JP4941072B2

JP4941072B2 - Gas barrier laminate

Info

Publication number: JP4941072B2
Application number: JP2007115219A
Authority: JP
Inventors: 野枝佐々木; 学辻野
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2007-04-25
Filing date: 2007-04-25
Publication date: 2012-05-30
Anticipated expiration: 2027-04-25
Also published as: JP2008265255A

Description

本発明は、食品、医薬品、精密電子部品などの包装分野に用いられるガスバリア性積層体に関するものである。 The present invention relates to a gas barrier laminate used in the packaging field of foods, pharmaceuticals, precision electronic parts and the like.

食品、医薬品、精密電子部品などの包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を防ぎ、かつ内容物の機能や性質を保持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これらを遮断するガスバリア機能を備えている事が求められている。従来より、酸素、水蒸気などの遮断性に優れたアルミニウムなどの金属箔をガスバリア層として用いた包装材料が一般的に用いられてきた。アルミニウム等の金属箔を用いた包装材料は、温度・湿度の影響がほとんどなく、ガスバリア性に非常に優れるという利点がある。
しかし、アルミニウムなどの金属箔を用いた包装材料は、使用後に廃棄する際に不燃物として処理しなくてはならない、検査時に金属探知機に検知されてしまう、電子レンジ用材料として使用できない、などの課題を有している。 Packaging materials used for the packaging of food, pharmaceuticals, precision electronic components, etc. must contain oxygen, water vapor, and other contents that permeate the packaging material in order to prevent alteration of the contents and to maintain the functions and properties of the contents. It is necessary to prevent the influence of the gas to be altered, and it is required to have a gas barrier function for blocking these. Conventionally, a packaging material using a metal foil such as aluminum having excellent barrier properties against oxygen, water vapor and the like as a gas barrier layer has been generally used. A packaging material using a metal foil such as aluminum has the advantage that it has almost no influence of temperature and humidity and is very excellent in gas barrier properties.
However, packaging materials using metal foil such as aluminum must be treated as non-combustible materials when discarded after use, detected by metal detectors during inspection, cannot be used as materials for microwave ovens, etc. Have the following issues.

そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、例えば、特許文献１、２等に記載されているような高分子フィルム上に、真空蒸着法やスパッタリング法等の形成手段によりアルミニウムなどの金属や、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機化合物の薄膜を形成したフィルムが開発されている。これらの蒸着フィルムは、前記の課題を克服し、かつ酸素、水蒸気等のガス遮断性を有している。さらに酸化珪素や酸化アルミニウムなどの無機化合物により形成された薄膜は透明性を有しており、ガスバリア性に加えて金属箔等では得ることのできない、包装材料として優れた機能を有している。 Therefore, as a packaging material that has overcome these drawbacks, for example, on a polymer film as described in Patent Documents 1 and 2, etc., a metal such as aluminum by a forming means such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, A film in which a thin film of an inorganic compound such as silicon oxide or aluminum oxide is formed has been developed. These vapor-deposited films overcome the above-mentioned problems and have gas barrier properties such as oxygen and water vapor. Furthermore, a thin film formed of an inorganic compound such as silicon oxide or aluminum oxide has transparency, and has an excellent function as a packaging material that cannot be obtained with a metal foil or the like in addition to gas barrier properties.

これらの蒸着層を有するガスバリア性積層体は、包装材料として使用される際に、フィルムとして成形され、パウチ袋に加工されるなどして広く使用されている。パウチ袋に加工するためには、フィルムはシール性を有していることが望ましく、多くの場合、ガスバリア材は低温溶融性に優れたヒートシール可能な他材料が積層されている。
また、加工工程や、製袋された後の輸送工程などを考慮すると、ガスバリア性積層体は種々の物理的ストレスに対して耐性があることが望ましい。比較的脆い傾向にある無機化合物層に、耐屈曲性に優れた有機化合物層を保護層として積層することにより、ガスバリア膜のストレス耐性が向上し、バリア性の維持に効果的であることが報告されている。例えば、特許文献３においてはアクリル樹脂がバリア層の保護膜として有効であると報告されている。 When used as a packaging material, the gas barrier laminate having these vapor-deposited layers is widely used by being formed as a film and processed into a pouch bag. In order to process into a pouch bag, it is desirable that the film has a sealing property. In many cases, the gas barrier material is laminated with other heat-sealable materials having excellent low-temperature melting properties.
In consideration of a processing step, a transportation step after bag making, and the like, the gas barrier laminate is desirably resistant to various physical stresses. It has been reported that by laminating an organic compound layer with excellent bending resistance as a protective layer on an inorganic compound layer that tends to be relatively brittle, the stress resistance of the gas barrier film is improved and effective in maintaining the barrier property. Has been. For example, Patent Document 3 reports that an acrylic resin is effective as a protective film for the barrier layer.

しかし、無機化合物による層と有機化合物による層を積層する場合、積層された有機化合物が硬化する際に収縮して、収縮の度合いによっては２層の間にひずみが生じ、剥離やクラックが発生するという問題がある。特許文献４に示されるように、異なる２種の材料が異なる収縮率を有するために硬化過程においてひずみが生じ、剥離する例が報告されている。
米国特許第３４４２６８６号明細書特公昭６３−２８０１７号公報特開２００７−３０１８４号公報特開２００５−１２６２５５号公報 However, when a layer made of an inorganic compound and a layer made of an organic compound are laminated, the laminated organic compound shrinks when cured, and depending on the degree of shrinkage, distortion occurs between the two layers, resulting in peeling or cracking. There is a problem. As shown in Patent Document 4, since two different kinds of materials have different shrinkage ratios, an example in which distortion occurs in the curing process and peeling occurs has been reported.
U.S. Pat. No. 3,442,686 Japanese Patent Publication No.63-28017 JP 2007-30184 A JP 2005-126255 A

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、高分子フィルム上に金属または無機化合物からなるバリア層と有機化合物からなる有機層とを積層してなるガスバリア性積層体において、バリア層および有機層間のひずみやゆがみを抑え、層間剥離やクラックの発生を抑制するとともに、バリア性および密着性に優れたガスバリア性積層体を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems. In the gas barrier laminate obtained by laminating a barrier layer made of a metal or an inorganic compound and an organic layer made of an organic compound on a polymer film, An object of the present invention is to provide a gas barrier laminate that suppresses strain and distortion between layers and organic layers, suppresses delamination and cracks, and has excellent barrier properties and adhesion.

請求項１に記載の発明は、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも一方の面に、酸化アルミニウムからなるバリア層と２−アクリロイルオキシエチル−コハク酸の硬化物からなる有機層とを順次積層してなり、
前記バリア層が真空蒸着法を用いて成膜されてなり、
前記硬化物の硬化収縮率が５．１％であり、かつ、ガラス転移点が−４０℃であることを特徴とするガスバリア性積層体である。 According to the first aspect of the present invention, a barrier layer made of aluminum oxide and an organic layer made of a cured product of 2-acryloyloxyethyl-succinic acid are sequentially laminated on at least one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film. Become
The barrier layer is formed using a vacuum deposition method,
The curing shrinkage of the cured product is 5.1% and a gas barrier laminate having a glass transition point is characterized by a -40 ° C..

本発明のガスバリア性積層体は、バリア層および有機層間のひずみやゆがみが抑えられ、層間剥離やクラックの発生が抑制されている。その結果、加工工程中にバリア性が劣化するのを防ぎ、かつ後工程において外部からの衝撃が加わっても良好にバリア性を維持したガスバリア性積層体を提供することができる。 In the gas barrier laminate of the present invention, strain and distortion between the barrier layer and the organic layer are suppressed, and delamination and cracks are suppressed. As a result, it is possible to provide a gas barrier laminate that prevents the barrier property from being deteriorated during the processing step, and that maintains the barrier property well even when an external impact is applied in the subsequent step.

以下に、本発明の１実施例としての最良の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本発明のガスバリア性積層体を説明する断面図である。高分子フィルム１の少なくとも一方の面に、金属または無機化合物からなるバリア層２、有機化合物からなる有機層３が積層されている構造である。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a gas barrier laminate of the present invention. In this structure, a barrier layer 2 made of a metal or an inorganic compound and an organic layer 3 made of an organic compound are laminated on at least one surface of the polymer film 1.

高分子フィルム１としては、包装材料として用いられているポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポリエステル類、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロンー１２などのポリアミド類、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、セルロース、ポリビニルアルコール、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリウレタン、トリアセチルセルロース、およびこれらの共重合体などが利用できる。中でも、透明性が高いという観点から、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、セルロース、ポリビニルアルコール、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルまたはこれらの共重合体が好ましく、加工性、コスト面からポリエチレンテレフタレートが良好に利用できる。高分子フィルムの厚さは、例えば５μｍ〜２００μｍである。 Examples of the polymer film 1 include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and polybutylene naphthalate used as packaging materials, polyamides such as nylon 6, nylon 6,6, and nylon-12, and polyimide. Polyethersulfone, cellulose, polyvinyl alcohol, polylactic acid, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polyurethane, triacetylcellulose, and copolymers thereof can be used. Among these, from the viewpoint of high transparency, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, cellulose, polyvinyl alcohol, polylactic acid, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride or a copolymer thereof is preferable, from the viewpoint of workability and cost. Polyethylene terephthalate can be used well. The thickness of the polymer film is, for example, 5 μm to 200 μm.

バリア層２上に積層する有機層３としては、アクリル系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ケトン樹脂、ビニル樹脂、炭化水素樹脂のうち１つ以上が利用できる。特に、アクリル系樹脂は他の高分子材料に比べてガラス転移点が比較的低く、かつ粘着性にすぐれるという利点があり、バリア層２へ積層する材料として優れている。また、表面保護膜として広く使用されており、バリア層２の保護層としての機能もある。アクリル樹脂とその他の樹脂を混合して用いることも可能である。アクリル樹脂はドライコーティング及びウェットコーティング、いずれの手法でも成膜が可能であり、必要に応じてバリア層２と有機層３をインライン、またはオフラインで積層することができる。特に、インライン成膜の利点として、バリア層２が大気下に開放されることなく、有機層３が積層されるため、ロールなどによるバリア層２の機械的ダメージを防ぎ、かつバリア層２へのゴミ付着を防ぎ、バリア性の劣化を防ぐことができる。アクリル系樹脂のドライコーティング、すなわち真空下での成膜においては、アクリル化合物を加熱基板上に噴霧することで瞬時に気化させ、次いで基板上に凝集、固化させ、続いて活性エネルギー線により硬化させる方法が報告されている（特開２００７−３０１８４号公報）。活性エネルギー線については、材料によって適宜選択するのがよく、熱、ＵＶ（紫外線）照射、ＥＢ（電子線）照射がよく利用されている。エポキシ樹脂は、硬化収縮率が他の樹脂に比べて低いという利点があり、バリア層とのひずみを最小限に抑え、剥離を抑制することができる。ウレタン樹脂も保護膜としての利用が報告されており、かつ接着機能を有しているため、シーラント層の積層などが可能となる。 As the organic layer 3 laminated on the barrier layer 2, one or more of acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, melamine resin, phenol resin, polyamide, ketone resin, vinyl resin, and hydrocarbon resin are used. it can. In particular, the acrylic resin has an advantage that it has a relatively low glass transition point and excellent adhesiveness compared to other polymer materials, and is excellent as a material laminated on the barrier layer 2. Further, it is widely used as a surface protective film and also has a function as a protective layer of the barrier layer 2. It is also possible to use a mixture of acrylic resin and other resins. The acrylic resin can be formed by either dry coating or wet coating, and the barrier layer 2 and the organic layer 3 can be laminated in-line or off-line as necessary. In particular, as an advantage of in-line film formation, since the organic layer 3 is laminated without the barrier layer 2 being opened to the atmosphere, mechanical damage of the barrier layer 2 due to a roll or the like is prevented, and the barrier layer 2 is not damaged. It prevents dust from adhering and prevents deterioration of barrier properties. In dry coating of acrylic resin, that is, film formation under vacuum, the acrylic compound is vaporized instantaneously by spraying onto a heated substrate, then agglomerated and solidified on the substrate, followed by curing with active energy rays. A method has been reported (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-30184). The active energy rays are appropriately selected depending on the material, and heat, UV (ultraviolet) irradiation, and EB (electron beam) irradiation are often used. The epoxy resin has an advantage that the curing shrinkage rate is lower than that of other resins, and the strain with the barrier layer can be minimized and peeling can be suppressed. Urethane resin has also been reported to be used as a protective film and has an adhesive function, so that a sealant layer can be laminated.

