JP4921948B2 - 薄膜パターンの製造装置及び方法 - Google Patents

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Description

本発明は、レジストプリンティング方式による薄膜パターン形成の信頼性が向上できる薄膜パターンの製造装置及び方法に関する。
最近、陰極線管(ＣＲＴ)の短所とされている重量及び体積を減らすことができる各種の平板表示装置が浮上している。このような平板表示装置としては、液晶表示装置(ＬＣＤ)、電界放出表示装置(ＦＥＤ)、プラズマディスプレイパネル(ＰＤＰ)及び有機電界発光(ＥＬ)表示装置などがある。
このうち、液晶表示装置は、電界を用いて、液晶の光透過率を調節することで画像を表示している。このために、液晶表示装置は、液晶セルがマトリックス状に配列された液晶パネルと、液晶パネルを駆動するための駆動回路と、を備える。
液晶パネルは、相互対向する薄膜トランジスターアレイ基板及びカラーフィルターアレイ基板と、二つの基板の間に、セルギャップを一定に維持するために位置するスペーサと、そのセルギャップに注入された液晶と、を備える。
薄膜トランジスターアレイ基板は、ゲートライン及びデータラインと、そのゲートラインとデータラインの交差部ごとにスィッチ素子で形成された薄膜トランジスターと、液晶セル単位で形成され、薄膜トランジスターに接続された画素電極などと、これらの上に塗布された配向膜と、から構成される。ゲートラインとデータラインは、それぞれのパッド部を介して駆動回路から信号を供給される。薄膜トランジスターは、ゲートラインに供給されるスキャン信号に応じて、データラインに供給される画素信号を画素電極に供給する。
カラーフィルターアレイ基板は、液晶0セル単位で形成されたカラーフィルターと、カラーフィルター間の仕分け及び外部光反射のためのブラックマトリックスと、液晶セルに共通的に基準電圧を供給する共通電極などと、これらの上に塗布される配向膜と、から構成される。
液晶パネルは、薄膜トランジスターアレイ基板とカラーフィルターアレイ基板とを別途に製作して貼り合わせた後、液晶を注入し封入することで完成する。
このような従来の液晶表示パネル内の薄膜パターンは、フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程によって形成される。
ところが、フォトリソグラフィ工程は、露光工程、現像工程、洗浄工程、検査工程などの多数の工程が必要となり、液晶表示パネルの製造コストを上げる原因となっている。これによって、最近では、フォトリソグラフィ工程の代わりに、リバースレジストプリンティング(Reverse Resist Printing)方式により薄膜をパターニングする方法が用いられている。
図１は、リバースレジストプリンティング装置を示す図である。
まず、図１に示されているリバースレジストプリンティング装置は、ポリジメチルシロキサン(ＰＤＭＳ)からなるブランケット１５が巻回されたロール状の印刷ローラ装置１０と、エッチングレジスト溶液が噴射されるエッチングレジスト溶液噴射装置１２と、形成しようとする薄膜パターンと同様の形状の溝２０ａと、溝２０ａを除いた突出部２０ｂを有する凹版印刷版２０を備える。
図２ａないし図２ｅは、図１のリバースレジストプリンティング装置を用いた薄膜パターンの形成を説明するための図である。特に、図２ａないし２ｄは、リバースレジストプリンティング方法を用いて、液晶表示パネルのゲートパターンを形成する工程を示している。
まず、図２ａに示されているように、エッチングレジスト溶液噴射装置１２からのエッチングレジスト溶液１４ａが、印刷ローラ装置１０に巻回されているブランケット１５に噴射される。ここで、印刷ローラ装置１０が回転することにより、エッチングレジスト溶液１４ａが、ブランケット１５にむらなくコーティングされる。
続いて、図２ｂに示されているように、印刷版２０にエッチングレジスト溶液１４ａのコーティングされた印刷ローラ装置１０を回転させ、且つ接触させるによって、印刷ローラ装置１０における突出部２０ｂにのみエッチングレジスト溶液１４ａが転写される。これによって、図２ｃに示されているように、印刷ローラ装置１０には、所望の薄膜パターン形状を有するエッチングレジスト溶液１４ｂが残留するようになる。
続いて、図２ｄに示されているように、印刷ローラ装置１０に転写されたエッチングレジスト溶液１４ｂを、所定の金属層３２ａ、例えば、ゲート金属層が形成されている基板３０の上にさらに転写させた後、硬化工程を行う。これによって、図２ｅに示されているように、金属層３２ａをパターニングするためのエッチングレジストパターン１４ｃを形成することができる。以後、エッチングレジストパターン１４ｃと重なり合わない金属層３２ａがパターニングされることで、基板３０上に、所望の薄膜パターンを形成することができる。ここで、液晶表示パネルのゲートライン及びゲート電極等のゲートパターンを形成しようとする場合、金属層３２ａとしては、クロム(Ｃｒ)、アルミニウムネオジム(ＡｌＮｄ)などを用いることができる。
このようなリバースレジストプリンティング装置に用いられるエッチングレジスト溶液１４ａは、ノボラックなどのベースポリマー、キャリアソルベント、プリンティングソルベント、界面活性剤などからなる。
ここで、キャリアソルベントは、エッチングレジスト溶液噴射装置１２から噴射されたエッチングレジスト溶液１４ａの粘度を下げ、エッチングレジスト溶液１４ａがブランケット１５の上にむらなくコーティングされるようにする溶媒である。
プリンティングソルベントは、ブランケット１５の上にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａの粘り性、または粘着性のために用いられる。
界面活性剤は、界面にくっつき、界面の表面張力を大きく低下する働きがある物質であって、エッチングレジスト溶液１４ａの表面張力を下げる役割を果たす。ここで、シリコーン系界面活性剤を用いると、コーティング性は良好であるが、シリコーン系物質によりブランケットが汚されるため、フルオリネート系界面活性剤が用いられている。ところが、フルオリネート系界面活性剤は、エッチングレジスト溶液１４ａの表面エネルギーを低下させ、エッチングレジスト溶液１４ａとブランケット１５との接着力と、エッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力が類似になってしまう。その結果、エッチングレジスト溶液１４ａをブランケット１５から印刷版２０に転写させる特性が劣化し、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性が低下する。
従って、本発明の目的は、エッチングレジスト溶液の転写特性を向上させ、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性を向上させることができる薄膜パターンの製造装置及び方法を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明による薄膜パターンの製造装置は、ブランケットが巻回されたロール状の印刷ローラ装置と、前記印刷ローラ装置の周辺に位置し、前記ブランケットにエッチングレジスト溶液を噴射する噴射装置と、所望の薄膜状の溝と、前記溝を除いた突出部が形成された凹版印刷版とを備え、前記エッチングレジスト溶液は、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー(Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅ ｐｏｌｙｍｅｒ)系物質を含む界面活性剤と、を含む。
前記エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質としては、ＣＦ３(ＣＦ２)４(ＣＨ２ＣＨ２ Ｏ）１０又はＣＦ３(ＣＦ２)５(ＣＨ２ＣＨ２ Ｏ）１４のいずれか一つであることを特徴とする。
前記エッチングレジスト溶液は、４〜２０％程度のベースポリマーと、４０〜６０％程度のキャリアソルベントと、２０〜４０％程度のプリンティングソルベント及び０．０５〜１％程度の前記界面活性剤と、を含む。
前記界面活性剤は、ハイドロカーボン及びフルオリネート基の分子構造を含み、前記ハイドロカーボン系及びフルオリネート基の分子は、前記エッチングレジスト溶液内でランダムに分布することを特徴とする。
前記ハイドロカーボン系分子は、エチレンオキサイド(Ｃ2Ｈ4Ｏ)及びアミン(ＣＨ２Ｎ)の少なくともいずれか一つであることを特徴とする。
前記エッチングレジスト溶液と印刷版との接着力は、前記エッチングレジスト溶液とブランケットとの接着力より強いことを特徴とする。
前記ベースポリマーは、ノボラック、ＰＭＭＡ(ポリメチルメタクリレート)の何れか一つであることを特徴とする。
前記キャリアソルベントは、アルコール系であることを特徴とする。
前記プリンティングソルベントは、ＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリドン)、エチルベンゾエイト、トリイソプロピルベンゼンの少なくとも何れか一つであることを特徴とする。
本発明による薄膜パターンの製造方法は、ブランケットが巻回されたロール状の印刷ローラ装置を設ける段階と、前記ブランケットに、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質からなる界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液をコーティングする段階と、溝と、前記溝を除いた突出部が形成された凹版印刷版を設ける段階と、前記印刷版の突出部の上のみに前記エッチングレジスト溶液を転写させ、前記溝と対応する領域へのエッチングレジスト溶液は、前記印刷ローラ装置に残留させる段階と、を含む。
前記印刷版の突出部の上に、前記エッチングレジスト溶液を転写させる段階は、前記エッチングレジスト溶液がコーティングされた印刷ローラ装置を回転さ、且つ前記エッチングレジスト溶液を前記突出部の表面に接触させる段階をさらに含むことを特徴とする。
薄膜層が形成された基板を設ける段階と、前記印刷ローラ装置に残留するエッチングレジスト溶液を前記薄膜層の上に転写させ、前記印刷版の溝と同様の形状のエッチングレジスト溶液を前記薄膜層の上に形成する段階と、をさらに含むことを特徴とする。
本発明による薄膜パターンの製造装置及びこれを用いた薄膜パターンの製造方法は、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系の界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液が用いられる。このような界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液は、ブランケットとの接着力より印刷版との接着力がもっと強いため、エッチングレジスト溶液をブランケットから印刷版へ容易に転写させることができる。その結果、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性を向上させることができる。
(実施例)
以下、図３ないし図５を参照し、本発明の望ましい実施例について説明する。
本発明の実施例による薄膜パターンの製造装置及び方法には、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系の界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液が用いられる。このような界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液は、ブランケットとの接着力より印刷版との接着力がもっと強いため、エッチングレジスト溶液をブランケットから印刷版へ容易に転写させることができる。その結果、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性を向上させることができる。以下、図２ａないし図２ｄを参照し、従来のレジストプリンティング方式による薄膜パターンの製造方法と結びつき、本発明の技術的特徴であるエッチングレジスト溶液について詳しく説明する。
まず、図２ａに示されているように、エッチングレジスト溶液噴射装置１２からのエッチングレジスト溶液１４ａが、印刷ローラ装置１０に巻回されているブランケット１５に噴射される。ここで、印刷ローラ装置１０が回転することによって、エッチングレジスト溶液１４ａがブランケット１５にむらなくコーティングされる。これによって、印刷ローラ装置１０のブランケット１５の上に、エッチングレジスト溶液１４ａがコーティングされる。
エッチングレジスト溶液の組成は、表１の通りである。
Figure 0004921948
 ここで、ベースポリマーとしては、ノボラック、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などが用いられる。
キャリアソルベントは、エッチングレジスト溶液噴射装置１２から噴射されたエッチングレジスト溶液１４ａの粘度を下げ、エッチングレジスト溶液１４ａが、ブランケットの上にむらなくコーティングされるようにするための溶媒である。このようなキャリアソルベントとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルベンゼンなどのアルコール類が用いられ、沸騰点が１００℃未満である。
プリンティングソルベントは、ブランケットの上にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａの粘り性または粘着性のために用いられる。このような、プリンティングソルベントは、ベースポリマーを良く溶解させる溶媒として、ＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリドン)、エチルベンゾエイト、トリ−イソプロピルベンゼンなどが用いられ、沸騰点が２００℃以上である。
界面活性剤は、界面にくっつき、界面の表面張力を大きく低下する働きがある物質であって、エッチングレジスト溶液１４ａの表面張力を下げる役割を果たす。
このような界面活性剤としては、ＣＦ３(ＣＦ２)４(ＣＨ２ＣＨ２ Ｏ)１０からなる物質、ＣＦ３(ＣＦ２)５(ＣＨ２ＣＨ２ Ｏ)１４からなる物質などのエチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質からなり、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質の界面活性剤は、エッチングレジスト溶液１４ａの表面エネルギーを増加させる。これによって、エッチングレジスト溶液１４ａは、ブランケット１５との接着力より印刷版２０との接着力がもっと強くなり、エッチングレジスト溶液１４ａをブランケット１５から印刷版２０へ容易に転写させることができる。
これを、図３ないし図５を参照し、さらに詳しく説明する。
図３は、ブランケット１５の上にコーティングされた従来のフルオリネート系界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液１４ａの内部構造を模式化した図である。
図３を参照すれば、ブランケット１５の上にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａの内部構造において、界面活性剤の親水性基２２の殆どは、低い表面エネルギーを有するブランケット１５方向に向け、界面活性剤の疎水性基２３に当たるフルオリネート基は、空気の方に向ける構造を有している。ここで、表面エネルギー(γ)とは、空気と界面を成すために必要なエネルギーを言い、表面エネルギー(γ)が高い物質は、空気と界面を成すことが困難であり、自分と接触する液状または固形状などの相対面の表面エネルギー(γ)が低いほど相手面と界面を成そうとする性質が強い。即ち、表面エネルギー(γ)が高い物質は、その表面に表面エネルギー(γ)が低い流動性物質が塗布されると、その流動性物質を広く広げる。また、表面エネルギー(γ)が低い物質は、相手物質と界面を成すことが容易でないため、相手物質との分離が容易であり、空気との接触性質が強い。このような表面エネルギー(γ)は、数式１のように、非極性表面エネルギー(γｄ)と、極性表面エネルギー(γｐ)との和で表される。
［数式１］
γ =γd ＋γp
このような表面エネルギー(γ)と関連し、表２に、図３におけるブランケット１５、エッチングレジスト溶液１４ａ及び印刷版２０それぞれのγｄ、γｐの値を示す。
Figure 0004921948
ここで、エッチングレジスト溶液１４ａを、ブランケット１５から印刷版２０へ容易に転写するためには、エッチングレジスト溶液１４ａとブランケット１５との接着力よりエッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力がもっと大きくなければならない。
