CN101223459A - 光散射盘、其用途以及波阵面测量设备 - Google Patents

Abstract

1.光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。2.1.本发明涉及一种光学散射盘，包括透明基底(1)和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。2.2.依据本发明，光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质(4)，并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。2.3.借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。

Description

光散射盘、其用途以及波阵面测量设备

本发明涉及一种光散射盘，包括透明基底和与基底表面邻接的光散射层，所述光散射层包括光散射活性颗粒，还涉及该种散射盘的用途以及包括该散射盘的波阵面测量设备。本申请要求US临时申请号60/684977的优先权，该申请公开的内容在此全部引入作为参考。

光散射盘通常被认为是由透明固体材料制成的一面或两面均是粗糙的平面盘或一定形状的表面。它们起到例如磨砂玻璃盘以在屏幕上产生真实图像的作用。由于散射盘的散射作用，可从不同的视角观察投影的图像。在照明技术中，磨砂玻璃盘起到使物体的照明均匀的作用。在光学计量学中，散射盘还起到相混合器(phase mixer)作用以破坏空间相干性。尤其在干涉仪测量设备中，这种散射盘元件还可进行额外的旋转和/或摆动运动以改变以及混合斑纹的相，使得它们最终平均为零，与相关的探测器的曝光时间相反，并因而不再干扰测量信号，参见例如公开专利申请DE10320520A1以及其中指定的现有技术。

在现在的情况中，出于简洁的目的，术语“光散射盘”不仅仅包括单纯的光散射类型的，其中在散射过程中不改变辐射的频率或波长，还包括荧光或变频类型的，即：其中入射光被光散射活性颗粒吸收并以不同的频率或波长均匀地发出。这类散射盘还可称为量子转换器型(quantumconverter type)。这种变频散射盘还可用来例如将成像辐射从不可视的波长范围转换至可视的波长范围或转换至可通过常规的探测器例如CCD摄像机适于检测的波长范围。为了实现变频散射盘，在透明固体基底上具有一由量子转换材料制成的变频表面涂层；举例来说，具有P43涂层的石英基底将UV光转换成绿色光，或者基底本身包括这种材料，这些材料中常规地是掺杂的玻璃材料、铈掺杂石英材料和Lumilas。

在想要实现变频和产生高质量的二次图像的应用中，也就是说具有很小的损失(washing out)，必须尽可能地在一个尽可能薄的层上实现转换步骤。在使用UV、DUV或VUV辐射的应用中，举例来说出于这个目的需使用石英板形式的散射盘，其中石英板上具有若干微米厚的P43材料层。这种在显微镜下可视的变频光散射层通常包括沉积在相应基底表面上的变频材料的晶粒或粉末颗粒的堆积物。这些颗粒本身不与整个面积的基底表面相接触，而是具有相对较小的接触面积，因此保留了相邻颗粒之间的间隙，其中环境介质(通常为空气)而不是变频材料直接与基底表面相邻接。这意味着相对于基底/光散射层界面的光学性能来说全反射角度的变化是可在显微镜下可视的。换句话说，穿过基底入射到缝隙区域中的界面也就是基底/空气界面区域上的辐射被认为是界面上的全反射，如果入射角大于全反射的相关角的话将不会到达光散射活性颗粒上。在这种情况中，词语全反射角应理解为指的是简洁方式表达的全反射的临界角。因此，这种常规的散射盘仅仅适于孔径小于基底/空气界面的全反射角的应用。

近来，具有例如大于0.9或大于1.0的非常高数值孔径的投影物镜越来越多地用于显微光刻技术中用来在半导体晶片上形成图案，例如将所谓浸没物镜(immersion objective)与具有例如仅仅是若干nm的日益变小的波长的UV辐射组合使用的形式。需要测量设备，例如能处理相对较大入射角的这种大孔径待检样品的波阵面测量类型的来确定这种大孔径物镜的成像色差或成像质量。

因此，本发明要解决的技术问题是要提供一种在介绍中提到的类型的光学散射盘，以及其用途和配备有这种散射盘的波阵面测量设备，该波阵面测量设备甚至适用于相当大孔径以及尤其适用于显微光刻技术中大孔径浸没物镜的测量。

本发明通过提供一种包括权利要求1所述特征的光学散射盘、包括权利要求11所述特征的用途、包括权利要求12所述特征的波阵面测量设备以及包括权利要求19所述特征的显微光刻投影曝光设备来解决了这些技术问题。

在依据本发明的光学散射盘的情况中，光散射层的光散射活性颗粒被包埋介质(embedding medium)所围绕，包埋介质具有较空气更强的光学增稠作用并与基底的衬面(facing surface)以表面方式(areally)相邻接。因此，包埋介质填满了基底与界面上的光散射活性颗粒之间的任意缝隙，并确保全反射角相较于基底/空气界面的更大，或者如果包埋介质具有与基底材料相等或更大的折射率时全反射效应将完全消失。

这样的话，由于在依据本发明的光学散射盘的情况中消除了全反射效应或者在任何情况中和基底/空气缝隙区域相比仅仅在更高的入射角上出现全反射效应，与其中空气构成围绕光散射活性颗粒的介质的常规光学散射盘相比，可能使用这种光学散射盘的面积将在允许的更高的入射角上扩展。因此，依据本发明的光学散射盘可尤其用于确定大孔径显微光刻投影物镜例如浸没物镜类的成像色差的测量设备中。

在本发明的一种改进中，包埋介质的折射率达到基底折射率的至少接近80％或甚至至少接近90％，更具体地，其还可大于或等于后者。另外或者作为替换地，包埋介质的折射率可保持得比光散射活性颗粒的折射率小。最后这种情况只排除了包埋介质和各个光散射活性颗粒之间的界面上的全反射效应。

在本发明的另一种改进中，光散射活性颗粒包括颗粒材料，如果需要的话该颗粒材料具有单纯的散射、而不发生变频的特性或量子转换特性。

在本发明的另一种改进中，包埋介质是液体材料或固体材料，其中颗粒被包埋在其中。在液体包埋介质的情况中，颗粒可能以悬浮或溶解在其中，或者它们可形成固体和/或烘干的和/或多孔复合物，而液体在周围流动。在所有情况中，包埋介质以期望的方式填满了界面上的光散射活性颗粒与基底之间的任意缝隙区域。

在本发明的另一种改进中，如此选定包埋介质，这种材料将使得其折射率将导致在基底/包埋介质界面上获得想要的全反射角。

包埋介质可以是例如通过粘附固定在基底上的液体，因此可以减少一个盛放包埋介质的容器。作为可选方案，液体包埋介质是被密封的，也就是说需要一个适当的容器来容纳。在最后提到的情况中，包埋介质可以静态的或流动的形态存在于空腔内。

在本发明的另一种改进中，颗粒以松散的、可移动的的形式位于包埋介质中。作为可选地，它们还可以被束缚的形式附着在颗粒载体基底上。

在颗粒是松散、可移动的情况中，在本发明的一种有利的改进中，具有一种用来移动颗粒的装置。光散射活性颗粒的运动可增大散射辐射的均匀性。为了实现这种颗粒的运动，该装置可包括使液体包埋介质流动的部件；和/或使颗粒本身活性运动，也就是相对于液体包埋介质来说的运动的部件；和/或使包埋介质中额外的辅助颗粒活性运动的部件。在第一种情况中，光散射活性颗粒夹带在流动包埋材料中。在第二种情况中，装置使颗粒本身产生原动力，对于包埋介质来说还可能保持静态或者包埋介质产生同样的移动。在最后提到的情况中，为了使光散射活性颗粒进入包埋介质这个目的，光散射活性颗粒的运动被移动的辅助颗粒所激发。辅助颗粒可以是，举例来说，由特别设计来使移动激活装置以相对直接的方式施加原动力的材料制成的颗粒。辅助颗粒可以任意地根据需要选择它们的形态和尺寸。