該有機化合物は硬化収縮率が１０％以下であり、かつガラス転移点が２０℃以下の範囲にあるものが好適に利用できる。硬化収縮率が１０％よりも大きいと、硬化時の収縮によりバリア層２からはがれたり、また過剰な応力がかかったりしてバリア層２に微小なクラックが発生する可能性がある。硬化収縮率（体積収縮率）はＪＩＳＫ６９０１に基づいて測定される。 As the organic compound, those having a cure shrinkage of 10% or less and a glass transition point of 20 ° C. or less can be suitably used. If the curing shrinkage rate is larger than 10%, the barrier layer 2 may be peeled off due to shrinkage during curing, or excessive stress may be applied to cause micro cracks in the barrier layer 2. Curing shrinkage (volume shrinkage) is measured based on JIS K 6901.

該有機化合物のガラス転移点は２０℃以下のものが好適に利用できる。２０℃よりも高いと、有機高分子層は通常環境下、つまり常温において膜が柔軟性を失い、バリア層の保護効果が低下する。より柔軟な膜を得るために、ガラス転移点はより低いものが好ましい。有機化合物のガラス転移点を下げるために、ガラス転移点の高い材料に低い材料を混合したり、低分子量化合物を添加したりすることも有効である。有機層３の厚さは、例えば０．１μｍ〜１０μｍである。 The organic compound having a glass transition point of 20 ° C. or lower can be suitably used. When the temperature is higher than 20 ° C., the organic polymer layer loses its flexibility in a normal environment, that is, at room temperature, and the protective effect of the barrier layer is lowered. In order to obtain a more flexible film, one having a lower glass transition point is preferable. In order to lower the glass transition point of an organic compound, it is also effective to mix a low material with a material having a high glass transition point or to add a low molecular weight compound. The thickness of the organic layer 3 is, for example, 0.1 μm to 10 μm.

金属からなるバリア層２としては、アルミニウム、錫、チタン、あるいはこれらの混合物などから構成される層が挙げられる。アルミニウム、錫、チタン、あるいはこれらの混合物を使用すれば、比較的低温での成膜可能となり、高分子フィルム１に高温負荷をかけることがない。またバリア性も良好である。無機化合物からなるバリア層２としては、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化チタン、などが可能であるが、これらに限られるものではない。透明性やバリア性の点で、酸化アルミニウムと酸化珪素が良好に利用できる。バリア層２の厚さは、例えば１〜５０ｎｍである。 Examples of the barrier layer 2 made of metal include a layer made of aluminum, tin, titanium, or a mixture thereof. If aluminum, tin, titanium, or a mixture thereof is used, the film can be formed at a relatively low temperature, and the polymer film 1 is not subjected to a high temperature load. Also, the barrier property is good. As the barrier layer 2 made of an inorganic compound, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, indium oxide, tungsten oxide, zinc oxide, titanium oxide, and the like can be used, but are not limited thereto. Aluminum oxide and silicon oxide can be used satisfactorily in terms of transparency and barrier properties. The thickness of the barrier layer 2 is, for example, 1 to 50 nm.

金属または無機化合物を蒸着する方法としては、物理的手法により薄膜を堆積する物理気相堆積法または化学反応を用いた化学気相堆積法が広く用いられている。物理気相堆積法では熱的気化を用いた真空蒸着法やスパッタ現象を用いたスパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が利用可能であり、化学気相堆積法ではプラズマにより蒸着材料をラジカル化して反応を促進する方法が用いられている。
薄膜形成速度などの生産効率や、コンタミネーションを防いで平滑な膜が得られることを考慮すると、熱的気化を用いた真空蒸着法が最も優れており、広く使用されている。加熱手段としては電子線加熱方式、抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いる事が好ましい。電子線加熱方式は、他の加熱方式と比較して供給できるエネルギーが高いため、蒸着材料の選択肢を広げる事ができる。またバリア層２と高分子フィルム１の密着性及びバリア層２の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法が用いられる。 As a method for evaporating a metal or an inorganic compound, a physical vapor deposition method in which a thin film is deposited by a physical method or a chemical vapor deposition method using a chemical reaction is widely used. In physical vapor deposition, vacuum evaporation using thermal vaporization, sputtering using sputtering, ion plating, and laser ablation can be used. In chemical vapor deposition, vapor deposition material is radicalized by plasma. In order to accelerate the reaction, a method has been used.
In consideration of production efficiency such as thin film formation speed and that a smooth film can be obtained by preventing contamination, the vacuum vapor deposition method using thermal vaporization is the most excellent and widely used. As the heating means, any one of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method is preferably used. Since the electron beam heating method has higher energy that can be supplied than other heating methods, the choice of vapor deposition material can be expanded. In order to improve the adhesion between the barrier layer 2 and the polymer film 1 and the denseness of the barrier layer 2, a plasma assist method or an ion beam assist method is used.

