-05 | 2000-07-18 | Nikon Corp | 観察方法及び観察装置 |
JP2001264266A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | 基板検査装置 |
JP2006072147A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Lasertec Corp | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
JP2006170932A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2011095177A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Lasertec Corp | 検査装置、及び検査方法 |
JP2011106965A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Lasertec Corp | 検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013024772A (ja) | 2013-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI557513B (zh) | 疊對測量裝置及使用該疊對測量裝置之微影裝置及器件製造方法 | |
JP5723670B2 (ja) | 光学システム、検査システムおよび製造方法 | |
US10319088B2 (en) | Inspection apparatus of EUV mask and its focus adjustment method | |
US10345246B2 (en) | Dark field wafer nano-defect inspection system with a singular beam | |
TWI498548B (zh) | Pattern inspection apparatus | |
JP2017530394A (ja) | 高開口数対物レンズシステム | |
JP5526370B2 (ja) | 照明光学系、照明方法、及び検査装置 | |
JP5008012B2 (ja) | 検査装置、及び検査方法 | |
JP2008134214A (ja) | マスク検査装置 | |
JP2012058558A (ja) | マスクブランクの検査方法およびマスクの製造方法 | |
JP2005265736A (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
US8049897B2 (en) | Reticle defect inspection apparatus and inspection method using thereof | |
JP2014081227A (ja) | 検査装置、検査方法、パターン基板の製造方法 | |
JP5024842B1 (ja) | 検査装置、及び検査方法 | |
TWI358529B (en) | Shape measuring apparatus, shape measuring method, | |
JP4761588B1 (ja) | Euvマスク検査装置 | |
JP2017187547A (ja) | Euvマスク検査装置、及びフォーカス調整方法 | |
US20210247323A1 (en) | Inspection device and inspection method | |
JP2009003172A (ja) | マスク検査装置、マスク検査方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
JP4596801B2 (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
WO2006046430A1 (ja) | 焦点検出装置 | |
JP2020094853A (ja) | マスク検査装置、切り替え方法及びマスク検査方法 | |
JP2019138714A (ja) | 照明方法、検査方法、照明装置及び検査装置 | |
JP7296296B2 (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP2011017714A (ja) | マスク欠陥検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110914 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20110922 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110922 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20111111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120515 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120613 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150629 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5024842 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20220124 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |