JP4905773B2 - 高エネルギー電子発生方法及びそれを用いた高エネルギー電子発生装置並びに高エネルギーx線発生方法及びそれを用いた高エネルギーx線発生装置 - Google Patents
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前記パルス状のレーザー光線の行程を前記パルス状のプリレーザー光線の行程よりも長くするための行程差設定手段とを前記真空容器内にさらに設けたことを特徴とする高エネルギー電子発生装置にある。
図1は、本発明の実施形態1に係る高エネルギー電子発生装置の概略図である。図1に示すように、本発明に係る高エネルギー電子発生装置1は、パルス状のレーザー光線を発振するレーザー光線発振手段10と、レーザー光線発振手段10から発振されたパルス状のレーザー光線を反射する入口反射鏡20と、入口反射鏡20により反射されたパルス状のレーザー光線を反射する第1の反射鏡30と、第1の反射鏡30により反射されたパルス状のレーザー光線を反射する第2の反射鏡40と、第2の反射鏡40により反射されたパルス状のレーザー光線をさらに反射させることによって集光させる軸外し放物面鏡(off−axis paraboloid)50と、軸外し放物面鏡50により集光させられたパルス状のレーザー光線の照射により電離すると共に高エネルギー電子を発生させるテープ状の固体試料60と、レーザー光線を照射するごとに固体試料60を巻き取ってパルス状のレーザー光線が当たる部分をずらすことができる試料巻き取り手段61と、パルス状のレーザー光線によって発生した高エネルギー電子を検出する検出手段70とを具備しており、それらが真空容器である真空チャンバ90の中に設けられたものである。そして、本実施形態の高エネルギー電子発生装置1は、レーザー光線発振手段10から発振されたパルス状のレーザー光線及びそのパルス状のレーザー光線の前に発振されるパルス状のプリレーザー光線を固体試料60に入射させることにより、高い指向性を有し、かつエネルギーレベルの揃った高エネルギー電子を多数発生させるものである。なお、パルス状のプリレーザー光線とは、パルス状のレーザー光線の一種であり、パルス状のレーザー光線が固体試料60に入射する前に固体試料60に入射し、かつそのパルス状のレーザー光線の強度よりも小さい強度を有するものである。以下に、本実施形態の高エネルギー電子発生装置1を構成する各構成要素について具体的に説明する。
実施形態1では、パルス状のレーザー光線とパルス状のプリレーザー光線とをレーザー光線発振手段10で発振させることにより、最終的に高エネルギー電子を発生させている。しかしながら、以下に示すように、パルス状のソースレーザー光線のみをレーザー光線発振手段で発振させ、そのパルス状のソースレーザー光線からパルス状のレーザー光線とパルス状のプリレーザー光線とを生成して、高エネルギー電子を発生させるようにしてもよい。以下に図2を用いて、本発明の実施形態2に係る高エネルギー電子発生装置を具体的に説明する。
実施形態1では、上述したようにして高いエネルギーを有する高エネルギー電子を発生させたが、図3に示すように、実施形態1の高エネルギー電子発生装置1と同じ構成要素を真空容器である真空チャンバ90B内に設け、その軸外し放物面鏡50Bと固体試料60Bとの間にX線変換材80Bをさらに設けて高エネルギーX線発生装置1Bとしてもよい。
実施形態2では、上述したようにして高いエネルギーを有する高エネルギー電子を発生させたが、図4に示すように、実施形態2の高エネルギー電子発生装置1Aと同じ構成要素を真空容器である真空チャンバ90C内に設け、その軸外し放物面鏡50Cと固体試料60Cとの間にX線変換材80Cをさらに設けて高エネルギーX線発生装置1Cとしてもよい。このような構成とすることにより、容易に高エネルギーX線発生装置を製造することができると共に、高い指向性を有し、かつエネルギーレベルの揃った高エネルギーX線を多数発生させることができる。
図1に示す高エネルギー電子発生装置1において、レーザー光線発振手段10としてパルス幅70fsで190mJのエネルギーを有する波長800nmのパルスレーザー光線を発振することができるチタンサファイアレーザー装置を、固体試料60として厚さが5μmの銅箔を、検出手段70として電子スペクトルメータを用いて高エネルギー電子を測定した。
固体試料以外は、実施例1と同様の高エネルギー電子発生装置1を用いて高エネルギー電子を測定した。実施例2では、固体試料60として厚さが7.5μmのポリイミドフィルムを用いた。
パルス状のレーザー光線として実施例1のメインパルスと同様のメインパルスと、図5に示すように、パルス状のレーザー光線としてメインパルスの5ns前に発振され、その強度がメインパルスの強度を100%とした際に5%となるプリパルスとを高エネルギー電子発生装置1に入射させた。
実施例1及び比較例1と異なり、実質的にプリパルスがなく、図5に示すように、実施例1のメインパルスと同様のパルスのみを高エネルギー電子発生装置1に入射させた。
プリパルスを入射させずに、実施例2のメインパルスと同様のパルスのみを高エネルギー電子発生装置1に入射させた。
まず、実施例1、比較例1及び比較例2のそれぞれにおいて検出器の代わりにスペクトルアナライザーを設置して、メインパルスを入射させた際に銅箔を透過する光のスペクトルを観測した。この観測結果によると、実施例1では波長800nmの光が観測されたが、比較例1及び比較例2では観測されなかった。このことは、実施例1では、チタンサファイアレーザー装置から発振されたパルスレーザーが観測されたことを示し、比較例1及び比較例2では観測されなかったことを示している。すなわち、実施例1ではプレパルスにより銅箔の表面又は一部が臨界プラズマ密度以下のプラズマにメインパルスが入射したのでメインパルスが透過して観測されたことを示し、比較例1では臨界プラズマ密度以上のプラズマにメインパルスが入射したのでメインパルスが透過せずに観測されなかったことを示し、比較例2では銅箔にメインパルスが入射してもメインパルスが透過しなかったのでメインパルスが観測されなかったことを示している。したがって、この観測結果によると、実施例1のみにおいて、臨界プラズマ密度以下のプラズマにメインパルスが入射したことを示している。