有機層３を形成する方法としては、ウェットコーティング法がよく用いられる。該方法は溶媒に溶解または分散できれば任意の有機化合物を塗工することができ、一度に大面積に塗工することができるため経済的である。一方、前記のように、真空下で蒸着法を用いて形成する方法が近年提案されており、該方法では金属または無機化合物からなるバリア層２を真空下で形成後、インラインにて即座に有機層３を形成することができ、ゴミなどの付着を防止するとともに、巻取りなどによるバリア層２へのダメージを軽減することができる。 As a method of forming the organic layer 3, a wet coating method is often used. This method is economical because any organic compound can be applied as long as it can be dissolved or dispersed in a solvent and can be applied to a large area at one time. On the other hand, as described above, a method of forming using a vapor deposition method under vacuum has been recently proposed. In this method, after forming a barrier layer 2 made of a metal or an inorganic compound under vacuum, an organic layer is immediately formed in-line. The layer 3 can be formed, and dust and the like can be prevented from being attached, and damage to the barrier layer 2 due to winding or the like can be reduced.

以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。なお、下記実施例１，２，３，４，５，７は参考例である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example further demonstrate this invention, this invention is not restrict | limited to the following example. The following Examples 1, 2, 3, 4, 5, and 7 are reference examples.

実施例１
厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させて、酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを成膜した。次いで、有機化合物としてビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジアクリレートと開始剤からなる組み合わせの塗料をウェットコーティング法により酸化アルミニウム上に塗工後、高圧水銀ランプを光源として５００ｍＪ／ｃｍ^２にて硬化してガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は６．１％であり、ガラス転移点は２０℃であった。硬化収縮率（体積収縮率）はＪＩＳＫ６９０１に基づき、ガラス転移点は示差走査熱量測定計（パーキンエルマー製）を用いて測定した。各々の測定は該有機化合物を別途，硬化して実施した。 Example 1
A 12-μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film was evaporated with an electron beam heating-type vacuum vapor deposition apparatus, and oxygen gas was introduced to form a 15 nm thick aluminum oxide film. Next, a paint consisting of a combination of an ethylene oxide adduct diacrylate of bisphenol A and an initiator as an organic compound is applied onto aluminum oxide by a wet coating method, and then cured at 500 mJ / cm ² using a high-pressure mercury lamp as a light source. A gas barrier laminate was obtained. The cure shrinkage of the organic compound was 6.1%, and the glass transition point was 20 ° C. The cure shrinkage (volume shrinkage) was based on JIS K 6901, and the glass transition point was measured using a differential scanning calorimeter (manufactured by Perkin Elmer). Each measurement was performed by separately curing the organic compound.

実施例２
有機化合物が２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレートとプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレートとエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの混合物である以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は７．１％、ガラス転移点は０℃であった。 Example 2
A gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic compound was a mixture of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, propoxylated neopentyl glycol diacrylate, and ethoxylated trimethylolpropane triacrylate. The organic compound had a cure shrinkage of 7.1% and a glass transition point of 0 ° C.

実施例３
該有機化合物を真空下でフラッシュ蒸着後、高圧水銀ランプを光源として５００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量にて硬化した以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は６．１％、ガラス転移点は２０℃であった。 Example 3
A gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic compound was flash-deposited under vacuum and then cured at a dose of 500 mJ / cm ^{2 using} a high-pressure mercury lamp as a light source. The organic compound had a cure shrinkage of 6.1% and a glass transition point of 20 ° C.

実施例４
硬化方法が電子線照射である以外は実施例３と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は７．１％、ガラス転移点は０℃であった。 Example 4
A gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the curing method was electron beam irradiation. The organic compound had a cure shrinkage of 7.1% and a glass transition point of 0 ° C.

