JP5015237B2 - 有機elディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
次に、上記した有機ELデバイスを備えた有機ELディスプレイパネルの製造方法を説明する。先ず図3Aに示すように、実施例の有機ELディスプレイパネルの支持基板となる基板10上に、導電性材料からなる第1電極20を形成する。具体的には、基板10上に蒸着法やスパッタ法等により導電性材料を成膜し、その後フォトリソグラフ法によってパターニングすることによって第1電極20を形成する。
なお、第1電極20は基板10に対して密着性が高いことがより好ましい。具体的には、第1電極20はJIS−K5400−8.5.2の碁盤目試験によって剥離がないレベルの密着性を有していることが望ましい。これにより、第1電極20が基板10から剥離する問題が回避される。また、フルカラーの有機ELディスプレイパネルを製造すべく、基板10にカラーフィルタや色変換層等が備わっていても良い。
パッシブマトリックス駆動型の有機ELディスプレイパネルを以下の手順によって作製した。
1) スパッタ法によりガラス基板上にITOを成膜し、フォトエッチングにより0.3mmピッチで256本のストライプ状の第1電極を形成する。
2) スパッタ法とフォトエッチングによりTi(50nm)/Al(200nm)/Ti(50nm)の金属膜からなる引き出し電極を形成する。
3) 発光領域に対応する部分に、マスク蒸着によってベタ状にCuPC(25nm)/TPD(50nm)/Alq3(600nm)/Li2O(1nm)の第1有機機能層を形成する。
4) マスク蒸着によって、引き出し電極の接続部を含む発光領域にベタ状にAl(100nm)からなる導電性薄膜を形成する。
5) 直径28mmの円形刃を有するOLFA製のロータリカッターS型を用い、Al膜(導電性薄膜)にストライプ状の第1電極に直交する方向に0.3mmピッチの63本の切り込みを入れる。かかる切り込み操作により、Al膜は64本の帯状電極からなるストライプ形状にパターニングされる。
6) 更に封止などを行い、本発明の実施例1による有機ELディスプレイパネルが完成する。
パッシブマトリックス駆動型の有機ELディスプレイパネルを以下の手順によって作製した。
1) スパッタ法によりガラス基板上にITOを成膜し、フォトエッチングにより0.3mmピッチで256本のストライプ状の第1電極を形成する。
2) スパッタ法とフォトエッチングによりTi(50nm)/Al(200nm)/Ti(50nm)の金属膜からなる引き出し電極を形成する。
3) 発光領域に対応する部分に、インクジェット法やスプレー法などの塗布法によってPEDOTからなる100nm膜厚の第1有機機能層を形成する。
4) 各画素毎に、マスク蒸着によって島状にTPD(50nm)/Alq3(600nm)/Li2O(1nm)の第2有機機能層を形成する。
5) マスク蒸着によって、引き出し電極の接続部まで含んだ発光領域にベタ状にAl(100nm)からなる導電性薄膜を形成する。
6) 直径28mmの円形刃を有するOLFA製のロータリカッターS型を用い、Al膜(導電性薄膜)にストライプ状の第1電極に直交する方向に0.3mmピッチの63本の切り込みを入れる。かかる切り込み操作により、Al膜は64本の帯状電極からなるストライプ形状にパターニングされる。
7) 更に封止などを行い、本発明の実施例2による有機ELパネルが完成する。
1)上記した実施例1及び2と同様の方法によって第2電極となる導電性薄膜を成膜する。
2)Al膜上に該Al膜と同一のパターンとなるようにマスク蒸着によりInからなる200nmの膜厚の剥離防止層を形成した。これにより剥離防止層の形成以外は、実施例1及び2と全く同様にして本発明による製造方法を実現することができる。
上記した本発明の実施形態に係る有機ELディスプレイパネルにおいては、有機機能層は発光領域にのみ形成されるものであった。これにより、第2電極55と引き出し電極70とを電気的に接続する場合に、これらの間に有機機能層が介在することがないので、両電極の間に良好な接触状態を確保することが可能となる。しかしながら本発明による製造方法において、図1のように第1及び第2有機機能層を形成した場合は、互いに隣接する引き出し電極の間には有機機能層が成膜されていないため、この領域においては、基板の上に直接第2電極となる導電性薄膜が成膜されることになる。従って、導電性薄膜の切断の際、かかる隣接する引き出し電極の間に成膜された導電性薄膜が完全に切断されないおそれがある。
Claims (14)
- 基板上に第1電極を形成するステップと、有機機能層を形成するステップと、複数の帯状電極からなる第2電極を形成するステップと、からなる有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第2電極の形成ステップは、前記有機機能層の上に成膜された導電性薄膜を機械的に切断することによって、前記複数の帯状電極における隣接する帯状電極同士を単一の機械的切断条痕を挟んで形成せしめる離間ステップを含み、
前記離間ステップにおける切断は、前記基板上の円形刃の転動切断であることを特微とする製造方法。 - 前記有機機能層の形成ステップは、前記機械的切断条痕が形成される部分において少なくとも一層の前記有機機能層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 少なくとも前記機械的切断条痕が形成される部分の上層部に剥離防止層を形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記剥離防止層は、前記第2電極となる導電性薄膜が成膜される領域と略同一の領域に成膜されることを特徴とする請求項3記載の製造方法。
- 前記剥離防止層は、前記第2電極となる導電性薄膜を覆うように成膜されることを特徴とする請求項3記載の製造方法。
- 前記剥離防止層は、金属からなることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1に記載の製造方法。
- 前記剥離防止層は、Bi 、Pb 、Sn 、Cd及びInのうちの少なくとも1つからなることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1に記載の製造方法。
- 前記第2電極と接続する引き出し電極を形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記有機機能層は、前記引き出し電極の領域を除いて前記第2電極となる導電性薄膜が成膜される領域よりも広い領域に成膜されることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
- 前記有機機能層は、前記引き出し電極の非エッジ部の領域を除いて前記第2電極となる導電性薄膜が成膜される領域よりも広い領域に成膜されることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
- 前記第2電極を形成するステップは、前記第2電極となる導電性薄膜における引き出し電極側の端部を櫛刃状に形成するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記第2電極を形成するステップは、前記第2電極と前記引き出し電極とを接続するつなぎ電極を形成するステップを含むことを特微とする請求項8に記載の製造方法。
- 前記第2電極の形成ステップの完了後に第2電極の絶縁状態を検査するステップを更に含むことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1に記載の製造方法。
- 同一の刃物を用いて前記第2電極の形成が行なわれた複数の有機ELディスプレイパネルについて、前記検査ステップの結果を累積して記憶するステップと、前記累積して記憶した検査結果における絶縁不良の頻度が設定値を超えているか否かを判断するステップと、
前記判断の結果、絶縁不良の頻度が設定値を超えた場合はそれを告知するステップと、を更に含むことを特徴とする請求項13に記載の製造方法。
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