JP4996767B1 - Manufacturing method of holding material for single-side polishing - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物について初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく、これにより一定の研磨品質を維持することができ、さらに、被研磨物の品質に影響のある保持面の表面平坦性が向上し、大型で極薄の被研磨物であっても研磨中にはこれを堅固に保持することができ、かつ、研磨後は安全かつ容易に剥がすこともできる片面研磨用保持材の製造方法を提供する。
【解決手段】発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シートを湿式成膜法により製造する工程と、表面に凸部を有する加熱可能なディンプルロールに樹脂シートを供給して樹脂シートの緻密な発泡による表面部分を圧接させることにより、樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工する工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】図3The object of the present invention is to provide a constant polishing quality without changing the surface shape which affects the quality of the polished object even if the number of processed objects such as a glass substrate for a liquid crystal display is repeated from the beginning. In addition, the surface flatness of the holding surface, which affects the quality of the object to be polished, is improved, and even a large and extremely thin object is firmly held during polishing. A method for producing a holding material for single-side polishing that can be peeled off safely and easily after polishing is provided.
A process for producing a resin sheet having a foamed layer and a surface portion formed by dense foaming by a wet film forming method, and supplying the resin sheet to a heatable dimple roll having a convex portion on the surface to provide a dense resin sheet. And a step of thermoforming at or above the flow start temperature of the material constituting the resin sheet by press-contacting the surface portion by simple foaming.
[Selection] Figure 3
Description
本発明は、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物の片面研磨用保持材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a holding material for single-side polishing of an object to be polished such as a glass substrate for a liquid crystal display.
一般に、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物を回転加工装置等の研磨機を用いて研磨加工する場合には、被研磨物を研磨機の定盤に固定し、そして、この定盤と対向して設けられた定盤に研磨布を装着し、相対的に回転させるとともに、両者間に砥粒等を含む研磨液を供給することにより被研磨物の表面を研磨する。 In general, when an object to be polished such as a glass substrate for a liquid crystal display is polished using a polishing machine such as a rotary processing apparatus, the object to be polished is fixed to a surface plate of the polishing machine and is opposed to the surface plate. A polishing cloth is attached to a surface plate provided as described above and rotated relatively, and a polishing liquid containing abrasive grains or the like is supplied between them to polish the surface of the object to be polished.
この際に、被研磨物を定盤に保持するための手段として、多孔質樹脂からなる保持材を用いて被研磨物を水貼りすることが行われている。 At this time, as a means for holding the object to be polished on a surface plate, the object to be polished is attached with water using a holding material made of a porous resin.
この保持材は、一般にポリウレタン樹脂組成物を用いた湿式成膜法で製造される。例えば、ポリウレタン樹脂組成物を成膜用基材に塗布し、次いで水、ジメチルホルムアミド(DMF)混合溶液中にて湿式凝固処理を行い、成膜用基材上にポリウレタン樹脂の発泡層を生成させ、その後乾燥する工程を経て保持材が製造される。 This holding material is generally manufactured by a wet film forming method using a polyurethane resin composition. For example, a polyurethane resin composition is applied to a film-forming substrate, followed by wet coagulation treatment in a mixed solution of water and dimethylformamide (DMF) to form a polyurethane resin foam layer on the film-forming substrate. Thereafter, the holding material is manufactured through a drying process.
この発泡層は、発泡の形状を厚み方向の断面から観察すると下層部分は大きな発泡形状になり、下層部分から表面に向かうに従って緻密な発泡形状になる構造体である。そしてその表面には1μm以下の微細孔があり、表面から下層部分の発泡までは微細な連通孔にてつながっている。 This foam layer is a structure in which when the foam shape is observed from a cross section in the thickness direction, the lower layer portion becomes a large foam shape, and becomes a dense foam shape from the lower layer portion toward the surface. The surface has fine pores of 1 μm or less, and the surface to the lower layer part are connected by fine communication holes.
従来から、この緻密な発泡による表面部分を切削(バフィング加工)し、露出した下層部分の大きな発泡面を被研磨物の保持面とした保持材(バフ品)が知られているが、この保持材は、被研磨物に対する吸着力が弱く、被研磨物が保持材表面でずれるのを防止するために、テンプレートを使用する必要があった。 Conventionally, a holding material (buffed product) is known in which the surface portion by this fine foaming is cut (buffing), and the large foamed surface of the exposed lower layer portion is used as the holding surface of the object to be polished. Since the material has a weak adsorbing force to the object to be polished, it was necessary to use a template in order to prevent the object to be polished from being displaced on the surface of the holding material.
また、上記緻密な発泡による表面部分をバフィングしないで、その表面部分をそのまま被研磨物の保持面とした保持材(ノンバフ品)も知られているが、この保持材は、保持面に、塗工精度や湿式成膜の影響による凹凸が形成されるためその表面精度が悪く、また、筋等や表面欠陥が被研磨物に転写されるといった欠点があった。 A holding material (non-buffed product) is also known in which the surface portion is not buffed and the surface portion is used as it is as a holding surface of the object to be polished, but this holding material is applied to the holding surface. Since irregularities are formed due to the effects of processing accuracy and wet film formation, the surface accuracy is poor, and there is a drawback that streaks and surface defects are transferred to the object to be polished.
このような欠点を解消するために、凹凸が形成されている保持面を、平坦な圧接ローラで圧接することにより、裏面に出現した凹凸をバフ処理した保持材も提案されている(特許文献1)。 In order to eliminate such drawbacks, there has also been proposed a holding material in which unevenness appearing on the back surface is buffed by pressing the holding surface on which the unevenness is formed with a flat pressure roller (Patent Document 1). ).
しかし、この保持材は、湿式成膜した軟質プラスチックの表面をそのまま利用するため、被研磨物の研磨に必要な保持材表面の形状安定性に乏しいものであった。 However, since this holding material uses the surface of the soft plastic film formed by wet film formation as it is, the shape stability of the surface of the holding material necessary for polishing the object to be polished is poor.
すなわち、被研磨物の加工を連続的に行うと、研磨定盤による連続的な加圧や、加工に要するスラリー液や、研磨前後の被研磨物の着脱・保持材洗浄により、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物の品質に影響のある保持材の表面形状が変化し、研磨後の被研磨物の安定した品質が得られない。 That is, when processing of the object to be polished is carried out continuously, the liquid crystal display glass is obtained by continuous pressurization by a polishing surface plate, slurry liquid required for processing, and detachment / holding of the object to be polished before and after polishing. The surface shape of the holding material that affects the quality of the object to be polished such as the substrate changes, and stable quality of the object to be polished after polishing cannot be obtained.
一方、保持材の表面を平坦化して被研磨物の保持性を高める技術としては、矯正用の機材を用いて、機材の平坦面を保持材の表面に転写する方法が提案されている(特許文献2〜4)。 On the other hand, as a technique for flattening the surface of the holding material to enhance the holding property of the object to be polished, there has been proposed a method for transferring the flat surface of the equipment to the surface of the holding material using a correction tool (patent) Literature 2-4).
特許文献2は、ポリウレタン樹脂シートの保持材の表面に、平坦面を有しポリウレタン樹脂シートより硬いPET等のフィルム状基材を加圧して密着させ、これを巻き取った巻取体を所定時間加熱(30〜50℃)するものである。 In Patent Literature 2, a film-like substrate such as PET having a flat surface and harder than the polyurethane resin sheet is pressed and adhered to the surface of the holding material of the polyurethane resin sheet, and the wound body wound up is fixed for a predetermined time. Heating (30-50 ° C).
特許文献3は、保持材を定盤に装着する前に、保持材の表面に鏡面の矯正板を当接しながら、例えば90〜100℃程度で加熱加圧するものである。 In Patent Document 3, before attaching the holding material to the surface plate, for example, heating and pressurization is performed at about 90 to 100 ° C. while a mirror-shaped correction plate is in contact with the surface of the holding material.
特許文献4は、特許文献3の矯正板を用いた保持材表面の凹凸矯正法を、実研磨機内で研磨液を用いて行い、その作業研磨効率を高めるものであり、当業界では「ダミーラン」と呼ばれる技術を開示するものである。 Patent Document 4 is a method for correcting the unevenness of the holding material surface using the correction plate of Patent Document 3 by using a polishing liquid in an actual polishing machine to increase the work polishing efficiency. The technique called is disclosed.
しかしながら、特許文献2〜4の方法では、比較的低温で平坦面を転写するため、平坦化加工の直後では保持材の表面は矯正板の平坦面が転写された形状を維持するものの、湿式成膜したポリウレタン樹脂の不可逆温度領域での熱成形を行っていないため、その形状はしばらくすると平坦化加工前の形状に回復してしまう。そのため、初期から加工数が増加するとともに、保持材が形状変化を起こすため、前記したように、被研磨物の加工を連続的に行うと、研磨後の被研磨物の安定した品質が得られない。 However, in the methods of Patent Documents 2 to 4, since the flat surface is transferred at a relatively low temperature, the surface of the holding material maintains the shape to which the flat surface of the correction plate is transferred immediately after the flattening process. Since the molded polyurethane resin is not thermoformed in the irreversible temperature region, its shape recovers to the shape before flattening after a while. Therefore, since the number of processing increases from the beginning and the shape of the holding material changes, as described above, when the workpiece is continuously processed, stable quality of the polished workpiece after polishing can be obtained. Absent.
ところで、近年、液晶テレビやパーソナルコンピュータ用の液晶ディスプレイの大型化に伴い、その基板として用いられるガラス基板のサイズも大きくなっており、またその厚みも省エネ等の観点から極めて薄くなっているのが実情である。 By the way, with the recent increase in size of liquid crystal displays for liquid crystal televisions and personal computers, the size of the glass substrate used as the substrate has also increased, and the thickness has become extremely thin from the viewpoint of energy saving. It is a fact.
このような大型で極薄のガラス基板のような被研磨物を研磨後に保持材から剥離するに当たっては、そのサイズが大きいほど、またその厚みが薄いほど破損し易くなるため、その剥離には細心の注意が必要となり、剥離に要する時間も長くなるといった傾向がある。 When peeling such a large and very thin glass substrate from the holding material after polishing, the larger the size and the thinner the thickness, the easier it is to break. Therefore, the time required for peeling tends to be longer.
このため、大型で極薄の被研磨物であっても、研磨中にはこれを堅固に保持することができ、研磨後は安全かつ容易に剥がすことできる保持材の開発が強く望まれていたが、上記特許文献1〜4記載の保持材はいずれもこのような要求品質を満たすものではなかった。 For this reason, there has been a strong demand for the development of a holding material that can hold a large and extremely thin object to be polished firmly during polishing and can be safely and easily peeled off after polishing. However, none of the holding materials described in Patent Documents 1 to 4 satisfy such required quality.
また、特許文献5には、「空隙のサイズが細かく緻密な層である、吸着面の表面層側より細孔をあけ、細孔の径および間隔を調整して、ガラス基板に対する吸着パッドの吸着力を制御され、研磨後のガラス基板の剥離性が改善された、保持パッド」が開示されている。 Further, Patent Document 5 states that “the pores are fine and dense layers, pores are formed from the surface layer side of the adsorption surface, and the diameter and interval of the pores are adjusted to adsorb the adsorption pad to the glass substrate. A holding pad is disclosed that has a controlled force and improved releasability of the polished glass substrate.
しかしながら、この保持パッドは、上記特許文献1〜4と同様に、湿式成膜した軟質プラスチックの表面をそのまま利用するため、被研磨物の加工を連続的に行うと、研磨定盤による連続的な加圧や、加工に要するスラリー液や、研磨後の被研磨物の着脱・保持材洗浄により、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物の品質に影響のある保持材の表面形状が変化し、研磨後の被硯磨物の安定した品質が得られないといった問題を依然として包含するものであった。 However, this holding pad uses the surface of the wet plastic film as it is as in the above-mentioned Patent Documents 1 to 4, and therefore, when the workpiece is continuously processed, it is continuous by the polishing surface plate. The surface shape of the holding material that affects the quality of the object to be polished, such as the glass substrate for liquid crystal display, is changed by pressing, slurry liquid required for processing, and removal / holding of the polished object after polishing, It still included the problem that a stable quality of the polished article after polishing could not be obtained.
本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物について初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく、これにより一定の研磨品質を維持することができ、さらに、被研磨物の品質に影響のある保持面の表面平坦性が向上し、大型で極薄の被研磨物であっても研磨中にはこれを堅固に保持することができ、かつ、研磨後は安全かつ容易に剥がすこともできる片面研磨用保持材の製造方法を提供することを課題としている。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and has an influence on the quality of the polished object even after the initial number of processes on the polished object such as a liquid crystal display glass substrate. This makes it possible to maintain a certain level of polishing quality without changing the applied surface shape, and further improves the surface flatness of the holding surface, which affects the quality of the object to be polished. It is an object of the present invention to provide a method for producing a holding material for single-side polishing that can be firmly held during polishing and can be safely and easily peeled off after polishing.
本発明の片面研磨用保持材の製造方法は、発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シートを湿式成膜法により製造する工程と、前記樹脂シートの裏面をバフ処理する工程と、フラットな表面に微小な凸部が設けられた加熱可能なディンプルロールと加圧ロールとの間に前記樹脂シートを供給し、前記樹脂シートの緻密な発泡による表面部分を前記ディンプルロールに圧接させて前記樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工することにより、前記樹脂シートの形状を経時的に回復することなく不可逆的に変化させて、これにより、第1に、前記ディンプルロールの表面形状を転写させて、前記緻密な発泡による表面部分に、前記フラットな表面に対応する平坦面と前記微小な凸部に対応する凹部とを、個々の前記凹部が相互に連通せずに単位面積当たり1〜10%の範囲を占めて島状に点在するように形成し、第2に、前記樹脂シートの厚みを前記ディンプルロールへの供給前よりも小さくし被研磨物の保持面のシート全体としての表面平坦性を向上させる工程とを含むことを特徴とする。 The method for producing a holding material for single-side polishing according to the present invention comprises a step of producing a resin sheet having a foam layer and a surface portion by dense foaming by a wet film forming method, a step of buffing the back surface of the resin sheet, and a flat The resin sheet is supplied between a heatable dimple roll having a minute convex portion provided on its surface and a pressure roll, and a surface portion formed by dense foaming of the resin sheet is brought into pressure contact with the dimple roll. By thermoforming at or above the flow start temperature of the material constituting the resin sheet, the shape of the resin sheet is irreversibly changed without recovery over time. A surface shape is transferred, and a flat surface corresponding to the flat surface and a concave portion corresponding to the minute convex portion are formed on each of the concave portions corresponding to the flat surface. Are formed so as to occupy a range of 1 to 10% per unit area without being communicated with each other and are scattered in an island shape, and secondly, the thickness of the resin sheet is smaller than that before supply to the dimple roll And a step of improving the surface flatness of the holding surface of the object to be polished as a whole sheet .
この片面研磨用保持材の製造方法において、樹脂シートがポリウレタン樹脂シートであることが好ましい。 In this method for producing a single-side polishing holding material, the resin sheet is preferably a polyurethane resin sheet.
本発明によれば、ディンプルロールによる流動開始温度以上での熱成形加工により、初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく一定の研磨品質を維持することができる。さらに、被研磨物の保持面のシート全体としての表面平坦性が向上し、被研磨物の保持性を高めることができる。かつ、微視的な範囲ではディンプルロールの凸部による凹部が被研磨物の保持面に形成され、これにより研磨後の剥離性もコントロールすることができる。 According to the present invention, by thermoforming at a flow starting temperature or higher by a dimple roll, even if the number of processes is repeated from the beginning, it is constant without changing the surface shape that affects the quality of the polished object after polishing. The polishing quality can be maintained. Furthermore, the surface flatness of the entire surface of the holding surface of the object to be polished is improved, and the holding property of the object to be polished can be improved. In addition, in the microscopic range, a concave portion due to the convex portion of the dimple roll is formed on the holding surface of the object to be polished, whereby the peelability after polishing can be controlled.
以下に、本発明について詳細に説明する。 The present invention is described in detail below.
本発明の片面研磨用保持材の製造方法では、最初の工程として、発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シートを湿式成膜法により製造する。 In the method for producing a holding material for single-side polishing of the present invention, as a first step, a resin sheet having a foam layer and a surface portion by dense foaming is produced by a wet film forming method.
樹脂シートとしては、例えば、ポリウレタン樹脂シートを用いることができる。 As the resin sheet, for example, a polyurethane resin sheet can be used.
湿式成膜法によれば、例えばポリウレタン樹脂等の凝固成分を水混和性の有機溶剤に溶解させたポリウレタン樹脂組成物(発泡用溶液)を成膜用基材に塗布し、次いでポリウレタン樹脂組成物を塗布した成膜用基材を水系凝固液中に浸漬して凝固成分を凝固させることにより発泡層を作製することができる。 According to the wet film-forming method, for example, a polyurethane resin composition (foaming solution) in which a coagulation component such as polyurethane resin is dissolved in a water-miscible organic solvent is applied to a film-forming substrate, and then the polyurethane resin composition The foamed layer can be prepared by immersing the film-forming substrate coated with the coating material in an aqueous coagulating liquid to coagulate the coagulating component.
このようにして得られる発泡層は、発泡の形状を厚み方向の断面から観察すると下層部分は大きな発泡形状になり、下層部分から表面に向かうに従って緻密な発泡形状になる構造体である。そしてその表面には1μm以下の微細孔があり、表面から下層部分の発泡までは連通孔にてつながっている。 The foamed layer thus obtained is a structure in which when the foamed shape is observed from the cross section in the thickness direction, the lower layer portion becomes a large foamed shape and becomes a dense foamed shape from the lower layer portion toward the surface. And there are fine pores of 1 μm or less on the surface, and the communication from the surface to the foaming of the lower layer part is connected by a communication hole.
ポリウレタン樹脂組成物を用いた湿式成膜法の凝固成分としては、ポリウレタン樹脂、例えば、ポリウレタンエラストマー等を用いることができる。 As the coagulation component of the wet film-forming method using the polyurethane resin composition, a polyurethane resin such as a polyurethane elastomer can be used.
ポリウレタンエラストマーは、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系あるいはこれらの共重合体等を用いることができ、目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。 Polyurethane elastomers can be polyester, polyether, polycarbonate or copolymers thereof, and can be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.
凝固成分としてのポリウレタンエラストマーを溶解する水混和性の有機溶剤としては、特に限定されないが、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、エチルアセテート、ジオキサン等が挙げられる。有機溶剤は目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。 The water-miscible organic solvent that dissolves the polyurethane elastomer as the coagulating component is not particularly limited, and examples thereof include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, dimethylacetamide, ethyl acetate, and dioxane. The organic solvents can be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.
さらにポリウレタン樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲内において前記以外の他の成分を配合することができる。このような他の成分としては、例えば、発泡助剤、親水剤、撥水剤、顔料等が挙げられる。また、親水剤、撥水剤等の成分は、必要に応じて、湿式成膜後に後処理等の方法で加工することもできる。 Furthermore, in the polyurethane resin composition, other components other than those described above can be blended within a range not impairing the effects of the present invention. Examples of such other components include foaming aids, hydrophilic agents, water repellents, and pigments. In addition, components such as a hydrophilic agent and a water repellent can be processed by a method such as post-treatment after wet film formation, if necessary.