実施例2及び比較例3において発生した電子の発散角度分布及び電子エネルギースペクトルを測定した。その測定結果を図7及び図8に示す。図7は、実施例2及び比較例3において発生した電子の発散角度分布を示す図である。ここで、各発散角度分布は各発散角度分布において最も多く発生した電子数で規格化してある。図8は、実施例2及び比較例3において発生した電子の電子エネルギースペクトルを示す図である。
1B、1C 高エネルギーX線発生装置
10、10A、10B、10C レーザー光線発振手段
20、20A、20B、20C 入口反射鏡
30、30A、30B、30C 反射鏡
31A、31C 第1の透過鏡
40、40A、40B、40C 第2の反射鏡
41A、41C 第2の反射鏡
50、50A、50B、50C 軸外し放物面鏡
60、60A、60B、60C 固体試料
61 固体試料巻き取り手段
70、70A、70B、70C 検出手段
80B、80C X線変換材
90、90A、90B、90C 真空チャンバ
Claims (26)
- パルス状のレーザー光線を固体試料に入射させて高エネルギー電子を発生させる高エネルギー電子発生方法において、
前記パルス状のレーザー光線を前記固体試料に入射させる前に、前記固体試料の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成する工程と、
前記プラズマに前記パルス状のレーザー光線を入射させる工程とを具備することを特徴とする高エネルギー電子発生方法。 - 請求項1に記載の高エネルギー電子発生方法において、前記臨界プラズマ密度以下のプラズマは、前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射する前に前記固体試料に入射するパルス状のプリレーザー光線により生成されることを特徴とする高エネルギー電子発生方法。
- 請求項2に記載の高エネルギー電子発生方法において、前記パルス状のプリレーザー光線は複数のパルス状のレーザー光線からなることを特徴とする高エネルギー電子発生方法。
- 請求項2又は3に記載の高エネルギー電子発生方法において、前記パルス状のプリレーザー光線が前記固体試料に入射してから前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射するまでの時間が0.01〜100nsであることを特徴とする高エネルギー電子発生方法。
- 請求項2〜4の何れかに記載の高エネルギー電子発生方法において、前記パルス状のレーザー光線及び前記パルス状のプリレーザー光線が超短パルスレーザー光線又はフェムト秒レーザー光線であることを特徴とする高エネルギー電子発生方法。
- パルス状のレーザー光線を固体試料に入射させて発生させた高エネルギー電子を、さらにX線変換材に入射させて高エネルギーX線を発生させる高エネルギーX線発生方法において、
前記パルス状のレーザー光線を前記固体試料に入射させる前に、前記固体試料の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成する工程と、
前記プラズマに前記パルス状のレーザー光線を入射させる工程とを具備することを特徴とする高エネルギーX線発生方法。 - 請求項6に記載の高エネルギーX線発生方法において、前記臨界プラズマ密度以下のプラズマは、前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射する前に前記固体試料に入射するパルス状のプリレーザー光線により生成されることを特徴とする高エネルギーX線発生方法。
- 請求項7に記載の高エネルギーX線発生方法において、前記パルス状のプリレーザー光線は複数のパルス状のレーザー光線からなることを特徴とする高エネルギーX線発生方法。
- 請求項7又は8に記載の高エネルギーX線発生方法において、前記パルス状のプリレーザー光線が前記固体試料に入射してから前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射するまでの時間が0.01〜100nsであることを特徴とする高エネルギーX線発生方法。
- 請求項7〜9の何れかに記載の高エネルギーX線発生方法において、前記パルス状のレーザー光線及び前記パルス状のプリレーザー光線が超短パルスレーザー光線又はフェムト秒レーザー光線であることを特徴とする高エネルギーX線発生方法。
- パルス状のレーザー光線により電離可能な固体試料が真空容器内に設けられた高エネルギー電子発生装置において、
前記パルス状のレーザー光線を前記固体試料に入射させる前に前記固体試料の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成すると共に前記プラズマに前記パルス状のレーザー光線を入射させることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。 - 請求項11に記載の高エネルギー電子発生装置において、前記臨界プラズマ密度以下のプラズマは、前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射する前に前記固体試料に入射するパルス状のプリレーザー光線により生成されることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。
- 請求項12に記載の高エネルギー電子発生装置において、前記パルス状のプリレーザー光線は複数のパルス状のレーザー光線からなることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。
- 請求項12に記載の高エネルギー電子発生装置において、パルス状のソースレーザー光線を前記パルス状のレーザー光線と前記パルス状のプリレーザー光線とに分割する分割手段と、
前記パルス状のレーザー光線の行程を前記パルス状のプリレーザー光線の行程よりも長くするための行程差設定手段とを前記真空容器内にさらに設けたことを特徴とする高エネルギー電子発生装置。 - 請求項14に記載の高エネルギー電子発生装置において、前記パルス状のレーザー光線及び前記パルス状のプリレーザー光線を前記固体試料に集光させる軸外し放物面鏡が前記真空容器内にさらに設けられ、
前記分割手段は、前記パルス状のソースレーザー光線の一部を前記パルス状のプリレーザー光線として反射すると共に残りを前記パルス状のレーザー光線として透過する第1の透過鏡であり、
前記行程差設定手段は、前記第1の透過鏡を透過した前記パルス状のレーザー光線を反射する第1の反射鏡と、
前記第1の反射鏡により反射された前記パルス状のレーザー光線を反射する第2の反射鏡と、
前記第1の透過鏡により反射された前記パルス状のプリレーザー光線を反射すると共に前記第2の反射鏡により反射された前記パルス状のレーザー光線を透過して前記軸外し放物面鏡に導く第2の透過鏡とからなることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。 - 請求項12〜15の何れかに記載の高エネルギー電子発生装置において、前記パルス状のプリレーザー光線が前記固体試料に入射してから前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射するまでの時間が0.01〜100nsであることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。
- 請求項12〜16の何れかに記載の高エネルギー電子発生装置において、前記パルス状のレーザー光線が超短パルスレーザー光線又はフェムト秒レーザー光線であることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。
- 請求項11〜17の何れかに記載の高エネルギー電子発生装置において、前記固体試料が巻き取り可能なテープ状の形状を有し、前記真空容器内に前記固体試料を巻き取る試料巻き取り手段をさらに設けることを特徴とする高エネルギー電子発生装置。
- パルス状のレーザー光線により電離すると共に高エネルギー電子を発生させる固体試料と、前記高エネルギー電子により高エネルギーX線を発生させるX線変換材とが真空容器内に設けられた高エネルギー電子発生装置において、
前記パルス状のレーザー光線を前記固体試料に入射させる前に前記固体試料の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成すると共に前記プラズマに前記パルス状のレーザー光線を入射させることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。 - 請求項19に記載の高エネルギーX線発生装置において、前記臨界プラズマ密度以下のプラズマは、前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射する前に前記固体試料に入射するパルス状のプリレーザー光線により生成されることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。
- 請求項20に記載の高エネルギーX線発生装置において、前記パルス状のプリレーザー光線は複数のパルス状のレーザー光線からなることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。
- 請求項20に記載の高エネルギーX線発生装置において、パルス状のソースレーザー光線を前記パルス状のレーザー光線と前記パルス状のプリレーザー光線とに分割する分割手段と、
前記パルス状のレーザー光線の行程を前記パルス状のプリレーザー光線の行程よりも長くするための行程差設定手段とを前記真空容器内にさらに設けたことを特徴とする高エネルギーX線発生装置。 - 請求項22に記載の高エネルギーX線発生装置において、前記パルス状のレーザー光線及び前記パルス状のプリレーザー光線を前記固体試料に集光させる軸外し放物面鏡が前記真空容器内にさらに設けられ、
前記分割手段は、前記パルス状のソースレーザー光線の一部を前記パルス状のプリレーザー光線として反射すると共に残りを前記パルス状のレーザー光線として透過する第1の透過鏡であり、
前記行程差設定手段は、前記第1の透過鏡を透過した前記パルス状のレーザー光線を反射する第1の反射鏡と、
前記第1の反射鏡により反射された前記パルス状のレーザー光線を反射する第2の反射鏡と、
前記第1の透過鏡により反射された前記パルス状のプリレーザー光線を反射すると共に前記第2の反射鏡により反射された前記パルス状のレーザー光線を透過して前記軸外し放物面鏡に導く第2の透過鏡とからなることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。 - 請求項20〜23の何れかに記載の高エネルギーX線発生装置において、前記パルス状のプリレーザー光線が前記固体試料に入射してから前記パルス状のレーザー光線が前記固体試料に入射するまでの時間が0.01〜100nsであることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。
- 請求項20〜24の何れかに記載の高エネルギーX線発生装置において、前記パルス状のレーザー光線が超短パルスレーザー光線又はフェムト秒レーザー光線であることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。
- 請求項19〜25の何れかに記載の高エネルギーX線発生装置において、前記固体試料が巻き取り可能なテープ状の形状を有し、前記真空容器内に前記固体試料を巻き取る試料巻き取り手段をさらに設けることを特徴とする高エネルギーX線発生装置。
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