JP4957278B2 - 照明装置、露光装置、露光装置の調整方法、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
照明装置、露光装置、露光装置の調整方法、及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
I(y0+1)−I(y0)<0.05×ID …(1)
I(+5)−I(−5)>=(IB−ID)×0.015 …(2)
I(+5):図6(b)における左側5画素の平均強度
I(−5):図6(b)における右側5画素の平均強度
I(+5)−I(−5)>=3 …(3)
Claims (14)
- 複数の投影光学系を有する投影光学ユニットを用いて第1の面の像を第2の面に投影する露光装置に用いられ、前記第1の面を照明する照明装置であって、
複数の照明光学系を有し、前記第1の面上に複数の照明領域を形成する照明光学ユニットと、
前記第1の面に形成される前記複数の照明領域の位置を検出する照明領域位置検出ユニットと、を備え、
前記複数の照明光学系のそれぞれは、前記第1の面上での前記照明領域を規定する照明視野絞りを有し、
前記照明領域位置検出ユニットは、前記第1の面に形成される前記照明視野絞りの像の位置を検出することによって、前記第1の面に形成される前記複数の照明領域の位置を検出することを特徴とする照明装置。 - 前記複数の照明光学系が、前記第1の面内の第1の配列方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- 前記照明領域位置検出ユニットによって検出された前記照明視野絞りの像の位置に基づいて、前記照明視野絞りの位置を当該照明視野絞りの位置における前記照明光学系の光軸を横切る面内で変更する照明視野絞り位置変更ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項1又は2記載の照明装置。
- 前記照明領域位置検出ユニットが、前記第1の面上に形成される前記照明視野絞りの像を撮像する撮像装置を有することを特徴とする請求項1〜3の何れか一項記載の照明装置。
- 前記照明領域位置検出ユニットが、前記撮像装置を前記第1の面内で二次元方向に移動させる駆動機構をさらに有することを特徴とする請求項4記載の照明装置。
- 第1の面の像を第2の面に投影する露光装置であって、
請求項1〜5の何れか一項記載の照明装置と、
該照明装置によって前記第1の面上に形成される複数の前記照明領域からの光に基づいて、前記第2の面上に前記第1の面の像をそれぞれ形成する複数の投影光学系を備えた投影光学ユニットとを備え、
前記各投影光学系の倍率が1倍より大きいことを特徴とする露光装置。 - 前記複数の投影光学系が、前記第1の面又は前記第2の面内の第2の配列方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項6記載の露光装置。
- 前記投影光学ユニットによって前記第2の面上に形成される前記第1の面の像の位置を検出する投影像位置検出ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項6又は7記載の露光装置。
- 前記投影像位置検出ユニットが、前記第2の面上に形成される前記像を撮像する撮像装置を有することを特徴とする請求項8記載の露光装置。
- 前記投影光学ユニットが、当該投影光学ユニットを介して投影露光される前記第1の面の像の前記第2の面上での位置を変化させる像シフト素子を有することを特徴とする請求項6〜9の何れか一項記載の露光装置。
- 前記投影光学系の前記倍率を速度比として走査方向に相対的に、前記投影光学系に同期させて前記第1の面と前記第2の面とを移動するステージ機構をさらに備えていることを特徴とする請求項6〜10の何れか一項記載の露光装置。
- 請求項6〜11の何れか一項記載の露光装置の調整方法であって、
前記第1の面に形成される前記照明視野絞りの像の位置を検出する工程と、
検出された前記照明視野絞りの像の位置に関する情報に基づいて、前記第1の面に形成される前記照明視野絞りの像の位置を調整する工程と、
を備えていることを特徴とする調整方法。 - デバイスの製造方法であって、
パターンが形成されたマスクを準備する工程と、
感光性基板を準備する工程と、
請求項6〜11の何れか一項記載の露光装置の前記第1の面に前記マスクを配置すると共に、前記第2の面に前記感光性基板を配置して、前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に投影露光する工程と、
前記マスクのパターンの前記像が投影された前記感光性基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイスの製造方法。 - 前記感光性基板は1辺又は対角線が500mmよりも大きい矩形の平板状のプレートであることを特徴とする請求項13記載のデバイスの製造方法。
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