本発明に用いられる成膜用基材としては、特に限定されないが、例えば、綿、レーヨン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリロニトリル等の天然繊維、再生繊維、合成繊維等の編織布または不織布、あるいはこれらにスチレンブタジエンゴム、ニトリルブタジエンゴム等のゴムまたはポリウレタンエラストマー等を充填したもの、あるいはポリエチレン、ポリプロピレンに代表されるポリオレフィンやポリエステル等の樹脂シート等が挙げられる。 The film-forming substrate used in the present invention is not particularly limited. For example, natural fibers such as cotton, rayon, polyamide, polyester and polyacrylonitrile, woven fabrics or nonwoven fabrics such as recycled fibers and synthetic fibers, or the like. Examples thereof include those filled with rubber such as styrene butadiene rubber and nitrile butadiene rubber or polyurethane elastomer, or resin sheets such as polyolefin and polyester typified by polyethylene and polypropylene.
そして本発明の片面研磨用保持材の製造方法では、次の工程として、表面に凸部を有する加熱可能なディンプルロールに樹脂シートを供給して緻密な発泡による表面部分を圧接させることにより、樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工を行う。 And in the manufacturing method of the holding material for single-side polishing of the present invention, as the next step, the resin sheet is supplied to a heatable dimple roll having a convex portion on the surface, and the surface portion by dense foaming is pressed to make a resin The thermoforming is performed at a temperature higher than the flow start temperature of the material constituting the sheet.
このフラットなロール表面に凸部が設けられたディンプルロールを用いた熱成形加工(エンボス加工)により、被研磨物の保持面のシート全体としての表面平坦性が向上し、かつ、ディンプルロールの凸部による凹部が被研磨物の保持面に形成される。 By thermoforming (embossing) using a dimple roll having convex portions provided on the flat roll surface, the surface flatness of the entire surface of the holding surface of the object to be polished is improved, and the convex surface of the dimple roll is improved. A concave portion is formed on the holding surface of the object to be polished.
本発明においては、この熱成形加工の加工温度を、樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上とする。これにより樹脂シートは不可逆的に形状が変化し、樹脂シートの緻密な発泡による表面部分は、発泡による凹凸がシート全体として平坦化される。 In the present invention, the processing temperature of the thermoforming is set to be equal to or higher than the flow start temperature of the material constituting the resin sheet. As a result, the shape of the resin sheet changes irreversibly, and the unevenness due to foaming is flattened as a whole on the surface portion of the resin sheet due to dense foaming.
なお本明細書において「シート全体として平坦化」とは、後述の実施例のような測定範囲1m角のスケールでの厚みの平坦化(厚みのバラツキ率の減少)を意味する。本発明によれば、例えば測定範囲4000μmのスケールの微視的な範囲ではエンボスによる凹部の形成によって寧ろ平坦性が低下するが、シート全体としての大きなスケールの範囲では平坦性を高めることができる。これによって被研磨物の保持性を高め、かつ、研磨後の剥離性もコントロールすることができる。 In the present specification, “flattening the entire sheet” means flattening the thickness (decreasing the thickness variation rate) on a scale with a measuring range of 1 m square as in the examples described later. According to the present invention, for example, in the microscopic range of the scale having a measurement range of 4000 μm, the flatness is rather lowered due to the formation of the concave portion by embossing, but the flatness can be increased in the large scale range of the entire sheet. As a result, the retainability of the object to be polished can be improved, and the peelability after polishing can be controlled.
熱成形加工温度が流動開始温度未満では、不可逆的に樹脂シートの形状を変化させることができず、本発明の初期の目的を達成することができない。すなわち流動開始温度未満で熱成形加工をすると、その形状はしばらくすると加工前の形状に回復してしまう。そのため、初期から加工数が増加するとともに、保持材が形状変化を起こすため、被研磨物の加工を連続的に行うと、研磨後の被研磨物の安定した品質が得られない。 If the thermoforming temperature is lower than the flow start temperature, the shape of the resin sheet cannot be irreversibly changed, and the initial object of the present invention cannot be achieved. That is, when thermoforming is performed at a temperature lower than the flow start temperature, the shape is restored to the shape before processing after a while. For this reason, the number of processes increases from the beginning, and the shape of the holding material changes. Therefore, if the workpiece is continuously processed, stable quality of the polished article cannot be obtained.
熱成形加工温度の上限に特別な制約はないが、あまりにも温度が高いと緻密な発泡による表面部分に焼き付きが生じる場合もあるので、そのような事態を避ける温度以下とするのがよい。 There is no particular restriction on the upper limit of the thermoforming temperature, but if the temperature is too high, seizure may occur on the surface portion due to dense foaming.
この流動開始温度は、樹脂シートを構成する材料(成分組成)によってそれぞれ異なるので一般化はできないが、通常のポリウレタン樹脂材料を用いた場合の熱成形加工温度は、130〜240℃が好ましい。 This flow start temperature differs depending on the material (component composition) constituting the resin sheet and cannot be generalized. However, the thermoforming temperature when using an ordinary polyurethane resin material is preferably 130 to 240 ° C.
本発明の片面研磨用保持材の製造方法によれば、上記のように、緻密な発泡による表面部分にその流動開始温度以上での熱成形加工が施されるが、さらに該緻密な発泡による表面部分に凹部のみが形成される。このように保持材の断面から見た場合に凹状に形成され、かつ凸状にならないような凹部を設けることで、被研磨物の保持性を確保しつつ、研磨後の剥離性をコントロールすることができる。なお、保持材の表面に凸部があると被研磨物の保持性が大きく低下する。 According to the method for producing a holding material for single-side polishing of the present invention, as described above, the surface portion by dense foaming is subjected to thermoforming at or above its flow start temperature. Only a recess is formed in the portion. In this way, by providing a concave portion that is formed in a concave shape when viewed from the cross section of the holding material and does not become a convex shape, the releasability after polishing is controlled while ensuring the retention property of the object to be polished. Can do. In addition, if there is a convex portion on the surface of the holding material, the holding property of the object to be polished is greatly reduced.
このような凹部は、個々の凹部が島状に点在しそれぞれ独立していることが好ましく、例えば溝のように相互に連通していないことが好ましい。個々の凹部が連通している場合、外部からのスラリー液の裏面(保持材とガラス基板の間)に侵入を許し、基板剥がれや裏面へのスラリーの固着が発生する場合がある。 It is preferable that such recesses are separated from each other in an island shape and are independent from each other. For example, it is preferable that the recesses do not communicate with each other like a groove. In the case where the individual recesses communicate with each other, the slurry liquid from the outside is allowed to enter the back surface (between the holding material and the glass substrate), and the substrate may peel off or the slurry may adhere to the back surface.
また、その点在状態は、凹部が単位面積当たり1〜10%の範囲を占めて点在するようにしておくことが好ましい。この範囲内にすることで、被研磨物の保持性を確保しつつ、研磨後の剥離性をコントロールすることができる。 Moreover, it is preferable that the dotted state is scattered so that the concave portions occupy a range of 1 to 10% per unit area. By making it within this range, the releasability after polishing can be controlled while ensuring the retainability of the object to be polished.
図3は、ディンプルロールによる熱成形加工の工程の一例を概略的に説明する図である。図3(a)は全体を示し、図3(b)は樹脂シートとディンプルロールの圧接部分を拡大して示す。 FIG. 3 is a diagram schematically illustrating an example of a thermoforming process using dimple rolls. FIG. 3A shows the whole, and FIG. 3B shows an enlarged view of the pressure contact portion between the resin sheet and the dimple roll.
図3(a)に示すように、発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シート1は、ディンプルロール2に供給される。ディンプルロール2は加圧ロール3と対向して配置され、これらの間に、発泡層と緻密な発泡による表面部分をディンプルロール2側に向けて樹脂シート1が供給される。 As shown in FIG. 3A, the resin sheet 1 having a foam layer and a surface portion by dense foaming is supplied to a dimple roll 2. The dimple roll 2 is disposed to face the pressure roll 3, and the resin sheet 1 is supplied between the dimple roll 2 with the foam layer and the surface portion formed by dense foaming facing the dimple roll 2 side.
ディンプルロール2は、図3(b)に示すように、エンボス加工を施すための複数の凸部2aをロール表面に有している。またディンプルロール2は、ロール表面を均一な温度(樹脂シート1を構成する材料の流動開始温度以上)に加熱可能な金属ロールを用いることができる。このような金属ロールは、従来より本発明の技術分野やこれに近接する技術分野において熱ロールとして用いられているものと同種の構成のものを用いることができる。 As shown in FIG. 3B, the dimple roll 2 has a plurality of convex portions 2a for embossing on the roll surface. The dimple roll 2 may be a metal roll that can heat the roll surface to a uniform temperature (above the flow start temperature of the material constituting the resin sheet 1). As such a metal roll, a metal roll having the same type as that used conventionally as a heat roll in the technical field of the present invention or a technical field close thereto can be used.
加圧ロール3は、例えば、ディンプルロール2との間に樹脂シート1を挟んで適度に加圧可能な弾性材料でロール表面が形成されたものを用いることができ、具体的には、ゴムロール等を用いることができる。 As the pressure roll 3, for example, a roll whose surface is formed of an elastic material that can be appropriately pressurized with the resin sheet 1 sandwiched between the dimple roll 2 can be used. Can be used.
図3(b)に示すように、樹脂シート1は、ロール表面が流動開始温度以上に均一に加熱されたディンプルロール2に供給される。樹脂シート1の緻密な発泡による表面部分をディンプルロール2のロール表面に圧接させると、緻密な発泡による表面部分は、樹脂シート1を構成する材料の流動開始温度以上で不可逆的に熱成形加工される。 As shown in FIG. 3B, the resin sheet 1 is supplied to a dimple roll 2 whose roll surface is uniformly heated to a flow start temperature or higher. When the surface portion due to dense foaming of the resin sheet 1 is brought into pressure contact with the roll surface of the dimple roll 2, the surface portion due to dense foaming is irreversibly thermoformed at or above the flow start temperature of the material constituting the resin sheet 1. The
このように、流動開始温度以上で熱成形加工を行うため、経時的に回復することなくディンプルロールの表面形状が転写される。すなわち、ディンプルロール2による流動開始温度以上での熱成形加工により、初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく一定の研磨品質を維持することができる。 As described above, since the thermoforming is performed at a temperature higher than the flow start temperature, the surface shape of the dimple roll is transferred without recovery over time. That is, a constant polishing quality without changing the surface shape that affects the quality of the polished object even if the number of processes is repeated from the beginning by thermoforming at or above the flow start temperature by the dimple roll 2 Can be maintained.
さらに、フラットな表面に微小な凸部2aが設けられたディンプルロール2で樹脂シート1の緻密な発泡による表面部分を熱成形加工することにより、被研磨物の保持面のシート全体としての表面平坦性は、熱成形加工前よりも向上する。図3(b)に示すように、樹脂シート1の厚みは、不可逆的に、ディンプルロール2への供給前のt1からt2に小さくなり(t1>t2)、被研磨物の保持面のシート全体としての表面平坦性が向上する。これにより、後述の表4にも示されるように、被研磨物の保持性を高めることができる。 Further, the surface portion of the holding surface of the object to be polished is flattened by thermoforming the surface portion of the resin sheet 1 due to dense foaming with the dimple roll 2 provided with the minute projections 2a on the flat surface. The property is improved as compared with that before thermoforming. As shown in FIG. 3B, the thickness of the resin sheet 1 is irreversibly decreased from t 1 before supply to the dimple roll 2 to t 2 (t 1 > t 2 ) to hold the object to be polished. The surface flatness of the entire sheet is improved. Thereby, as also shown in Table 4 described later, it is possible to improve the retention of the object to be polished.
また、微視的な範囲ではディンプルロール2の凸部2aによる凹部1aが樹脂シート1の被研磨物の保持面に形成される。これにより、研磨後の剥離性もコントロールすることができる。 Further, in the microscopic range, a concave portion 1 a formed by the convex portion 2 a of the dimple roll 2 is formed on the surface to be polished of the resin sheet 1. Thereby, the peelability after polishing can also be controlled.
このように、ディンプルロール2を用いた熱成形加工により、被研磨物の保持面の平坦化とこの保持面への凹部1aの形成という、相矛盾する課題の解決(被研磨物の保持性向上と剥離性のコントロール)を1工程で同時に達成することができる。 In this way, by thermoforming using the dimple roll 2, the conflicting problem of flattening the holding surface of the object to be polished and forming the recess 1a on the holding surface is solved (improvement of the holding property of the object to be polished). And control of peelability) can be achieved simultaneously in one step.
このような特有な加工温度とディンプルロールを利用した熱成形加工をすることにより、本発明では、緻密な発泡による表面部分が樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工されていると共に該表面部分には凹部のみが形成された、従来には見出されていない新規な片面研磨用保持材を得ることができる。 In the present invention, by performing thermoforming using such a specific processing temperature and dimple roll, the surface portion by dense foaming is thermoformed at or above the flow start temperature of the material constituting the resin sheet. At the same time, a novel single-side polishing holding material that has not been found in the past, in which only concave portions are formed in the surface portion, can be obtained.
本発明により製造される片面研磨用保持材は、前記した構成からなるので、被研磨物の品質に影響のある保持面のシート全体としての表面平坦性を向上することができると共に、連続的な研磨加工作業でのスラリー液や加工後の保持材洗浄等の外乱による保持面の形状変化を抑制することができる。また、緻密な発泡による表面部分にその形状が経時的に変化しない凹部が設けられているから、大型で極薄の被研磨物であっても、研磨中にはこれを堅固に保持することができ、研磨後は安全かつ容易にこれを剥がすことできるといった数多くの利点を有するものである。 Since the holding material for single-side polishing produced according to the present invention has the above-described configuration, it can improve the surface flatness of the entire holding surface that affects the quality of the object to be polished, and can be continuous. It is possible to suppress a change in the shape of the holding surface due to a disturbance such as a slurry liquid in a polishing process or cleaning of a holding material after processing. In addition, since the surface portion by dense foaming is provided with a concave portion whose shape does not change over time, even a large and extremely thin object can be firmly held during polishing. It has many advantages such that it can be removed safely and easily after polishing.
本発明により製造される片面研磨用保持材は、発泡層を有する樹脂シートを用いた構成であれば特に限定されないが、例えば、成膜用基材を一旦剥がして別途の基材を発泡層の裏面に粘着層または接着層を介して貼り付けて構成することができる。なお、発泡層の裏面はバフィング加工を施してもよい。 The single-side polishing holding material produced according to the present invention is not particularly limited as long as it is a configuration using a resin sheet having a foam layer. For example, the film-forming base material is once peeled off and a separate base material is used as the foam layer. It can be configured by being attached to the back surface via an adhesive layer or an adhesive layer. Note that the back surface of the foam layer may be buffed.
本発明により製造される片面研磨用保持材を用いた被研磨物の研磨加工は、被研磨物を保持材により保持して研磨機の定盤に固定し、この定盤と対向して設けられた定盤に研磨布を相対的に回転させると共に、両者間に砥粒等を研磨材として含むスラリー液を供給しながら行うことができる。 Polishing of an object to be polished using the holding material for single-side polishing produced according to the present invention is provided by holding the object to be polished by the holding material and fixing it to the surface plate of the polishing machine, and facing the surface plate. The polishing cloth can be rotated relative to the surface plate, and a slurry liquid containing abrasive grains or the like as an abrasive can be supplied between them.
本発明により製造される片面研磨用保持材は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、シリコンウエハ、化合物半導体基板等の研磨、特に仕上げ研磨に好適である。 The single-sided polishing support produced according to the present invention is suitable for polishing, in particular, finish polishing of glass substrates for liquid crystal displays, silicon wafers, compound semiconductor substrates, and the like.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
<実施例1>
1.流動開始温度確認試験
市販の湿式成膜用ポリウレタン樹脂DMF溶液に、保持材の配合成分として通常使用される黒色顔料やその他の添加剤を配合し、ポリウレタン樹脂組成物を調製した。このポリウレタン樹脂組成物を1.4mmのクリアランスにてガラス板上に塗布し、130℃の乾燥機(タバイエスペック社製PH-201)に30分間入れて乾燥した。得られたフィルムの膜厚は140μmであった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.
<Example 1>
1. Flow start temperature confirmation test A polyurethane resin composition was prepared by blending a commercially available polyurethane resin DMF solution for wet film formation with a black pigment or other additive that is usually used as a component of a holding material. This polyurethane resin composition was applied onto a glass plate with a clearance of 1.4 mm, and placed in a dryer at 130 ° C. (PH-201 manufactured by Tabai Espec) for 30 minutes for drying. The film thickness of the obtained film was 140 μm.
このフィルムを図1に示す形状の測定片に打ち抜き、高温槽(八島製作所製TKC-R2T)を備えたテンシロン測定機(オリエンテック社製テンシロンRTM-100)のチャック部(上下チャック間距離50mm)に設置固定し、伸び率100%(チャック間100mmの状態)の位置になるところで停止した。 This film is punched into a measuring piece with the shape shown in Fig. 1, and the chuck part (distance between upper and lower chucks: 50 mm) of a Tensilon measuring machine (Orientec Tensilon RTM-100) equipped with a high-temperature bath (TKC-R2T manufactured by Yashima Seisakusho) The machine was stopped when it reached the position where the elongation was 100% (with 100 mm between chucks).
その後、高温槽を加温上昇し、引っ張りにより発生した反発弾性力が変形温度に到達し弾性低下する温度を読み取った。その結果、このフィルムの流動開始温度は142.3℃であった。
2.エンボス加工
前記のポリウレタン樹脂組成物を湿式成膜し、得られたポリウレタン樹脂シートに後述の表1の各温度(50℃、105℃、115℃、125℃、135℃、145℃、155℃)にて熱成形加工を施した。熱成形加工はロール面にディンプル(海島状の凹凸)を有するエンボスロールにより行い(ディンプル1個=平均直径98.4μm×平均深さ10.4μmのすり鉢形状、1mm×1mmに平均11.7個)、連続加工にて各温度×接圧(10kgf/cm2)×接圧時間約0.4秒にて処理した。
Thereafter, the temperature of the high-temperature tank was increased, and the temperature at which the rebound elastic force generated by pulling reached the deformation temperature and decreased in elasticity was read. As a result, the flow start temperature of this film was 142.3 ° C.
2. Embossing Wet film formation of the polyurethane resin composition described above, and each temperature shown in Table 1 below (50 ° C, 105 ° C, 115 ° C, 125 ° C, 135 ° C, 145 ° C, 155 ° C) on the obtained polyurethane resin sheet Was subjected to thermoforming. Thermoforming is performed by embossing rolls with dimples (sea-island irregularities) on the roll surface (one dimple = average diameter 98.4μm × average depth 10.4μm mortar shape, average 11.7 per 1mm × 1mm), continuous processing Each temperature x contact pressure (10 kgf / cm 2 ) x contact pressure time was about 0.4 seconds.
その結果、135℃以上ではエンボス形状をポリウレタン樹脂シートの表面部分に転写した所望の成形が可能であった。一方、135℃未満ではエンボス形状をポリウレタン樹脂シートの表面部分に適切に転写することができなかった。
3.エンボス後水洗試験
熱成形加工の不可逆性を確認するために、熱成形加工の温度を変更し、研磨加工に見合う条件にて水洗処理を行った。
As a result, at 135 ° C. or higher, the desired molding in which the embossed shape was transferred to the surface portion of the polyurethane resin sheet was possible. On the other hand, at less than 135 ° C., the embossed shape could not be properly transferred to the surface portion of the polyurethane resin sheet.
3. Post-embossing water washing test In order to confirm the irreversibility of the thermoforming process, the temperature of the thermoforming process was changed, and the water washing process was performed under conditions suitable for the polishing process.
熱成形加工は、前記と同様にロール面にディンプル(海島状の凹凸)を有するエンボスロールにより行い、連続加工にて各温度×接圧(10kgf/cm2)×接圧時間約0.4秒にて処理した。 Thermoforming is performed with embossed rolls with dimples (sea-island-like irregularities) on the roll surface in the same manner as described above. Each temperature x contact pressure (10 kgf / cm 2 ) x contact pressure time is about 0.4 seconds. Processed.
各温度で作成されたエンボス加工品から、各々200mm×200mmの試料を切りだし、当該試料を水洗処理30℃×24時間にて恒温水流水槽(ヤマト科学社製BK-53)を用いて行い、その後、乾燥機(タバイエスペック社製PH-201)を用いて30℃×24時間風乾した。 From each embossed product created at each temperature, a 200mm x 200mm sample is cut out, and the sample is washed with water at 30 ° C for 24 hours using a constant temperature water bath (BK-53 made by Yamato Scientific Co., Ltd.) Thereafter, it was air-dried at 30 ° C. for 24 hours using a dryer (PH-201 manufactured by Tabai Espec).
熱成形加工後における水洗・乾燥前後でのポリウレタン樹脂シートの表面粗さRaを、表面粗さ計(サーフコーダーSEF3500:小坂研究所製)にて測定し、エンボス形状の水洗・風乾外力による可逆・不可逆を確認した。 The surface roughness Ra of the polyurethane resin sheet before and after washing and drying after thermoforming is measured with a surface roughness meter (Surfcoder SEF3500: manufactured by Kosaka Laboratories). Irreversible was confirmed.
その結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.
このように、145℃以上の温度域では水洗・乾燥による表面粗さRaの変化が全く見られなかった。 Thus, no change in the surface roughness Ra due to washing and drying was observed in the temperature range of 145 ° C. or higher.
この結果に基づき、145℃にて連続的に、前記のエンボスロールによる熱成形加工を行い、熱成形加工後のポリウレタン樹脂シートの裏面をバフィング加工した後、この裏面に両面テープを貼り付けて保持材を作製した。この保持材に用いたポリウレタン樹脂シートの熱成形加工後の表面形状を図2に示す。なお、図2の表面形状は全てカラーレーザ顕微鏡(キーエンス社製形状測定レーザマイクロスコープ VK-9700)により測定した。このように、ポリウレタン樹脂シートの緻密な発泡による表面部分は、発泡による凹凸がシート全体として平担化され、かつ、微視的には経時的に回復することなく熱ロールのディンプルが転写されていた。
<実施例2>
熱ロール(ディンプル1個=平均直径75μm×平均高さ10.9μmの円筒形状、1mm×1mmに平均15.0個)にてポリウレタン樹脂シートに熱成形加工を施した。それ以外は実施例1と同様にして保持材を作製した。この保持材に用いたポリウレタン樹脂シートの熱成形加工後の表面形状を図2に示す。このように、ポリウレタン樹脂シートの緻密な発泡による表面部分は、発泡による凹凸がシート全体として平担化され、かつ、微視的には経時的に回復することなく熱ロールの表面形状が転写されていた。
<比較例1>
熱成形加工を施さなかった以外は実施例1と同様にして、裏面をバフィング加工した保持材を作製した。そのポリウレタン樹脂シートの表面形状を図2に示す。
<比較例2>
形状がフラット(プレーン)な状態である熱ロールにてポリウレタン樹脂シートに熱成形加工を施した。それ以外は実施例1と同様にして、裏面をバフィング加工した保持材を作製した。そのポリウレタン樹脂シートの表面形状を図2に示す。
Based on this result, perform thermoforming with the embossing roll continuously at 145 ° C, buff the back side of the polyurethane resin sheet after thermoforming, and then attach and hold double-sided tape on this back side A material was prepared. FIG. 2 shows the surface shape of the polyurethane resin sheet used for the holding material after thermoforming. All the surface shapes in FIG. 2 were measured with a color laser microscope (shape measurement laser microscope VK-9700 manufactured by Keyence Corporation). In this way, the surface portion of the polyurethane resin sheet due to dense foaming has unevenness due to foaming flattened as a whole, and the dimples of the heat roll are transferred microscopically without recovering over time. It was.
<Example 2>
The polyurethane resin sheet was thermoformed with a hot roll (1 dimple = cylindrical shape with an average diameter of 75 μm × average height of 10.9 μm, average of 15.0 × 1 mm × 1 mm). Otherwise, a holding material was produced in the same manner as in Example 1. FIG. 2 shows the surface shape of the polyurethane resin sheet used for the holding material after thermoforming. In this way, the surface portion of the polyurethane resin sheet due to the fine foaming is flattened with unevenness due to foaming as a whole, and the surface shape of the heat roll is transferred microscopically without recovering over time. It was.
<Comparative Example 1>
A holding material whose back surface was buffed was produced in the same manner as in Example 1 except that thermoforming was not performed. The surface shape of the polyurethane resin sheet is shown in FIG.
<Comparative example 2>
The polyurethane resin sheet was thermoformed with a hot roll having a flat (plain) shape. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the holding material which buffed the back surface. The surface shape of the polyurethane resin sheet is shown in FIG.
実施例1、2および比較例1、2におけるパッド単位面積当たりに占めるディンプル部(凹部)の面積割合(%)を表2に示す。 Table 2 shows the area ratio (%) of the dimple portion (concave portion) per pad unit area in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.
実施例1、2、および比較例1、2の保持材について、ポリウレタン樹脂シートのシート厚み(mm)、厚みのバラツキ率(%)、硬度(°)、平均表面粗さを測定した。厚みのバラツキ率は、ポリウレタン樹脂シートの測定範囲1m角について縦横10cm間隔で厚みを測定し算出した。厚みの測定にはピーコック社卓上型厚み測定機(1/1000mm目盛)を用いた。硬度の測定は、アスカーC型硬度計を用いた。平均表面粗さは、表面粗さ計(サーフコーダーSEF3500:小坂研究所製)により測定範囲4000μmで測定した。 For the holding materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, the sheet thickness (mm), thickness variation rate (%), hardness (°), and average surface roughness of the polyurethane resin sheet were measured. The thickness variation rate was calculated by measuring the thickness at 10 cm vertical and horizontal intervals for a 1 m square measuring range of the polyurethane resin sheet. The thickness was measured using a Peacock tabletop thickness measuring machine (1/1000 mm scale). The hardness was measured using an Asker C type hardness tester. The average surface roughness was measured with a surface roughness meter (Surfcoder SEF3500: manufactured by Kosaka Laboratory) in a measurement range of 4000 μm.
その結果を表3に示す。なお、切削量はポリウレタン樹脂シート裏面のバフィング処理量を示す。 The results are shown in Table 3. The cutting amount indicates the buffing amount on the back surface of the polyurethane resin sheet.
次に、実施例1、2、および比較例1、2の保持材について、東洋精機製作所製の摩擦測定機TR-2を用いてロードセル荷重測定を行い、その保持性を評価した。 Next, with respect to the holding materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, load cell load measurement was performed using a friction measuring device TR-2 manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, and the holding property was evaluated.
下定盤面にガラス板を貼り付け、上定盤面であるスレッド(63mm×63mm)の中心位置に、1inch2(25.4mm×25.4mm)の保持材試料を貼り付けた。ガラス板面に霧吹きで水を適量ふりかけ、スレッドを置き、面圧100g/cm2にて10秒間押し付けて、滑りがないこと(貼り付いていること)を確認した。摩擦測定器を稼動し、ガラス板と下定盤を共に移動したときに保持材がずれるまでの最大荷重をロードセル出力計で読み取った。その結果を表4に示す。 A glass plate was attached to the lower surface plate surface, and a 1 inch 2 (25.4 mm × 25.4 mm) holding material sample was attached to the center position of the thread (63 mm × 63 mm) on the upper surface plate surface. We sprayed an appropriate amount of water with a spray on the glass plate surface, placed a thread, and pressed it for 10 seconds at a surface pressure of 100 g / cm 2 to confirm that there was no slip (sticking). The friction measuring device was operated, and the maximum load until the holding material shifted when the glass plate and the lower surface plate were moved together was read with a load cell output meter. The results are shown in Table 4.
以上のように、流動開始温度以上の温度で熱成形加工された実施例1、2の保持材は、平坦性の高い基板研磨が可能となるとともに、形状変化への耐久性を有し、またシート厚みのバラツキ率が減少し保持性も向上した。 As described above, the holding materials of Examples 1 and 2 that have been thermoformed at a temperature equal to or higher than the flow start temperature enable highly flat substrate polishing and have durability against shape changes. The sheet thickness variation rate was reduced and retention was improved.
次に、実施例1、2、および比較例1、2の保持材について、被研磨物の剥離性を評価した。 Next, the peelability of the object to be polished was evaluated for the holding materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.
100mm×100mm×0.7mmのガラス基板を、予め定盤に貼着した保持材の上に、適量の水を霧吹きでふりかけ、面圧100g/cm2にて10秒間押しつけた。そしてガラス基板端部に直径40mmの吸盤を設置し、市販のばね秤で、垂直に引き上げる方向に秤を持ち上げ、剥離する際の数値を読み取った。 A glass substrate of 100 mm × 100 mm × 0.7 mm was sprayed with a suitable amount of water on a holding material previously attached to a surface plate with a spray and pressed at a surface pressure of 100 g / cm 2 for 10 seconds. Then, a suction cup having a diameter of 40 mm was installed at the end of the glass substrate, and the scale was lifted in the direction of pulling up vertically with a commercially available spring balance, and the numerical value when peeling was read.
前記試験を10回繰り返し、10回の平均値を易剥離性とした。また、10回の測定での最大値と最小値の差を範囲Rとし、範囲Rを剥離平均値で割った値を、バラツキ率として評価した。 The test was repeated 10 times, and the average value of 10 times was regarded as easy peelability. Further, the difference between the maximum value and the minimum value in 10 measurements was defined as a range R, and a value obtained by dividing the range R by the peel average value was evaluated as a variation rate.
その結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.
エンボス加工をしていない比較例1では、表面形状が固定化されていないため、基板を剥がすに際して、バラツキが非常に大きく、不安定であった。 In Comparative Example 1 where the embossing was not performed, the surface shape was not fixed, and therefore, when the substrate was peeled off, the variation was very large and unstable.
プレーン形状のエンボス加工をした比較例2は、密着力が極大化し過ぎており、基板が割れたために、測定ができなかった。 In Comparative Example 2 in which the embossing of the plain shape was performed, the adhesion was excessively maximized, and the measurement was not possible because the substrate was cracked.
液晶基板は、所謂ガラス世代毎にサイズ(タテ×ヨコ)が大きくなりながらも、板厚自体はむしろ薄い方向にシフトしている。液晶基板研磨後、保持材から基板を剥がす際、吸着性があまりにも強いと、吸着力に対して基板強度が保たず、基板破損(割れ)が発生する。 While the size (vertical × horizontal) of the liquid crystal substrate increases for every so-called glass generation, the plate thickness itself is shifted in a rather thin direction. When the substrate is peeled off from the holding material after polishing the liquid crystal substrate, if the adsorptivity is too strong, the substrate strength is not maintained against the adsorptive force, and the substrate is broken (broken).
しかしながら、表面をエンボス加工することにより、研磨時のヨコ向きの外力には効果的な抵抗力を持ちながら(表4)、剥離(垂直方向への力)に対しては、比較的簡易に剥がすことができ、かつ、ディンプルの面積を適宜選択することにより、所望の剥離力に調整することができた。 However, by embossing the surface, it can be peeled off relatively easily against peeling (force in the vertical direction) while having effective resistance to horizontal external forces during polishing (Table 4). It was possible to adjust to a desired peeling force by appropriately selecting the area of the dimple.
1 樹脂シート
1a 凹部
2 ディンプルロール
2a 凸部
3 加圧ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin sheet 1a Concave part 2 Dimple roll 2a Convex part 3 Pressure roll
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