即ち、図４に示されているように、ブランケット１５にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａを印刷版２０に転写させる場合、ブランケット１５とエッチングレジスト溶液１４ａとの接着力(Ｗａ)よりエッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力(Ｗｂ)が遥かに大きくなければならない。
ここで、２つの界面におけるγｄ、γｐによる接着力(Ｗ)は、数式２の通りである。
［数式２］
Ｗ＝２(γｄ１*γｄ２)１／２＋２(γｐ１*γｐ２)１／２
γｄ１及びγｐ１は、２つの相互異なる界面の何れか一つの非極性表面エネルギーと極性表面エネルギーを示し、γｄ２及びγｐ２は、２つの相互異なる界面のうち、残りの界面における非極性表面エネルギーと極性表面エネルギーを示す。Ｗの単位は、ｍＪ／ｍ２である。
このような表１及び数式２からすると、エッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力(Ｗｂ)は、約５２程度であり、ブランケット１５とエッチングレジスト溶液１４ａとの接着力(Ｗａ)は、約３２程度であって、両者の大きさに顕著な差があるとは言えない。ここで、算術的に計算された５２程度のエッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力(Ｗｂ)と、３２程度のブランケット１５とエッチングレジスト溶液１４ａとの接着力(Ｗａ)とは、他の工程条件などの変数によって誤差及び偏差がある可能性もあるので、約２０程度の差は、信頼性のある転写工程が行われるほどの差ではない。
これによって、実質、転写工程が行われる場合、エッチングレジスト溶液１４ａをブランケット１５から印刷版２０へ転写させる特性が劣化し、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性が低下する。
このような従来の問題点を解決するために、本発明では、ＣＦ３(ＣＦ２)４(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)１０、ＣＦ３(ＣＦ２)５(ＣＨ２ＣＨ２ Ｏ)１４などのエチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質からなる界面活性剤を提案する。
図５は、本願発明における界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液１４ａがブランケット１５の上に形成された状態で、エッチングレジスト溶液１４ａの内部構造を模式化した図である。
図５を参照すると、ブランケット１５の上にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａの内部構造において、界面活性剤は、疎水性基２３に当たるフルオリネート基とハイドロカーボン鎖に区分される。ここで、ハイドロカーボン鎖としては、例えば、エチレンオキサイド(ＣＨ ２ Ｏ)、アミン(ＣＨ２Ｎ)などが挙げられる。このような構造を有する本発明における界面活性剤は、部分的にフルオリネート化された界面活性剤であって、界面活性剤そのものの表面エネルギーが、高分子鎖に似た表面エネルギー(約３５ｍＮ／ｍ)を有するため、如何なる方向性を有せずにランダムに位置することとなる。疎水性基は、ブランケット１５の上にコーティングされたエッチングレジスト溶液１４ａの内部構造において、大気に接することなく、これによりブランケットから印刷版への転送特性が従来技術よりも有効に働く。
その結果、本発明における界面エネルギーを採用した後のブランケット１５、エッチングレジスト溶液１４ａ及び印刷版２０それぞれのγｄ、γｐの値は、表３の通りである。
Figure 0004921948
即ち、表３と表２を比較すると、本発明におけるエッチングレジスト溶液(反フルオリネート系界面活性剤含み)のγｄ、γｐの値が、図３に比べ、顕著に高くなっていることが分かる。
算術的に、エッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力(Ｗａ)は、１１３程度であり、ブランケット１５とエッチングレジスト溶液１４ａとの接着力(Ｗｂ)は、５８程度である。即ち、従来と異なって、ブランケット１５とエッチングレジスト溶液１４ａとの接着力(Ｗｂ)よりエッチングレジスト溶液１４ａと印刷版２０との接着力(Ｗｂ)が顕著に大きいので、エッチングレジスト溶液１４ａが、ブランケット１５から印刷版２０へ容易に転写される。これによって、転写工程の信頼性が向上し、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性が向上できる。
以後、図１に示されている従来の装置を用いて、図２ｂないし図２ｅを参照して説明した方式によって、薄膜パターンを形成することができる。
上述した本発明による薄膜パターンの製造装置及び方法を用いて、液晶表示装置のゲート電極、ゲートラインなどのゲートパターンなど、液晶表示パネルの何れの薄膜パターンでも形成することができる。なお、液晶表示パネルに限定せず、電界放出表示素子(ＦＥＤ)、プラズマディスプレイパターン(ＰＤＰ)、有機電界発光表示素子(ＯＬＥＤ)など、何れの表示装置の薄膜パターンでも形成することができる。
従来のリバースレジストプリンティング装置を示す図である。 リバースレジストプリンティング方式により薄膜パターンを形成する工程を段階的に示す図である。 リバースレジストプリンティング方式により薄膜パターンを形成する工程を段階的に示す図である。 リバースレジストプリンティング方式により薄膜パターンを形成する工程を段階的に示す図である。 リバースレジストプリンティング方式により薄膜パターンを形成する工程を段階的に示す図である。 リバースレジストプリンティング方式により薄膜パターンを形成する工程を段階的に示す図である。 従来のフルオリネート系界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液の内部構成分子の構造を模式化した図である。 エッチングレジスト溶液が印刷版にコーティングされる過程を具体的に示す図である。 本発明における界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液の内部構成分子の構造を模式化した図である。
符号の説明
１０：印刷ローラ装置
１２：噴射装置
２０：印刷版
１４ａ：エッチングレジスト溶液
３０：基板
１５：ブランケット

Claims (7)

  1. ブランケットが巻回されたロール状の印刷ローラ装置と、
    前記印刷ローラ装置の周辺に位置し、前記ブランケットにエッチングレジスト溶液を噴射する噴射装置と、
    所望の薄膜状の溝と、前記溝を除いた突出部が形成された凹版印刷版とを備え、
    前記エッチングレジスト溶液は、４〜２０％程度のベースポリマーと、４０〜６０％程度のキャリアソルベントと、２０〜４０％程度のプリンティングソルベント及び０．０５〜１％程度の界面活性剤と、を含んで、前記界面活性剤は［ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１０又はＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１４］のいずれか一つであることと、
    前記界面活性剤の前記エチレンオキサイド（ＣＨ ２ ＣＨ ２ Ｏ）及びフルオリネート基の分子は、前記エッチングレジスト溶液内でランダムに分布すること及び前記エッチングレジスト溶液と印刷版との接着力は、前記エッチングレジスト溶液とブランケットとの接着力より強いことを特徴とする薄膜パターンの製造装置。
  2. 前記ベースポリマーは、ノボラック、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）の何れか一つであることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造装置。
  3. 前記キャリアソルベントは、アルコール系であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造装置。
  4. 前記プリンティングソルベントは、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、エチルベンゾエイト、トリイソプロピルベンゼンの少なくとも何れか一つであることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造装置。
  5. ブランケットが巻回されたロール状の印刷ローラ装置を設ける段階と、
    前記ブランケットに、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質からなる界面活性剤を含むエッチングレジスト溶液をコーティングする段階と、
    溝と、前記溝を除いた突出部が形成された凹版印刷版を設ける段階と、
    前記印刷版の突出部の上のみに前記エッチングレジスト溶液を転写させ、前記溝と対応する領域へのエッチングレジスト溶液は、前記印刷ローラ装置に残留させる段階と、を含むことを特徴とする薄膜パターンの製造方法において、
    前記エッチングレジスト溶液は、４〜２０％程度のベースポリマーと、４０〜６０％程度のキャリアソルベントと、２０〜４０％程度のプリンティングソルベント及び０．０５〜１％程度の界面活性剤と、を含んで、前記界面活性剤は［ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１０又はＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１４］のいずれか一つであることと、
    前記界面活性剤の前記エチレンオキサイド（ＣＨ ２ ＣＨ ２ Ｏ）及びフルオリネート基の分子は、前記エッチングレジスト溶液内でランダムに分布すること及び前記エッチングレジスト溶液と印刷版との接着力は、前記エッチングレジスト溶液とブランケットとの接着力より強いことを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
  6. 前記印刷版の突出部の上に、前記エッチングレジスト溶液を転写させる段階は、前記エッチングレジスト溶液がコーティングされた印刷ローラ装置を回転さ、且つ前記エッチングレジスト溶液を前記突出部の表面に接触させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の薄膜パターンの製造方法。
  7. 薄膜層が形成された基板を設ける段階と、
    前記印刷ローラ装置に残留するエッチングレジスト溶液を前記薄膜層の上に転写させ、前記印刷版の溝と同様の形状のエッチングレジスト溶液を前記薄膜層の上に形成する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の薄膜パターンの製造方法。
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