実施例５
有機化合物が２−アクリロイルオキシエチルーコハク酸とポリエチレングリコール２００ジアクリレートとの混合物である以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は６．８％、ガラス転移点は−５℃であった。 Example 5
Other than the organic compound is a mixture of 2-acryloyl Luo carboxyethyl over succinate with polyethylene glycol 200 diacrylate in the same manner as in Example 1 to obtain a gas barrier laminate. The curing shrinkage of the organic compound was 6.8%, and the glass transition point was −5 ° C.

実施例６
有機化合物が２−アクリロイルオキシエチルーコハク酸単体である以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は５．１％、ガラス転移点は−４０℃であった。
Example 6
Other than the organic compound is 2-acryloyl Luo carboxyethyl over succinate alone in the same manner as in Example 1 to obtain a gas barrier laminate. The curing shrinkage of the organic compound was 5.1%, and the glass transition point was −40 ° C.

実施例７
厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）フィルムに、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、酸化珪素を蒸発させて、厚さ２０ｎｍの酸化珪素を成膜した。次いで、実施例１と同様にしてガスバリア積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は６．１％であり、ガラス転移点は２０℃であった。 Example 7
Silicon oxide was evaporated on a 12 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET) film by a vacuum vapor deposition apparatus using an electron beam heating method to form a silicon oxide film having a thickness of 20 nm. Next, a gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 1. The cure shrinkage of the organic compound was 6.1%, and the glass transition point was 20 ° C.

比較例１
有機化合物がペンタエリスリトールトリアクリレートである以外は実施例１と同様にガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は１５．３％であり、ガラス転移点は１１０℃であった。 Comparative Example 1
A gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic compound was pentaerythritol triacrylate. The cure shrinkage of the organic compound was 15.3%, and the glass transition point was 110 ° C.

比較例２
有機化合物がポリエチレングリコール２００ジアクリレートである以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。該有機化合物の硬化収縮率は８．１％、ガラス転移点は４５℃であった。 Comparative Example 2
A gas barrier laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic compound was polyethylene glycol 200 diacrylate. The organic compound had a cure shrinkage of 8.1% and a glass transition point of 45 ° C.

試験１
得られた実施例及び比較例のガスバリア性積層体の有機層３の上に、ウレタン系接着剤を用いて厚さ２５μｍの低密度ポリエチレンを積層した。次いで、往復２０回のゲルボフレックステスト（ＡＳＴＭＦ３９２−７４）を実施し、試験前後の酸素透過度をモダンコントロール社製ＯＸＴＲＡＮ２／２００を用いて３０℃―７０％ＲＨの条件下で測定した。また、同時に目視により外観を確認した。
結果を表１に示す。 Test 1
Low-density polyethylene having a thickness of 25 μm was laminated on the organic layer 3 of the obtained gas barrier laminates of Examples and Comparative Examples using a urethane-based adhesive. Subsequently, 20 round-trip gelbo flex tests (ASTM F392-74) were carried out, and the oxygen permeability before and after the test was measured under the condition of 30 ° C.-70% RH using OXTRAN 2/200 manufactured by Modern Control. At the same time, the appearance was visually confirmed.
The results are shown in Table 1.

本発明のガスバリア性積層体は、食品容器、医薬品容器、電子部品など、ガスバリア性を必要とする包装材料に応用可能である。 The gas barrier laminate of the present invention can be applied to packaging materials that require gas barrier properties, such as food containers, pharmaceutical containers, and electronic parts.

本発明におけるガスバリア性積層体の一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the gas-barrier laminated body in this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１：高分子フィルム
２：バリア層
３：有機層 1: Polymer film 2: Barrier layer 3: Organic layer

Claims

２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも一方の面に、酸化アルミニウムからなるバリア層と２−アクリロイルオキシエチル−コハク酸の硬化物からなる有機層とを順次積層してなり、
前記バリア層が真空蒸着法を用いて成膜されてなり、
前記硬化物の硬化収縮率が５．１％であり、かつ、ガラス転移点が−４０℃であることを特徴とするガスバリア性積層体。 On at least one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a barrier layer made of aluminum oxide and an organic layer made of a cured product of 2-acryloyloxyethyl-succinic acid are sequentially laminated,
The barrier layer is formed using a vacuum deposition method,
The gas barrier laminate, wherein the cured product has a curing shrinkage of 5.1% and a glass transition point of -40 ° C.