依据本发明的干涉测量技术的波阵面测量设备，借助于该装置可通过横向切变干涉仪测量测量试样，例如，在衍射光栅和检测元件之间使用依据本发明的散射盘。在这种情况中，衍射光栅可位于散射盘基底的表面上与光散射层相对，或者位于它本身的与散射盘基底相邻接的光栅基底上。波阵面测量设备可例如被设计成点衍射干涉仪或Shack-Hartmann传感器。更具体地，试样可以是显微光刻投影物镜。

在本发明的一种改进中，浸没介质位于衍射光栅和试样之间，可被测量设备处理的试样的最大数值孔径将可进一步增大。

在波阵面测量设备的另一种改进中，光散射层与探测器元件紧密接触(touching contact)。因此，对于散射盘发出的辐射特性来说不需要考虑任何其他***光学介质。此外，如果后者选择了液体的话，相关的散射盘侧的探测器元件起到作为包埋介质的边缘的作用。在本发明可选的改进中，光散射层通过粘附固定在散射盘基底的探测器一侧的表面上，在其相对表面上具有衍射光栅。随后，在距离光散射层一定距离，例如在检测成像光盘的中间位置上设置探测器元件。

在本发明的显微光刻技术的投影曝光设备中，本发明的光学散射盘至少以给定时间间隔设置在投影物镜的辐射输出端上，其中投影物镜可以是一个具有大孔径的，例如0.9或更高的，和/或设计用来与浸没介质优选浸没液体一起工作的投影物镜。

以下附图中示出并描述了本发明的优选的实施例。附图是：

图1示出了散射盘装置的横截面示意图，该装置包括具有光散射活性颗粒的光散射层和具有较空气更大的折射率并围绕所述颗粒的包埋介质；

图2示出了波阵面测量设备的探测器一侧的部分的横截面视图，该设备包括像图1那样的散射盘装置，其光散射层与探测器元件紧密接触；

图3示出了波阵面测量设备的探测器一侧的部分的横截面视图，该设备包括像图1那样的散射盘装置，其光散射层通过粘附固定在距离探测器元件一定距离的相结合的衍射光栅/散射盘基底上；以及

图4示出了具有液体包埋介质和颗粒运动装置的光散射层的横截面示意图。

图1示出的散射盘装置包括由透明材料形成的基底1和与主侧上的所述基底相邻接的具有光散射活性颗粒3的光散射层2，为了图解的目的这些均以放大的尺寸进行示出。光散射活性颗粒3被光散射层2的包埋介质4所包围，也就是说，其包埋在所述包埋介质中。包埋介质4可以是较空气更为光学密集的气体、液体或固体介质。在示出的实施例中，将具有与基底1的材料的折射率的量级相近似的折射率的材料选定为包埋介质4。

包埋介质4填满了光散射活性颗粒3之间的所有空隙，并因而与基底1表面地相邻接，无论如何在基底1和单个颗粒3之间没有接触，并且考虑到它们通常为圆形的细小晶粒的形状，其邻接在基底1对面，与其具有非常小的接触面积。因此确保了穿过基底1的任何辐射均独立于入射角，无需考虑基底/光散射层界面5上的全反射角。

