JP5000246B2 - 排液処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Description
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置について、図1〜図4を用いて説明する。
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置において、外側の配管に濃度センサを付加させる場合について説明する。
本実施の形態では、バッチ式の処理装置について、図面を用いて説明する。
本実施の形態では、枚葉式装置について、図面を用いて説明する。
102 薬液処理部
103 水処理部
104 薬液供給部
105 水供給部
106 薬液排液部
107 水排液部
108 温度調節部
109 薬液排液ドレインパン
110 水排液ドレインパン
111 二重配管
112 内側配管
113 外側配管
114 濃度センサ
201 ワークステーション
202 被処理物
203 ロボット
204 アームチャック
205 薬液処理槽
206 水処理槽
207 排液処理部
301 水供給部
302 薬液供給部
303 水吐出ノズル
304 薬液吐出ノズル
305 被処理物
306 回転ステージ
307 カップ
308 切り換え弁
309 外側配管タンク弁
310 内側配管タンク弁
311 外側配管
312 内側配管
Claims (21)
- 外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第1の排液より低温の第2の排液を流すことを特徴とする排液処理方法。
- 第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流すことを特徴とする排液処理方法。 - 第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記第2の排液は前記第2の処理部から排出開始時は前記第1の排液より低温であり、前記第2の排液は前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液を含むことを特徴とする排液処理方法。 - 外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に第2の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。 - 第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる前記第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。 - 外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第1の排液より低温の第2の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。 - 第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる前記第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。 - 請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた弁で前記第1の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。 - 請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。 - 請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた第1の弁で前記第1の排液を一度貯めて、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた第2の弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。 - 請求項2、請求項3、請求項5、及び請求項7乃至請求項10のいずれか1項において、
前記第1の処理液供給部において前記第1の処理液の温度調節を行うことを特徴とする排液処理方法。 - 外側配管の内に内側配管が配置された二重配管を有し、
前記内側配管には、第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第2の排液部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、且つ前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、且つ前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記処理部から排出された第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 外側配管の内に内側配管が配置された二重配管と、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。 - 請求項15、請求項16、又は請求項19において、
前記処理部と前記二重配管との間に切り換え弁とを有し、前記二重配管の前記外側配管と前記内側配管の少なくとも一方に弁を有することを特徴とする処理装置。 - 請求項15、請求項16、請求項19、又は請求項20において、
前記第1の処理液供給部に温度調節部を有することを特徴とする処理装置。
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