JP4952430B2 - ClO3Fの除去方法 - Google Patents
ClO3Fの除去方法 Download PDFInfo
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Description
活性アルミナを充填した充填管5として、長さ40cmの25A管に活性アルミナ(住友化学製、KHO−24)を141g充填し、ヒーター6で250℃に加熱した状態で2時間ドライポンプ8により真空引きを行うことにより脱水処理を実施し、4.0質量%の質量減少を生じた。この脱水処理を施した活性アルミナを充填した充填管5に、室温、大気圧下において、ClO3F除去処理対象のガスとしてClO3Fを1410volppm含むN2の流量をマスフローコントローラ4にて50Nml/min(充填管滞留時間236秒相当)に制御し、活性アルミナを充填した充填管5に流通させ、活性アルミナを充填した充填管5通過後のガスを空容器7に捕集した。
ClO3F除去処理対象のガスとして、ClO3Fを2280volppm含むCH4を使用する以外は、実施例1と同条件で行った。実施例1と同様に活性アルミナを充填した充填管5を通過後、空容器7に捕集したガス中のClO3F濃度をFT−IR(大塚電子社製 IG−1000)で分析した。その結果、ClO3F濃度は検出下限の0.5volppm未満であり、CH4中のClO3Fを除去できることが確認できた。
ClO3F除去処理対象のガスとして、ClO3Fを2050volppm含むNF3使用する以外は、実施例1と同条件で行った。実施例1と同様に活性アルミナを充填した充填管5を通過後、空容器7に捕集したガス中のClO3F濃度をFT−IR(大塚電子社製 IG−1000)で分析した。その結果、ClO3F濃度は検出下限の0.5volppm未満であり、NF3中のClO3Fを除去できることが確認できた。
活性アルミナの脱水処理として、ヒーター6で180℃に加熱した状態で4時間のN2パージ(流量1000Nml/min)を行い、2.7質量%の質量減少を生じた以外は、実施例1と同条件で行った。実施例1と同様に活性アルミナを充填した充填管5を通過後、空容器7に捕集したガス中のClO3F濃度をFT−IR(大塚電子社製 IG−1000)で分析した。その結果、ClO3F濃度は検出下限の0.5volppm未満であり、N2パージによる活性アルミナの脱水処理においてもClO3Fを除去できることが確認できた。
活性アルミナの脱水処理を行わない以外は、実施例1と同条件で行った。実施例1と同様に活性アルミナを充填した充填管5を通過後、空容器7に捕集したガス中のClO3F濃度をFT−IR(大塚電子社製 IG−1000)で分析した。その結果、ClO3F濃度は130volppmであり、ClO3Fを除去できることが確認できた。
活性アルミナの代わりにモレキュラーシーブス4A(和光純薬製)を用いる以外は実施例1と同条件で行った。実施例1と同様に脱水処理を施したモレキュラーシーブス4Aを充填した充填管5を通過後、空容器7に捕集したガス中のClO3F濃度をFT−IR(大塚電子社製 IG−1000)で分析した。その結果、ClO3F濃度は充填管通過前と変化無く、モレキュラーシーブス4AではClO3Fを除去できないことが確認できた。
2:N2ボンベ
3:減圧弁
4:マスフローコントローラ
5:充填管
6:ヒーター
7:空容器
8:ドライポンプ
9〜15:開閉弁
Claims (2)
- ClO3Fを不純物として含むガスに活性アルミナを反応させることを特徴とするClO3Fの除去方法。
- 前記活性アルミナとして、予め脱水処理前の質量を基準とし0.5〜15質量%の質量減少を起こすまで脱水処理を施した活性アルミナを使用することを特徴とする請求項1に記載のClO3Fの除去方法。
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