图1中示出了***性光束6a、6b、6c。部分辐射直接入射到基底/光散射层界面5的光散射活性颗粒上，在图1的实施例1中例如是光束6a。随后该辐射部分直接进入各个光散射颗粒中而没有其他明显损失，随后被所述颗粒散射，并且取决于材料还可被变频。在相应的实施例中，光散射活性颗粒3的折射率的量级与基底材料的相类似或更大，因此没有发生可感知的全反射效应。无论如何，后者都不会比在相应的常规散射盘的情况更高，即使颗粒3包括具有比基底材料更小的折射率的材料。在基底/光散射层界面5上，可感知的辐射部分不会直接入射到光散射活性颗粒上，而是入射在包埋介质4上。在垂直入射的情况中，图1中的光束6a不发生全反射，辐射穿过尽可能长的范围无衰减地进入光散射层2中，直到其入射到其中的光散射活性颗粒上并被所述颗粒散射，在附图以及其他两个光束例子中用相应的箭头示出了颗粒的散射特性。如果需要的话，可通过常规的方式借助所述界面5上的防反射涂层使基底/光散射层界面5上的反射最小化。

在特性上，由于包埋介质4和基底1之间的折射率的一致性，以相当大的入射角入射到基底/光散射层界面5没有被光散射活性颗粒占据的地方上的辐射也没有任何全反射损失地进入光散射层2中，并且在所述的光散射层中，它依次入射在光散射活性颗粒3上并被后者散射，这种情况可参见光束6c。即使在特定的实施例中，包埋介质4的折射率小于基底1的折射率，但它无论如何都将比空气的要大，因此，与常规的不具有这种较空气更为光学密集的包埋介质的散射盘不同的是，以在全反射的基底/空气角度和全反射的基底/包埋介质角度之间范围的角度入射的辐射部分也将组合进入光散射层2中。

原则上，所有具有比空气更大折射率的材料都适用做包埋介质4，所述材料应是对入射辐射以及散射、发出或如果合适的话变频辐射来说均为尽可能透明的。在固体包埋介质4的情况中，颗粒3被固定，也就是说它们是被浇铸在其中的。对于很多应用来说，更适于选择液体包埋介质4，可根据其折射率与想要的应用所需要的全反射角相适应来选择包埋介质。举例来说，如果包括UV或DUV辐射的话，适当的液体是Fomlin或水。在辐射是其他波长的情况中，例如可在浸没法显微术中用作浸没介质的油可用于包埋介质4。

如果需要的话，包埋介质4还可设计来填充滤波器，起到作为穿过光散射层2的辐射的角频谱的作用，也就是说以指标的方式选定基底1和光较不密集的包埋介质4之间的折射率的差别，使得仅仅是以至多高达全反射的相应角的角度入射在光散射层2的辐射以期望的方式组合进入光散射层2中。

对于光散射活性颗粒3来说，可以使用所有的常规材料，尤其是那些具有单纯的散射特性而没有变频特性的，例如玻璃或石英颗粒材料，以及那些具有荧光、量子转换特性的材料，诸如P43材料、相应地掺杂了的玻璃材料、掺杂了铈的石英材料、Lumilas材料等。

根据需要以及如果需要的话，颗粒3可以是透明的和/或具有反射特性的材料。同样地，可根据用途任选颗粒3的尺寸和形状。因而，颗粒3可以是例如基本上是相同尺寸的以及具有相同的几何结构类型的，或者可选地可根据特性的不同而不同，例如更精细和/或更粗糙的晶粒，具有更平滑或更粗糙表面的微粒，更圆或更棱角化的晶粒等。颗粒可以分离地存在或成团的形式存在，并且假如使用了液体包埋介质4的话还可松散地或被束缚的形式存在，也就是说是可自由移动的方式或粘附在颗粒载体基底或位于颗粒载体结构中或其上的。对于基底1来说，在任何情况中在面对入射方面一侧上包埋介质4必须无间断地包埋和湿润颗粒3。

当选定液体包埋介质4时，可通过粘附将相应实施例中的该种介质与颗粒3以及整个光散射层2单独地固定在基底1上。可选地，液体包埋介质4还可以是被密封的，例如使用容器或引入一个缝隙。在图1的实施例中示出了后者，在光散射层2远离基底1的那一侧上被设置在光束路径下游的透明组件7划定了界线，所述组件可以是任意需要的，例如在各种应用中位于该位置上的光学组件。不用说的是，如果需要的话，在液体包埋介质4的情况中，后者还可以适宜的方式在光散射层2的剩余侧面上被划定界线，如果必须的话。液体包埋介质4可根据需求保持为静态的方式或进行流动，例如奔流(flushed)。如果包埋介质4是流动的以及颗粒3以自由移动的方式位于包埋介质4中，那么颗粒3将可被包埋介质4的流动所夹带，因而使光散射层2获得暂时改变的散射特性，这将导致出现与常规散射盘的机械运动相同的效果。

依据本发明的散射盘由于其降低了或基本消除了基底/光散射层界面上的全反射效应，因此可用于较广泛的应用中。更具体地，它可用于任何情况中的至今使用过的常规散射盘中，甚至它还可用于将要被散射的辐射以较大的入射角入射到散射盘上的应用中。这些应用的一个重要领域是大孔径光学***的测量，诸如显微光刻技术的投影曝光设备的大孔径投影物镜。图2和3示出了这种情况的两个示范性实施例。

更准确地是，图2和3示出了在使用了横向切变干涉仪的单个波阵面测量设备中的探测器一侧部分。至于其他，单个设备是常规的结构，因此未示出细节。在图2和3中，示出的待检试样是在所有情况中的大孔径浸没物镜8，其可用于例如扫描器或步进类型的使用短波UV辐射在半导体晶片上形成图案的显微光刻投影曝光设备中。图2仅仅示出了包括透镜8a和平面终端元件8b的物镜8的出射部分。其后是测量设备的探测器一侧或成像一侧，其包括以本身已知的方式存在的位于或接近物镜8的像平面上的衍射光栅9和位于其后较小距离位置上的辐射敏感探测器元件10，例如CCD阵列。

依据本发明的参看图1时所述的一种类型的散射盘11位于衍射光栅9和探测器元件10之间。在这种情况中，公共的组合光栅/散射盘基底11a同时起到光散射层11b的基底的作用，这与图1的光散射层2相对应，并起到衍射光栅9的基底的作用。特别地，衍射光栅9位于公共载波基底11a的主侧上，面对物镜8，而光散射层11b与位于公共承载基底11a上的辐射敏感探测器元件10紧密接触。

任选地，假如所述层的包埋介质是液体的话，虽然在附图中没有具体示出，但如果需要的话光散射层11b可具有边界。作为示出的实施例可选地，衍射光栅一方面还可能在所有情况中具有专用基底以及另一方面可能具有设置得例如一个在另一个后面紧密接触的光散射层。

物镜8和组合光栅/散射盘基底11之间的空隙可被适宜的密封剂12沿横向密封，以及填满了任选的适宜的浸没介质，例如水。一方面的物镜8的平面终端元件8b和另一方面的组合光栅/散射盘基底11a起到浸没介质的轴向边界的作用。

图3以与图2相似的视图示出了横向切变干涉仪类型的另一种波阵面测量设备的成像侧或探测器侧的部分，除非以下进行额外说明否则其与图2的是相对应的。出于简洁的考虑，图2中的相同附图标记在图3中用来指具有相同功能的部件，因此在这点上可参看与图2相关的上述描述。图3的测量设备与图2的不同的地方主要在于辐射敏感探测器元件10设置在与散射盘11成一定距离的位置，也就是说，更精确地，远离光散射层11b，检测成像镜14位于光散射层11b和探测器元件10之间。在这个示范性实施例中，光散射层11b通过粘附剂，像一个平坦的水滴一样粘附在组合衍射光栅/散射盘基底11a上，并因而不需要被封闭在容器中。可根据这个目的选择合适的光散射层11b的液体包埋介质。因而，例如当用Fomblin作为光散射活性颗粒的包埋介质时，由于它非常低的蒸气压，即使在若干月后通过蒸发而损失的液体量几乎可忽略不计。因此，对于包埋液体来说不必经常进行补充或更换。

在图3的设备的情况中，成像镜14在探测器元件10上成像切变干涉图，该图是作为散射盘11的光散射层11b中的二次图像出现的，而在图2的示范性实施例中，由于探测器元件10与光散射层11b紧密接触，将不直接在光散射层11b上直接产生所述的二次图像。与此相反的，在图3的情况中，散射盘11与环境介质，通常为空气相邻，且它的光散射层11b位于远离衍射光栅的位置上。在这两个示范性实施例中，光反射层11b可包括，举例来说，由量子转换材料制成的光散射颗粒，因此入射UV测量辐射14不仅仅被散射，而且在同时被转换成不同波长范围的辐射16，能更好地被探测器元件10所检测到。

在图2的实施例和图3的实施例中，测量设备适于测量即使是非常大孔径的待检试样8，其中在散射盘11上，更具体的是在散射盘基底11a和光散射层11b之间的界面上产生相应的非常大入射角的辐射15。即使在这些非常大的入射角的情况中，在所述界面上仍然保持可以接受的小的量的全反射或者完全避免。为了实现这个目的，正如上参看图1时具体解释的，包埋介质的折射率应适于与散射盘基底11a的折射率相适应。

正如上参看图1时所描述的，依据本发明的散射盘可用于例如图2和3的应用中以及任意其他类型的测量设备和通常在任意其他散射盘应用中作为光散射活性颗粒具有固体包埋介质的固态散射盘或者作为具有液体包埋材料的液体散射盘。在最后提到的情况中，单独或连接在一起形成相对大的团块的光散射活性颗粒，可在周围的液体包埋介质中自由移动。如果需要的话这可用来产生光散射活性颗粒的目的运动，并因而产生与常规散射盘的机械运动效果相类似的光散射层的散射特性的暂时变化。

对于光散射活性颗粒的这种运动来说有多种不同的可能。一种可能包括移动液体包埋介质本身，也就是说，使之流动，例如通过冲洗、搅拌等。包埋介质的流动运动会夹带包埋的光散射活性颗粒。还可借助相应的装置，在所述颗粒上施加原动力或者在额外引入包埋液体中的辅助颗粒上施加原动力来实现光散射活性颗粒的运动。举例来说，可以考虑用电的或磁力作为产生这种原动力的机制。随后将启动光散射活性颗粒的运动的辅助颗粒的运动还可被包埋液体的流动例如对流而驱动。根据需要可以采用任意类型的运动，诸如周期性的、均匀的或统计学上的运动。还可以考虑借助声波或例如通过聚焦以脉冲方式或其他方式引入的辐射来产生的局部热点作为运动激发机制来产生运动。

图4示意性示出了由外部电磁运动激活液体散射盘的光散射层17的情况的示范性实施例，其余部分未能具体示出，光散射层17具有流体包埋材料18以及可在所述包埋材料中自由移动的光散射活性颗粒19。另外，磁性辅助颗粒20已经引入到光散射层17的包埋介质18中，在本实施例中所述辅助颗粒明显较光散射颗粒19更大。磁性辅助颗粒20是运动激活装置的一部分，其还具有位于光散射层17横向侧上的电磁装置21。通过电磁装置21的激活，可能以本身已知的方式在自由悬浮在包埋介质18中的磁性辅助颗粒20上产生脉冲或其他形式的电磁力，因此使这些颗粒发生运动，正如箭头B所示出的。由此引发的磁性辅助颗粒20的例如脉冲或随机的运动可使具有悬浮在包埋液体18中的光散射颗粒19产生运动并混合。如果需要的话，另外还可通过包埋液体18的流动来激发光散射活性颗粒19的运动。

