JP5001084B2 - 電界再生または記録ヘッドとその製造方法、及び電界再生または記録ヘッドを備えた情報再生または記録装置 - Google Patents
電界再生または記録ヘッドとその製造方法、及び電界再生または記録ヘッドを備えた情報再生または記録装置 Download PDFInfo
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Description
電界再生/記録ヘッド100のソース及びドレイン領域S,Dがn+領域であり、抵抗領域Rがn−領域である場合、前記抵抗領域Rが位置する記録媒体500の表面電荷が負(−)であれば、抵抗領域Rの電子密度が減少して抵抗領域Rの抵抗値は大きくなり、ソース領域Sとドレイン領域Dとの間の電流は減少する。逆に、前記抵抗領域Rが位置する記録媒体500の表面電荷が正(+)であれば、抵抗領域Rの電子密度が増加して抵抗領域Rの抵抗値は小さくなり、ソース領域Sとドレイン領域Dとの間の電流は増加する。かかる抵抗及び電流の変化を検出することによって、記録媒体500の表面に記録された情報を読み取ることができる。
電界再生/記録ヘッド100の書き込み電極Wに臨界電圧以上の正(+)の電圧を印加すれば、記録媒体500の下部に配置された下部電極は0Vであるので、記録媒体500の表面は負極化される。逆に、電界再生/記録ヘッド100の書き込み電極Wに臨界電圧以下の負(−)の電圧を印加すれば、記録媒体500の下部に配置された下部電極は0Vであるので、記録媒体500の表面は正極化される。このように、書き込み電極Wに印加される電圧の大きさによって強誘電性の記録媒体500の電気ドメインの分極方向が変わり、これによって情報が記録されうる。
100 電界再生/記録ヘッド
AP ABSパターン
D ドレイン領域
D1 第1絶縁膜
D2 第2絶縁膜
E1 第1電極
E2 第2電極
S ソース領域
S1 第1面
S2 第2面
R 抵抗領域
W 書き込み電極
Claims (40)
- 記録媒体と対向する第1面と、前記第1面の一端部のエッジと接する第2面と、を備える半導体基板と、
前記基板の第1面の一端の中央部から前記第2面に延びた形態に形成された低濃度不純物領域である抵抗領域と、
前記抵抗領域の両側に前記第1面と離隔して形成された高濃度不純物領域であるソース及びドレイン領域と、を備え、
前記ソース及びドレイン領域は、前記抵抗領域の一部と重なって前記第2面の終端まで延び、前記抵抗領域と前記ソース及びドレイン領域は、前記基板と異なる電導型の不純物領域であり、
前記抵抗領域は、前記第2面の終端まで達することなく前記第2面の一部まで延伸される
ことを特徴とする電界再生ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジに近いソース及びドレイン領域の一部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記ソース及びドレイン領域上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記抵抗領域上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記ソース領域と電気的にコンタクトされるように形成された第1電極と、
前記ドレイン領域と電気的にコンタクトされるように形成された第2電極と、をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記基板の第1面上に記録媒体の表面からの浮上のために形成されたABSパターンをさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記基板は、p型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、n型不純物領域である
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 前記基板は、n型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、p型不純物領域である
ことを特徴とする請求項1に記載の電界再生ヘッド。 - 記録媒体と対向する第1面と、前記第1面の一端部のエッジと接する第2面と、を備える半導体基板と、
前記基板の第1面の一端の中央部から前記第2面に延びた形態に形成された低濃度不純物領域である抵抗領域と、
前記抵抗領域の両側に前記第1面と離隔して形成された高濃度不純物領域であるソース及びドレイン領域と、
前記抵抗領域上に絶縁膜の介在下で形成された書き込み電極と、を備え、
前記ソース及びドレイン領域は、前記抵抗領域の一部と重なって前記第2面の終端まで延び、前記抵抗領域と前記ソース及びドレイン領域は、前記基板と異なる電導型の不純物領域であり、
前記抵抗領域は、前記第2面の終端まで達することなく前記第2面の一部まで延伸され、前記抵抗領域上に、前記第2面の終端まで伸びる前記絶縁膜と前記書き込み電極とを順次備える
ことを特徴とする電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジに近いソース及びドレイン領域の一部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記ソース及びドレイン領域上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記ソース領域と電気的にコンタクトされるように形成された第1電極と、
前記ドレイン領域と電気的にコンタクトされるように形成された第2電極と、をさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板の第1面上に記録媒体の表面からの浮上のために形成されたABSパターンをさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板は、p型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、n型不純物領域である
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 前記基板は、n型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、p型不純物領域である
ことを特徴とする請求項10に記載の電界再生または記録ヘッド。 - 記録媒体と対向する第1面と、前記第1面の一端部のエッジと接する第2面と、を備えた半導体基板の前記第2面上に、前記第1面と接する第2面の一端のエッジの中央部から他端のエッジに延びつつ拡張された形態を有し、第1絶縁膜と書き込み電極用の金属膜との積層膜からなる積層パターンを形成する工程と、
前記積層パターンをイオン注入マスクとして利用して、前記基板の表面内に不純物を高濃度でドーピングする工程と、
前記ドーピングされた不純物を拡散させることによって、前記積層パターンの両側の基板内に高濃度不純物領域を形成すると共に、前記積層パターンの下部の基板部分のうち、前記第1面の一端と隣接した部分に低濃度不純物領域である抵抗領域を形成する工程と、
前記第1面の一端と隣接した抵抗領域の一部分の両側の高濃度不純物領域の部分を除去して、前記第1面の一端と離隔して前記抵抗領域の両側に配置される高濃度不純物領域であるソース及びドレイン領域を形成する工程と、
前記高濃度不純物領域が除去されて露出された基板の部分とソース及びドレイン領域上に、前記積層パターンの高さに第2絶縁膜を形成する工程と、を含み、
前記ソース及びドレイン領域は、前記抵抗領域の一部と重なって前記第2面の終端まで延び、前記抵抗領域と前記ソース及びドレイン領域は、前記基板と異なる電導型の不純物領域である
ことを特徴とする電界再生または記録ヘッドの製造方法。 - 前記第2絶縁膜を形成する工程後、
前記第2絶縁膜をエッチングして、前記ソース及びドレイン領域をそれぞれ露出させるコンタクトホールを形成する工程と、
前記コンタクトホール内に前記ソース及びドレイン領域とコンタクトする第1及び第2電極を形成する工程と、をさらに含む
ことを特徴とする請求項18に記載の電界再生または記録ヘッドの製造方法。 - 前記第2絶縁膜を形成する工程後、
前記基板の第1面上に記録媒体の表面からの浮上のためのABSパターンを形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項18に記載の電界再生または記録ヘッドの製造方法。 - 強誘電体からなる記録層を有する記録媒体と、前記記録媒体に記録された情報を再生する電界再生ヘッドと、を備えた情報再生装置において、
前記電界再生ヘッドは、
前記記録媒体と対向する第1面と、前記第1面の一端部のエッジと接する第2面と、を備える半導体基板と、
前記基板の第1面の一端の中央部から前記第2面に延びた形態に形成された低濃度不純物領域である抵抗領域と、
前記抵抗領域の両側に前記第1面と離隔して形成された高濃度不純物領域であるソース及びドレイン領域と、を備え、
前記ソース及びドレイン領域は、前記抵抗領域の一部と重なって前記第2面の終端まで延び、前記抵抗領域と前記ソース及びドレイン領域は、前記基板と異なる電導型の不純物領域であり、
前記抵抗領域は、前記第2面の終端まで達することなく前記第2面の一部まで延伸される
ことを特徴とする情報再生装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジに近いソース及びドレイン領域の一部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記ソース及びドレイン領域上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記ソース領域と電気的にコンタクトされるように形成された第1電極と、
前記ドレイン領域と電気的にコンタクトされるように形成された第2電極と、をさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記基板の第1面上に記録媒体の表面からの浮上のために形成されたABSパターンをさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記記録媒体は、回転運動するディスクタイプであり、前記電界再生ヘッドは、前記記録媒体の表面から浮き上がって回動する
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記電界再生ヘッドが付着されて回動するサスペンションをさらに備える
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記基板は、p型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、n型不純物領域である
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 前記基板は、n型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、p型不純物領域である
ことを特徴とする請求項21に記載の情報再生装置。 - 強誘電体からなる記録層を有する記録媒体と、前記記録媒体から情報を記録または再生する電界再生または記録ヘッドと、を備えた情報再生または記録装置において、
前記電界再生または記録ヘッドは、
前記記録媒体と対向する第1面と、前記第1面の一端部のエッジと接する第2面と、を備える半導体基板と、
前記基板の第1面の一端の中央部から前記第2面に延びた形態に形成された低濃度不純物領域である抵抗領域と、
前記抵抗領域の両側に前記第1面と離隔して形成された高濃度不純物領域であるソース及びドレイン領域と、
前記抵抗領域上に絶縁膜の介在下で形成された書き込み電極と、を備え、
前記ソース及びドレイン領域は、前記抵抗領域の一部と重なって前記第2面の終端まで延び、前記抵抗領域と前記ソース及びドレイン領域は、前記基板と異なる電導型の不純物領域であり、
前記抵抗領域は、前記第2面の終端まで達することなく前記第2面の一部まで延伸され、前記抵抗領域上に、前記第2面の終端まで伸びる前記絶縁膜と前記書き込み電極とを順次備える
ことを特徴とする情報再生または記録装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項31に記載の情報再生または記録装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記基板の第1面の一端部のエッジに近いソース及びドレイン領域の一部分上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ソース領域との間の第2面の部分、前記基板の第1面の一端部のエッジと前記ドレイン領域との間の第2面の部分、及び前記ソース及びドレイン領域上に形成された絶縁膜をさらに備える
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記ソース領域と電気的にコンタクトされるように形成された第1電極と、
前記ドレイン領域と電気的にコンタクトされるように形成された第2電極と、をさらに備える
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記基板の第1面上に記録媒体の表面からの浮上のために形成されたABSパターンをさらに備える
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記記録媒体は、回転運動するディスクタイプであり、前記電界再生または記録ヘッドは、前記記録媒体の表面から浮き上がって回動する
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記電界再生または記録ヘッドが付着されて回動するサスペンションをさらに備える
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記基板は、p型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、n型不純物領域である
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。 - 前記基板は、n型半導体であり、前記抵抗領域、ソース及びドレイン領域は、p型不純物領域である
ことを特徴とする請求項32に記載の情報再生または記録装置。
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