JP2008300821A - 露光方法、および電子デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 投影光学系を用いて基板上に明暗パターンを露光する本発明の露光方法は、基板の単位露光領域内の複数の微小領域の位置を検出する位置検出工程(S13)と、位置検出工程で得られた複数の微小領域の位置に関する情報に基づいて単位露光領域内の変形状態を算出する変形算出工程(S14)と、変形算出工程で得られた変形状態に基づいて基板に露光されるべき明暗パターンの形状を変更する形状変更工程(S15)とを含む。位置検出工程で検出する微小領域は、単位露光領域内に形成された回路パターンを含む。
【選択図】 図6
Description
前記リソグラフィー工程において、第1形態の露光方法を用いることを特徴とする電子デバイス製造方法を提供する。
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
1 照明系
2 Zステージ
3 XYステージ
5 ウェハレーザ干渉計
7 主制御系
8 ウェハステージ駆動系
10 位置検出系(複数の位置検出機構)
11 変形算出部
12 光学面形状変更部
Claims (26)
- 投影光学系を用いて基板上の各単位露光領域に明暗パターンを露光する露光方法において、
前記基板の1つの単位露光領域内に存在する複数の微小領域の、前記基板の面内方向における位置を検出する位置検出工程と、
前記位置検出工程で得られた前記複数の微小領域の位置に関する情報に基づいて、前記単位露光領域内の変形状態を算出する変形算出工程と、
前記変形算出工程で得られた前記変形状態に基づいて、前記基板に露光されるべき明暗パターンの形状を変更する形状変更工程とを備え、
前記位置検出工程で検出する前記複数の微小領域のうちの少なくとも1つは、前記1つの単位露光領域内に形成された回路パターンを含む、露光方法。 - 前記位置検出工程で検出する前記複数の微小領域のうちの少なくとも1つは、前記基板上の隣接する領域とは実質的に異なる明暗度を有する領域を含む請求項1に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程で検出する前記複数の微小領域のうちの少なくとも1つは、当該微小領域に隣接する領域との間で、前記基板上に形成された所定の材質の薄膜の有無の点において異なる請求項1または2に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程で検出する前記複数の微小領域のうちの少なくとも1つは、当該微小領域に隣接する領域との間で、回路パターン疎密度の点において実質的に異なる請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記少なくとも1つの微小領域は、前記位置検出工程で使用する位置検出系の解像度よりも小さなピッチを有する周期的パターンを含む請求項4に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程で検出する前記複数の微小領域のうちの少なくとも1つは、前記位置検出のための走査方向に直交する方向に第1の所定長以上の長さに渡って伸びる一対の辺を含み、該一対の辺は、前記走査方向に第2の所定長以上の幅を有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、前記単位露光領域にほぼ等しい範囲内に入る複数の所定位置を検出する位置検出系を用いて、前記複数の微小領域の位置を検出することを含む請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、少なくとも4つの微小領域の位置を検出する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、並列配置された複数の位置検出機構を介して前記複数の微小領域の位置を検出することを含む請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光方法。
- 各位置検出機構は、1つの検出鏡筒部と1つの検出部とを有する請求項9に記載の露光方法。
- 前記複数の位置検出機構のうちの少なくとも1つは、1つの検出鏡筒部と、該検出鏡筒部の検出範囲内に設けられた複数の検出部とを有する請求項9に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、共通の検出鏡筒部と並列配置された複数の検出部とを用いて前記位置検出を行うことを含む請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、前記共通の検出鏡筒部に対して前記基板を相対移動させつつ前記複数の微小領域の位置を検出することを含む請求項12に記載の露光方法。
- 前記位置検出工程は、前記投影光学系を介することなく前記複数の微小領域の位置を検出することを含む請求項1乃至13のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記形状変更工程は、前記明暗パターンの形状を非線形に変形することを含む請求項1乃至14のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記形状変更工程は、前記投影光学系の収差を変更する収差変更工程を含む請求項1乃至15のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記形状変更工程は、前記投影光学系中の少なくとも1つの光学面の面形状を変更することにより前記明暗パターンの形状を変更する請求項1乃至16のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記少なくとも1つの光学面は、前記投影光学系の物体面の近傍位置、前記物体面と光学的に共役な位置またはその近傍位置、あるいは前記投影光学系の像面の近傍位置に設けられた光学面である請求項17に記載の露光方法。
- 前記基板上に形成される前記明暗パターンはマスク上に描画されたパターンの像である請求項1乃至18のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記形状変更工程は、前記投影光学系の物体面に設置されるマスクのパターン面の面形状を変更するマスク面形状変更工程を含む請求項1乃至19のいずれか1項に記載の露光方法。
- 縮小倍率を有する前記投影光学系を用いて前記基板上に前記明暗パターンを露光する請求項1乃至20のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記投影光学系に対して前記基板を所定方向に沿って相対移動させつつ前記明暗パターンを前記基板へ露光する走査露光工程を更に備え、
前記形状変更工程は、前記走査露光中の前記基板の相対移動に応じて前記明暗パターンの形状を変更することを含む請求項1乃至21のいずれか1項に記載の露光方法。 - リソグラフィー工程を含む電子デバイスの製造方法であって、
前記リソグラフィー工程において、請求項1乃至22のいずれか1項に記載の露光方法を用いる電子デバイス製造方法。 - 基板上の単位露光領域内に形成されたパターンに対応するパターンデータから、前記位置検出工程で検出する前記微小領域の位置を特定する領域特定工程を含む請求項23に記載の電子デバイス製造方法。
- 前記パターンデータは、以前のリソグラフィー工程のうちの任意の1つのリソグラフィー工程で形成した回路パターンの設計データである請求項24に記載の電子デバイス製造方法。
- 前記パターンデータは、以前のリソグラフィー工程のうちの複数のリソグラフィー工程で形成した複数の回路パターンの設計データである請求項24に記載の電子デバイス製造方法。
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