正如以上通过描述示范性实施例所阐述的，本发明提供了一种光学散射盘，其适于大入射角的辐射被反射，并且通过给光散射活性颗粒选择适合的包埋介质将减少或完全消除在与散射盘的界面上全反射效应。

Claims (21)

1.光学散射盘，包括：

-透明基底(1)以及

-与基底表面相邻接并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，

其中

-光散射层(2)，该光散射层(2)具有较空气更为光学密集并表面地邻接基底(1)的衬面的包埋介质(4)，并且包埋介质(4)还包围光散射活性颗粒(3)。

2.如权利要求1所述的光学散射盘，其中包埋介质的折射率达到基底的折射率的至少接近80％和/或小于光散射活性颗粒的折射率。

3.如权利要求1或2所述的光学散射盘，其中光散射活性由不会改变散射辐射的频率的粒状的、单纯散射材料形成或者由粒状量子转换材料形成。

4.如权利要求1-3任一项所述的光学散射盘，其中包埋介质是液体材料，光散射活性颗粒悬浮或溶解在液体包埋介质中或形成固体和/或烘干和/或多孔的复合物，而液体包埋介质在该复合物周围流动；或者包埋介质是将光散射活性颗粒包埋在其中的固体材料。

5.如权利要求1-4任一项所述的光学散射盘，其中选择包埋介质使得其折射率与基底/包埋介质界面的全反射的预定角度相适配。

6.如权利要求1-5任一项所述的光学散射盘，其中包埋介质是通过粘附而固定在基底上或被密封的液体。

7.如权利要求6所述的光学散射盘，其中包埋介质在空腔中是静态的或流动的。

8.如权利要求1-7任一项所述的光学散射盘，其中光散射活性颗粒被松散地、可移动的形式或被束缚的形式粘附在颗粒载体基底上的包埋介质松散包围。

9.如权利要求8所述的光学散射盘，其中光散射活性颗粒在液体包埋介质中是松散的、可移动的形态的，并具有使光散射活性颗粒移动的装置。

10.如权利要求9所述的光学散射盘，其中颗粒移动装置包括一个单元，该单元使液体包埋介质产生主动流动和/或使光散射活性颗粒产生主动运动和/或使额外添加到包埋介质中的辅助颗粒产生主动运动。

11.用途，所述用途是指如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘用于确定成像色差测量的光学***的设备。

12.用来测量待检试样干涉波阵面的设备，包括：

-设置在光束路径中待检试样(8)下游的衍射光栅(9)以及

-设置在衍射光栅下游的探测器元件(10)，

其特征在于，具有：

-如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘(11)，该光学散射盘(11)位于衍射光栅(9)和探测器元件(10)之间，衍射光栅位于与光散射层(11b)相对的散射盘基底(11a)的表面上，或者位于散射盘基底邻接的其自身的光栅基底上。

13.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成横向切变干涉仪。

14.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成点衍射干涉仪。

15.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成Shack-Hartmann传感器。

16.如权利要求12-15任一项所述的设备，其中散射盘借助其光散射层与探测器元件紧密接触，或者其光散射层与探测器元件相分隔开，并通过粘附固定在公共光栅/散射盘基底的探测器一侧表面上，在其面对待检试样的表面上设置有衍射光栅。

17.如权利要求12-16任一项所述的设备，其中浸没介质(13)位于衍射光栅和待检试样之间。

18.如权利要求12-17任一项所述的设备，其中待检试样是显微光刻投影物镜(8)。

19.显微光刻投影曝光设备，包括投影物镜(8)，其特征在于在投影物镜的辐射输出侧上以给定的时间间隔设置了如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘。

20.如权利要求19所述的显微光刻投影曝光设备，其中投影物镜在其辐射输出侧具有至少0.9的数值孔径，优选具有至少1.0的数值孔径。

21.如权利要求19或20所述的显微光刻投影曝光设备，其中形成投影物镜用来与浸没介质一起工作，优选是浸没液体。

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