JP4970959B2 - 反応装置及び反応方法 - Google Patents
反応装置及び反応方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4970959B2 JP4970959B2 JP2007001120A JP2007001120A JP4970959B2 JP 4970959 B2 JP4970959 B2 JP 4970959B2 JP 2007001120 A JP2007001120 A JP 2007001120A JP 2007001120 A JP2007001120 A JP 2007001120A JP 4970959 B2 JP4970959 B2 JP 4970959B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactant
- channel
- reaction
- flow
- introduction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 205
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 75
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 44
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N n-[3-[(1s)-1-[[6-(3,4-dimethoxyphenyl)pyrazin-2-yl]amino]ethyl]phenyl]-5-methylpyridine-3-carboxamide Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1=CN=CC(N[C@@H](C)C=2C=C(NC(=O)C=3C=C(C)C=NC=3)C=CC=2)=N1 JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
2a 分割壁
2b 仕切壁
2e 中間基板
2f 表側基板
2g 裏側基板
2h 表面側溝部
2i 裏面側溝部
4a 流路
10 第1導入路
12 第2導入路
14 合流路
16 反応流路
Claims (7)
- 第1反応剤と第2反応剤を流通させながらそれらを反応させる反応装置であって、
特定方向に延びるとともにその方向に沿って前記第1反応剤と前記第2反応剤を流通させる流路を内部に持つ流路構造体を備え、
前記流路は、当該流路の入口側に配置されるとともに前記第1反応剤が導入される第1導入路と、前記流路構造体に設けられた仕切壁を挟んで前記第1導入路と離間して配置され、前記第2反応剤が導入される第2導入路と、前記第1導入路と前記第2導入路の下流側に繋がり、前記第1導入路を通じて流れる前記第1反応剤と前記第2導入路を通じて流れる前記第2反応剤を互いに分離した層流の状態で合流させる合流路と、この合流路の下流側に繋がり、前記第1反応剤の層流と前記第2反応剤の層流を両反応剤が互いに接触した状態で流通させるとともにそれら両反応剤を互いの接触界面において反応させる反応流路とを含み、
前記反応流路の前記接触界面に垂直な層厚方向の寸法は、前記第1導入路の前記層厚方向の寸法と前記第2導入路の前記層厚方向の寸法との和よりも小さく、かつ、前記合流路の前記層厚方向の寸法よりも小さく、
前記合流路の前記層厚方向の寸法は、前記第1導入路の前記層厚方向の寸法と前記第2導入路の前記層厚方向の寸法との和よりも大きく、
前記第1導入路と前記反応流路は、直線的に延びるとともに均一な前記層厚方向の寸法をもつ単一の流路を用いて形成されており、
前記合流路は、前記第2導入路から流れる前記第2反応剤の層流を前記第1導入路から直線的に流れる前記第1反応剤の層流に対して前記層厚方向から合流させて前記反応流路に導入するように構成されている、反応装置。 - 前記流路構造体は、中間基板と、その中間基板を前記層厚方向の表裏両側から挟む表側基板と裏側基板とによって構成され、
前記中間基板の表面には、特定方向に延びる表面側溝部が形成されているとともに、前記中間基板の裏面には、前記表面側溝部に対応する位置に前記特定方向に延びる裏面側溝部が形成され、
前記表面側溝部の開口部が前記表側基板によって覆われることにより前記第1導入路が形成されているとともに、前記裏面側溝部の開口部が前記裏側基板によって覆われることにより前記第2導入路が形成されており、
前記中間基板の前記表面側溝部と前記裏面側溝部の間に挟まれた領域が前記仕切壁として用いられている、請求項1に記載の反応装置。 - 前記合流路は、その前記第1反応剤及び前記第2反応剤の流通方向に沿った長さが前記仕切壁の前記層厚方向の寸法よりも大きくなるように形成されている、請求項1又は2に記載の反応装置。
- 前記合流路は、その前記第1反応剤及び前記第2反応剤の流通方向に沿った長さが前記仕切壁の前記層厚方向の寸法の10倍以上になるように形成されている、請求項3に記載の反応装置。
- 前記流路構造体は、前記流路を前記第1反応剤及び前記第2反応剤の流通方向に直交する幅方向に複数に分割する分割壁を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の反応装置。
- 前記流路構造体が複数積層されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の反応装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の反応装置を用いた反応方法であって、
前記第1導入路に第1反応剤を導入するとともに前記第2導入路に第2反応剤を導入し、その第1反応剤と第2反応剤とを前記合流路で互いに分離した層流の状態で合流させ、その後、合流した前記第1反応剤の層流と前記第2反応剤の層流を両反応剤が互いに接触した状態で前記反応流路に流通させるとともにそれら両反応剤を互いの接触界面において反応させる、反応方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007001120A JP4970959B2 (ja) | 2007-01-09 | 2007-01-09 | 反応装置及び反応方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007001120A JP4970959B2 (ja) | 2007-01-09 | 2007-01-09 | 反応装置及び反応方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008168173A JP2008168173A (ja) | 2008-07-24 |
JP4970959B2 true JP4970959B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=39696774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007001120A Expired - Fee Related JP4970959B2 (ja) | 2007-01-09 | 2007-01-09 | 反応装置及び反応方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4970959B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4899681B2 (ja) | 2006-07-18 | 2012-03-21 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロ流路デバイス |
JP5151204B2 (ja) | 2007-03-27 | 2013-02-27 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロ流路デバイス及びマイクロ流路デバイスの製造方法 |
JP5119848B2 (ja) | 2007-10-12 | 2013-01-16 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロリアクタ装置 |
JP2010115624A (ja) | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Fuji Xerox Co Ltd | マイクロ流路デバイス、分離装置、並びに、分離方法 |
US8142741B2 (en) | 2009-01-13 | 2012-03-27 | Kobe Steel, Ltd. | Reactor and method for manufacturing reactor |
