JP2008147652A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液体閉じ込めシステムと基板の間の液体のメニスカスがメニスカスくぎ付け形体によって実質的に所定の位置にくぎ付けにされる、液浸リソグラフィに使用するための液体閉じ込めシステムが開示される。メニスカスくぎ付け形体は、多角形に配置された複数の離散出口を備える。
【選択図】図6
Description
Claims (25)
- パターニングデバイスからのパターンを液体を通して基板上へ投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記液体を前記基板に隣接する空間に少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込めシステムを備え、前記液体閉じ込めシステムが、前記空間の周囲に配置されて、(i)前記空間からの液体と(ii)前記液体閉じ込めシステムの外側の環境からのガスとの混合物を除去することによって、前記液体を前記空間に少なくとも部分的に閉じ込める複数の離散した出口を備える、リソグラフィ投影装置。
- 前記出口がそれぞれ、相互からある距離だけ離間される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、別個の低圧源に接続される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口の少なくとも2つが、使用時に低圧に保持される共通チャンバーに接続される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、使用時に前記基板に面する、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、前記基板に実質的に直角である縦軸を有する細長い通路の出口である、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、使用時に前記基板に面し且つ前記基板の上面に実質的に平行である前記液体閉じ込めシステムの表面に形成される、請求項1に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムが、使用時に、前記出口の半径方向内側および/または外側への任意のメニスカスをくぎ付けにする形体を実質的に含まない、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、平面図で実質的に円形、正方形、長方形または三角形である、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、その最大平面寸法の0.25から10倍だけ、平面図で相互から離間される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口が、平面図で1から0.05の縦横比を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記出口が、平面図で多角形を形成するように相互に対して配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記多角形の主軸が、前記基板の主要移動方向に対して実質的に平行であるように規定される、請求項12に記載の装置。
- 前記主軸が、4/9から8/9の間の長さ比率を有する、請求項13に記載の装置。
- 長い方の主軸の長さと短い方の主軸の長さとの比率が1.2:1より大きい、請求項13に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口の半径方向外側に配置されたガスナイフを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記ガスナイフが、平面図で前記出口から0.2mmから3.0mmの間の距離に配置される、請求項16に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口の半径方向外側に配置されたガス入口を備える、請求項1に記載の装置。
- 使用時に液体閉じ込めシステムの前記基板に面する底面が、前記出口の半径方向外側に前記基板からの距離の階段状変化を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記高さの階段状変化が、前記出口から0.2mmから10.0mmの間にて生じる、請求項19に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口が配置された平面形状の隅部に隣接して配置された少なくとも1つのさらなる出口を備える、請求項1に記載の装置。
- パターニングデバイスからのパターンを基板に投影する投影システムを有するリソグラフィ投影装置であって、液体を前記投影システムと前記基板の間の空間に少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込め構造を備え、前記液体閉じ込め構造が、前記空間から液体をおよび前記空間の外側からガスを除去して、ガス流の生成により前記空間内の前記液体のメニスカスを実質的にくぎ付けするように構成された複数の出口を備える、リソグラフィ投影装置。
- 前記出口がそれぞれ、別個の低圧源に取り付けられる、請求項22に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、2相の実質的に環状の流れが前記出口を通って出るように成形される、請求項22に記載の装置。
- パターニングされた放射ビームを、基板に隣接する空間に設けられた液体を通して基板に投影し、少なくとも部分的には、前記空間の外側から出口を通してガスを抽出することによって発生したガス流を使用して、隣接する前記出口の間で前記液体のメニスカスをくぎ付けすることによって前記液体を閉じ込めることを含むデバイス製造方法。
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