JP4975538B2 - リソグラフィ装置および放射センサ - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (10)
- 第一波長の放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体であって、前記パターニングデバイスが第一波長のパターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えるように構成されたものである、支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成され、最終エレメントを備える投影システムと、
基板レベルセンサと、
を備えており、前記基板レベルセンサが、
前記最終エレメントの焦点面に配置された放射レシーバと、
前記投影システムに面する側で前記放射レシーバを支持するように構成された透過性板と、
前記透過性板に入射する第一波長の光を吸収して、第二波長で光を再放射するように構成された量子変換層と、
複数の光ファイバ、および前記前記複数の光ファイバの間に配置された吸収材を備えるファイバオプティクスブロックと、
放射ディテクタと、
を備え、
前記複数の光ファイバが、前記量子変換層によって再放射された光を前記放射ディテクタに向かって誘導するように構成され、
前記吸収材が、前記量子変換層から来て当該ファイバオプティクスブロックの開口数から外れる光を吸収し、
前記量子変換層が、光学的接着剤にて第一側で前記ファイバオプティクスブロックに接続され、
前記量子変換層が、直接接触により確立された接触にて第二側で前記透過性板に接続される、
リソグラフィ装置。 - 前記基板レベルセンサがさらに、前記透過性板と前記量子変換層と前記ファイバオプティクスブロックと前記放射ディテクタが相互に接触するように、プレストレスされた力を前記放射ディテクタに加えるように構成された圧力発生デバイスを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記圧力発生デバイスがばねを備える、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記量子変換層が、発光ガラスおよび/または蛍光体を含むグループからの材料を含む、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記量子変換層が、第一波長の光の前記量子変換層内の吸収長さより少なくとも5倍大きく且つ前記透過性板の厚さの少なくとも50分の1である厚さを有する、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 入射する放射を受けるように構成された放射レシーバと、
第一側で前記放射レシーバを支持するように構成された透過性プレートと、
前記透過性プレートに入射した第一波長の光を吸収し、第二波長で光を再放射するように構成された量子変換層と、
前記量子変換層によって再放射された光を集め、誘導するように構成された複数の光ファイバ、および前記前記複数の光ファイバの間に配置された吸収材を備えるファイバオプティクスブロックと、
前記複数の光ファイバによって誘導された放射を受けるように構成された放射ディテクタと、
を備え、
前記吸収材が、前記量子変換層から来て当該ファイバオプティクスブロックの開口数から外れる光を吸収し、
前記量子変換層が、光学的接着剤にて第一側で前記ファイバオプティクスブロックに接続され、
前記量子変換層が、直接接触により確立された接触にて第二側で前記透過性プレートに接続される、
放射センサ。 - 前記放射センサがさらに、前記透過性プレートと前記量子変換層と前記ファイバオプティクスブロックと前記放射ディテクタが相互に接触するように、プレストレスされた力を前記放射ディテクタに加えるように構成された圧力発生デバイスを備える、請求項6に記載の放射センサ。
- 前記圧力発生デバイスがばねを備える、請求項7に記載の放射センサ。
- 前記量子変換層が、発光ガラスおよび/または蛍光体を含むグループからの材料を含む、請求項6乃至8のいずれか1項に記載の放射センサ。
- 前記量子変換層が、第一波長の光の前記量子変換層内の吸収長さより少なくとも5倍大きく且つ前記透過性プレートの厚さの少なくとも50分の1である厚さを有する、請求項6乃至9のいずれか1項に記載の放射センサ。
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