EP2377605B1 (en) * | 2009-01-13 | 2015-03-11 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Fluid path structure, reactor, and reaction method using the reactor |
JP4515521B2 (ja) | 2009-01-13 | 2010-08-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 反応装置及び反応装置の製造方法 |
JP4515520B2 (ja) | 2009-01-13 | 2010-08-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 反応装置及び反応装置の製造方法 |
JP5003702B2 (ja) | 2009-03-16 | 2012-08-15 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロ流体素子及びマイクロ流体制御方法 |
JP5642488B2 (ja) | 2010-10-04 | 2014-12-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 流路構造体 |
JP2012120962A (ja) * | 2010-12-07 | 2012-06-28 | Kobe Steel Ltd | 流路構造体 |
JP5547120B2 (ja) | 2011-03-18 | 2014-07-09 | 株式会社神戸製鋼所 | 流路構造体、流体の混合方法、抽出方法及び反応方法 |
JP5749987B2 (ja) | 2011-06-22 | 2015-07-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 液体混合方法及び装置 |
JP5340443B2 (ja) | 2012-03-12 | 2013-11-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 多流路機器の運転方法 |
JP5885548B2 (ja) | 2012-03-12 | 2016-03-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 多流路機器の運転方法及び多流路機器 |
EP3029015B1 (en) | 2013-08-02 | 2018-06-27 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Reaction method involving generation of vapor component |
JP2021074655A (ja) * | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 凸版印刷株式会社 | 流体チップ及び流体デバイス |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004125477A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | マイクロ化学システム用チップ |
JP3972792B2 (ja) * | 2002-10-28 | 2007-09-05 | 株式会社日立製作所 | 有機ハロゲン化合物の処理方法および装置 |
JP2004290971A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-10-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | 反応方法および反応装置 |
JP4431857B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2010-03-17 | 富士フイルム株式会社 | マイクロデバイス |
DE10341500A1 (de) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Ehrfeld Mikrotechnik Ag | Mikrophotoreaktor zur Durchführung photochemischer Reaktionen |
JP2005088111A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Sekisui Chem Co Ltd | 分離・抽出機構を有するマイクロリアクターの製造方法 |
JP4523386B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2010-08-11 | 財団法人神奈川科学技術アカデミー | マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 |
DE112004002254T5 (de) * | 2003-11-21 | 2007-08-16 | Ebara Corp. | Mikrofluidikvorrichtung |
JP4728573B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2011-07-20 | 古河電気工業株式会社 | マイクロ化学反応装置 |
CN102258968A (zh) * | 2004-11-16 | 2011-11-30 | 万罗赛斯公司 | 使用微通道技术的多相反应方法 |
JP5024741B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-09-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ナノ粒子の製造方法とそのマイクロリアクタ |
JP2006346671A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-12-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 液液界面反応装置 |
-
2007
- 2007-01-09 JP JP2007001120A patent/JP4970959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008168173A (ja) | 2008-07-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4970959B2 (ja) | 反応装置及び反応方法 | |
JP4515521B2 (ja) | 反応装置及び反応装置の製造方法 | |
US8192703B2 (en) | Reactor and reacting method | |
JP2006346671A (ja) | 液液界面反応装置 | |
US20210088285A1 (en) | Cross-flow heat exchanger | |
JP4419022B2 (ja) | ダイ塗工装置 | |
JP4515520B2 (ja) | 反応装置及び反応装置の製造方法 | |
KR101274810B1 (ko) | 유로 구조체, 리액터 및 리액터를 사용한 반응 방법 | |
JP2009262440A (ja) | 独立した流路を有する金属多孔体 | |
JP4660510B2 (ja) | リアクタ及びリアクタを用いた反応方法 | |
JP2007266463A (ja) | 冷却器 | |
JP5808650B2 (ja) | 流路構造体、分離方法、抽出方法及び反応方法 | |
JP5814163B2 (ja) | 冷却器 | |
JP6013208B2 (ja) | 触媒反応器 | |
JP6079410B2 (ja) | プレート式熱交換器 | |
JP5808662B2 (ja) | 流体流通装置、抽出方法及び反応方法 | |
JP6422585B2 (ja) | プレート式熱交換器 | |
JP2007017078A (ja) | マイクロチャネル熱交換器の媒体流路形成体 | |
JP6043638B2 (ja) | 床見切り、床構造 | |
JP6644367B1 (ja) | 耐震壁 | |
JP2005083676A (ja) | 熱交換器コア及び熱交換器コアの製造方法 | |
JP2022175476A (ja) | 流路装置 | |
JP2015092448A (ja) | 燃料電池及びセパレータ | |
JP4983664B2 (ja) | 冷却装置 | |
JP2017052060A (ja) | マイクロ素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120405 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4970959 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |