JP4897742B2 - Plasma processing method and apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、連続するフィルム状又はシート状の基材をプラズマ処理する方法及び装置に関し、特に一対のロール電極どうし間に放電空間を形成してプラズマ処理する方法及び装置に関する。   The present invention relates to a method and apparatus for plasma processing a continuous film or sheet substrate, and more particularly to a method and apparatus for plasma processing by forming a discharge space between a pair of roll electrodes.

例えば、特許文献１、２に記載のプラズマ処理装置は、多数のロール電極を含んでいる。これらロール電極に１枚の連続フィルム状の基材が順次巻き付けられている。１つのロール電極から繰り出された基材は、折り返しローラに巻き付けられて折り返され、隣りのロール電極に巻き付けられている。上記隣り合う２つのロール電極どうし間に放電空間が形成される。したがって、基材の各部分は、１つの放電空間で２回プラズマ処理される。
特開２００４−１８９９５８号公報（図６） 特開２００３−１７１７７０号公報（図６） For example, the plasma processing apparatuses described in Patent Documents 1 and 2 include a large number of roll electrodes. One continuous film-like substrate is sequentially wound around these roll electrodes. The base material drawn out from one roll electrode is wound around a folding roller and folded, and is wound around an adjacent roll electrode. A discharge space is formed between the two adjacent roll electrodes. Therefore, each part of the substrate is plasma-treated twice in one discharge space.
Japanese Patent Laying-Open No. 2004-189958 (FIG. 6) Japanese Patent Laying-Open No. 2003-171770 (FIG. 6)

上掲公報に記載の装置では、基材が折り返しローラで折り返される際、該基材の被処理面が折り返しローラに接触することになる。この接触時の摩擦により基材の被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするおそれがある。また、処理ガスが、折り返しローラにも吹き付けられ、折り返しローラが腐食する等の不具合が生じるおそれがある。   In the apparatus described in the above publication, when the substrate is folded by the folding roller, the surface to be processed of the substrate comes into contact with the folding roller. There is a risk that the surface to be treated of the substrate may be damaged or particles may be generated due to the friction during the contact. Further, the processing gas is blown to the folding roller, and there is a possibility that a malfunction such as corrosion of the folding roller may occur.

本発明は、上記課題を解決するために提案されたものであり、連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する方法であって、
互いの間に前記放電空間となるギャップを形成する一対のロール電極を用意し、
前記基材を、その被処理面が表側になるようにして一方のロール電極の周面の一側に巻き付けるとともに、前記ギャップに通してギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げ、再び前記ギャップに通して他方のロール電極の周面の前記一方の電極と同じ側に巻き付けた状態で、前記ロール電極どうしを互いに同方向に回転させ、しかも、前記ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体をフリー状態としたことを特徴とする。
また、本発明は、連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する装置であって、
互いの間に前記放電空間となるギャップを形成する一対のロール電極と、
これらロール電極の回転制御手段と、を備え、
前記基材が、その被処理面が表側になるようにして一方のロール電極の周面の一側に巻き付けられるとともに、前記ギャップを通してギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられ、再び前記ギャップを通して他方のロール電極の周面の前記一方の電極と同じ側に巻き付けられ、しかも、前記ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体がフリー状態となるようにして、前記回転制御手段にて各ロール電極を回転制御することを特徴とする。
これによって、連続フィルム状又は連続シート状の基材を、一対のロール電極間のギャップで少なくとも２回処理でき、処理効率を確保できるだけでなく、折り返しローラ等の折り返し用部材を省略でき、基材の被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止することができ、処理品質を向上させることができる。折り返し用部材の腐食の問題も生じない。
ここで、ギャップは、ロール電極どうしの間の間隔が最も狭い箇所及びその近傍の、放電が形成される空間を言う。
「フリー状態」とは、ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体が折り返しローラ等の折り返し用部材をはじめ如何なる物体とも接触していない状態を云う。 The present invention has been proposed in order to solve the above problems, and is a method of performing plasma treatment on a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
Prepare a pair of roll electrodes that form a gap to be the discharge space between each other,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of one of the roll electrodes so that the treated surface is on the front side, and is bent in a loop on the opposite side of the winding side from the gap through the gap. The roll electrodes are rotated in the same direction while being wound around the same side as the one electrode on the peripheral surface of the other roll electrode again through the gap, and at least the loop-shaped bent portion is processed. The entire surface is in a free state.
Further, the present invention is an apparatus for plasma processing a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
A pair of roll electrodes forming a gap to be the discharge space between each other;
These roll electrode rotation control means,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of one of the roll electrodes so that the treated surface is on the front side, and is bent in a loop shape on the opposite side of the winding side from the gap through the gap. The rotation control means is again wound around the same side as the one electrode of the peripheral surface of the other roll electrode through the gap, and at least the entire surface to be processed of the loop-shaped bent portion is in a free state. The roll electrodes are controlled to rotate.
Thereby, a continuous film-like or continuous sheet-like base material can be processed at least twice with a gap between a pair of roll electrodes, and not only the processing efficiency can be ensured, but also a folding member such as a folding roller can be omitted. It is possible to prevent the surface to be processed from being damaged and the generation of particles, and the processing quality can be improved. The problem of corrosion of the folding member does not occur.
Here, the gap refers to a space where discharge is formed at a portion where the interval between the roll electrodes is the narrowest and in the vicinity thereof.
The “free state” refers to a state in which at least the entire surface to be processed of the loop-shaped bent portion is not in contact with any object such as a folding member such as a folding roller.

前記一方のロール電極の回転速度を、他方のロール電極の回転速度に対して可変調節することにより、前記基材の前記ループ状曲げ部分の長さを調節することが好ましい。
本発明装置が、前記基材の前記ループ状曲げ部分の長さを検出する検出手段を、更に備え、
前記回転制御手段が、前記検出手段の検出値に応じて、前記一方のロール電極の回転速度を、他方のロール電極の回転速度に対して可変調節することが好ましい。
これによって、基材のループ状曲げ部分の長さを適度な大きさになるよう調節でき、ループ状曲げ部分に適度な弛み及び張りを持たせることができる。また、ループ状曲げ部分が長くなり過ぎて附近の物体に接触して損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止できるとともに、短くなり過ぎてギャップに食い込んだりギャップより前記巻き付け側に抜けてしまったりするのを防止することができる。 It is preferable to adjust the length of the loop-shaped bent portion of the base material by variably adjusting the rotation speed of the one roll electrode with respect to the rotation speed of the other roll electrode.
The apparatus of the present invention further comprises detection means for detecting the length of the loop-shaped bent portion of the base material,
It is preferable that the rotation control unit variably adjusts the rotation speed of the one roll electrode with respect to the rotation speed of the other roll electrode according to a detection value of the detection unit.
Accordingly, the length of the loop-shaped bent portion of the base material can be adjusted to an appropriate size, and the loop-shaped bent portion can have appropriate slack and tension. In addition, it is possible to prevent the looped bent part from becoming too long and touching nearby objects to damage or generate particles, and it becomes too short to bite into the gap or slip out from the gap to the winding side. It can be prevented that it gets stuck.

前記検出手段は、非接触センサであることが好ましい。これによって、ループ状曲げ部分の長さ検出のために検出手段と基材とが接触して基材が損傷したりパーティクルが発生したりするのを回避することができる。   The detecting means is preferably a non-contact sensor. Thereby, it is possible to prevent the detection means and the base material from coming into contact with each other to detect the length of the loop-shaped bent portion and damage the base material or generate particles.

各ロール電極の軸線は、ほぼ水平に向けられているのが好ましい。
前記基材が、各ロール電極の上側部に巻き付けられ、前記ループ状曲げ部分が、前記ギャップからフリー状態で垂下されていることが好ましい。
前記基材が、各ロール電極の下側部に巻き付けられ、前記ループ状曲げ部分が、前記ギャップより上側に形成されるようになっていてもよい。 The axis of each roll electrode is preferably oriented almost horizontally.
It is preferable that the base material is wound around an upper portion of each roll electrode, and the loop-shaped bent portion is suspended from the gap in a free state.
The base material may be wound around the lower part of each roll electrode, and the loop-shaped bent part may be formed above the gap.

処理ガスを前記ギャップより前記ループ状曲げ部分とは反対側からギャップに向けて噴出す処理ガス噴出部を含むノズルヘッドを、更に備えることが好ましい。これによってギャップ内で処理ガスをプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）でき、基材を確実にプラズマ処理することができる。ギャップを通過した処理ガスの圧でループ状曲げ部分に張りを与えることができるとともに、ループ状曲げ部分にもプラズマ化された処理ガスが接触するようにでき処理効率を向上させることができる。   It is preferable to further include a nozzle head including a processing gas ejection portion that ejects the processing gas from the gap toward the gap from the side opposite to the loop-shaped bent portion. As a result, the processing gas can be converted into plasma (including decomposition, excitation, activation, and ionization) within the gap, and the substrate can be reliably subjected to plasma processing. The tension of the loop-shaped bent portion can be given by the pressure of the processing gas that has passed through the gap, and the plasma-processed processing gas can be brought into contact with the loop-shaped bent portion, thereby improving the processing efficiency.

前記ノズルヘッドが、前記ロール電極の周面に沿うアーチ面を含むことが好ましい。
これによって、処理ガスが、ノズルヘッドとロール電極上の基材との間の隙間を経て外へ漏れるのを抑えることができる。 It is preferable that the nozzle head includes an arch surface along the peripheral surface of the roll electrode.
Accordingly, it is possible to suppress the processing gas from leaking through the gap between the nozzle head and the base material on the roll electrode.

前記ループ状曲げ部分の内部に、処理ガスをギャップに向けて噴出す処理ガス噴出部を設けてもよい。これにより、処理ガス噴出部からの処理ガスの圧でループ状曲げ部分の基端部をロール電極の周面に密着させることができる。   You may provide the process gas ejection part which ejects process gas toward a gap inside the said loop-shaped bending part. Thereby, the base end part of a loop-shaped bending part can be closely_contact | adhered to the surrounding surface of a roll electrode with the pressure of the process gas from a process gas ejection part.

処理ガスを前記ギャップより前記ループ状曲げ部分とは反対側からギャップに向けて噴出す第１処理ガス噴出部と、処理ガスを前記ループ状曲げ部分の内部からギャップに向けて噴出す第２処理ガス噴出部と、を備えていてもよい。
これによって、処理ガスを両方向からギャップ内に供給できる。更に、この両方向からの処理ガスの一部が跳ね返り、処理ガス噴出部と基材との間を通って外部へ抜け出るようにすることができる。この跳ね返りのガス流によって、外部の空気等の雰囲気ガスがギャップ内に入り込むのを防止できる。したがって、雰囲気ガスのギャップ内への侵入防止のためにガスカーテンを別途形成しなくても済む。もしくは、簡易なガスカーテンで済む。 A first processing gas jetting portion for jetting a processing gas from the gap toward the gap from a side opposite to the loop-shaped bent portion; and a second processing for jetting a processing gas from the inside of the loop-shaped bent portion toward the gap. A gas ejection part.
Thereby, the processing gas can be supplied into the gap from both directions. Furthermore, a part of the processing gas from both directions rebounds, and can pass out between the processing gas ejection part and the base material and escape to the outside. This rebounding gas flow can prevent atmospheric gases such as external air from entering the gap. Therefore, it is not necessary to separately form a gas curtain in order to prevent the atmospheric gas from entering the gap. Or a simple gas curtain is enough.

また、本発明は、連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する装置であって、
中央のロール電極と、この中央ロール電極を挟むようにしてその両側にそれぞれ配置された第１、第２の側部ロール電極と、
これら３つのロール電極の回転制御手段と、を備え、
前記中央ロール電極と前記第１側部ロール電極との間に前記放電空間となる第１ギャップが形成され、
前記中央ロール電極と前記第２側部ロール電極との間に他の放電空間となる第２ギャップが形成され、
前記基材が、その被処理面が表側になるようにして前記第１側部ロール電極の周面の一側に巻き付けられるとともに、前記第１ギャップを通して第１ギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられて第１ループ状曲げ部分を形成し、再び前記第１ギャップを通して中央ロール電極の周面の前記第１側部電極と同じ側に巻き付けられ、さらに、前記第２ギャップを通して第２ギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられて第２ループ状曲げ部分を形成し、再び前記第２ギャップを通して前記第２側部ロール電極の周面の前記第１側部ロール電極及び中央ロール電極と同じ側に巻き付けられ、しかも、前記第１ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面全体と第２ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面全体とがフリー状態となるようにして、前記回転制御手段にて各ロール電極を回転制御することを特徴とする。
これによって、折り返しローラ等の折り返し用部材を省略でき、基材の被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止することができ、処理品質を向上させることができる。折り返し用部材の腐食の問題も生じない。加えて、基材の各部位に対するプラズマ処理を第１ギャップで２回、第２ギャップで２回、合計４回行なうことができ、処理効率を一層向上させることができる。 Further, the present invention is an apparatus for plasma processing a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
A central roll electrode, and first and second side roll electrodes disposed on both sides of the central roll electrode, respectively,
These three roll electrode rotation control means,
A first gap serving as the discharge space is formed between the central roll electrode and the first side roll electrode,
A second gap serving as another discharge space is formed between the central roll electrode and the second side roll electrode,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of the first side roll electrode so that the surface to be treated is on the front side, and the side opposite to the winding side from the first gap through the first gap. To be bent into a loop shape to form a first loop-shaped bent portion, and is wound around the same side as the first side electrode of the peripheral surface of the center roll electrode again through the first gap, and further through the second gap. The second gap is bent in a loop shape on the side opposite to the winding side from the second gap to form a second loop-shaped bent portion, and the first side portion of the peripheral surface of the second side roll electrode is again passed through the second gap. It is wound on the same side as the roll electrode and the central roll electrode, and at least the entire surface to be processed of the first loop-shaped bent portion and at least the processed surface of the second loop-shaped bent portion Whole and is made to be a free state, characterized in that it controls the rotation of the respective roll electrode in the rotation control means.
Accordingly, a folding member such as a folding roller can be omitted, the surface to be treated of the base material can be prevented from being damaged or particles can be prevented, and the processing quality can be improved. The problem of corrosion of the folding member does not occur. In addition, the plasma treatment for each part of the substrate can be performed twice in the first gap and twice in the second gap, for a total of four times, and the processing efficiency can be further improved.

前記第１ループ状曲げ部分の長さを検出する第１検出手段と、前記第２ループ状曲げ部分の長さを検出する第２検出手段とを、更に備え、
前記回転制御手段が、前記中央ロール電極を等速回転させるとともに、前記第１検出手段の検出値に応じて前記第１側部ロール電極の回転速度を可変調節し、前記第２検出手段の検出値に応じて前記第２側部ロール電極の回転速度を可変調節することが好ましい。
これによって、基材の第１、第２ループ状曲げ部分の長さをそれぞれ適度な大きさになるよう調節でき、各ループ状曲げ部分に適度な弛み及び張りを持たせることができる。また、第１ループ状曲げ部分の長さ調節により第２ループ状曲げ部分の長さが影響を受けることはなく、第２ループ状曲げ部分の長さ調節により第１ループ状曲げ部分の長さが影響を受けることはない。 A first detecting means for detecting the length of the first loop-shaped bent portion; and a second detecting means for detecting the length of the second loop-shaped bent portion;
The rotation control means rotates the central roll electrode at a constant speed, and variably adjusts the rotation speed of the first side roll electrode according to the detection value of the first detection means, and the detection of the second detection means It is preferable to variably adjust the rotation speed of the second side roll electrode according to the value.
Accordingly, the lengths of the first and second loop-shaped bent portions of the substrate can be adjusted to be appropriate sizes, and each loop-shaped bent portion can have appropriate slack and tension. Further, the length of the second loop-shaped bent portion is not affected by the length adjustment of the first loop-shaped bent portion, and the length of the first loop-shaped bent portion is adjusted by adjusting the length of the second loop-shaped bent portion. Will not be affected.

本発明は、減圧下（略真空）や大気圧近傍（略常圧）でのプラズマ処理に用いられるが、特に、大気圧近傍（略常圧）でのプラズマ処理に好適である。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａが好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａがより好ましい。
プラズマ処理する際の放電形態は、コロナ放電やグロー放電が挙げられるが、被処理面への損傷が少ない点からグロー放電が好適である。 The present invention is used for plasma processing under reduced pressure (substantially vacuum) or near atmospheric pressure (substantially normal pressure), and is particularly suitable for plasma processing near atmospheric pressure (substantially normal pressure). Here, the near atmospheric pressure refers to the range of 1.013 × 10 4 ~50.663 × 10 4 Pa, considering the convenience of easier and device configuration of the pressure adjustment, 1.333 × 10 4 ~ 10.664 × 10 4 Pa is preferable, and 9.331 × 10 4 to 10.9797 × 10 4 Pa is more preferable.
Examples of the discharge mode at the time of plasma treatment include corona discharge and glow discharge. Glow discharge is preferable from the viewpoint of little damage to the surface to be processed.

本発明によれば、連続フィルム状又は連続シート状の基材の折り返し用部材のために被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止でき、処理品質を向上させることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can prevent that a to-be-processed surface is damaged or the generation | occurrence | production of a particle for the member for folding | folding the base material of a continuous film form or a continuous sheet form, and can improve process quality.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
図１に示すように、被処理基材９０は、連続フィルム状又は連続シート状をなしている。この被処理基材９０は、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ノルボルネン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン等の樹脂にて構成されている。被処理基材９０の厚さは、数μｍ〜数百μｍであり、例えば３０μｍ程度である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the to-be-processed base material 90 has comprised the continuous film form or the continuous sheet form. The substrate 90 to be treated is made of, for example, a resin such as polyimide, polyethylene terephthalate (PET), triacetate cellulose (TAC), norbornene, polypropylene (PP), or polyethylene. The thickness of the to-be-processed base material 90 is several micrometers-several hundred micrometers, for example, is about 30 micrometers.

図１に示すように、第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置１は、３つのロール電極２０と、ノズルヘッド３０を備え、ほぼ大気圧環境に配置されている。
ロール電極２０は、軸線を水平にして前後方向（図１の紙面と直交する方向）に向けた円筒形状をなし、互いに左右に並んで架台１１に支持されている。詳細な図示は省略するが、各ロール電極２０の外周面には、放電を安定させるための固体誘電体層が形成されている。固体誘電体層として、例えばガラスコーティング、セラミックの溶射膜、樹脂被膜、シリコーンゴム被膜等を用いることができる。上記樹脂被膜としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂を用いるとよい。接地電極となるロール電極２０Ｌ，２０Ｒには固体誘電体層を設けなくてもよい。被処理基材９０が固体誘電体層としての役目を兼ねるようにし、ロール電極２０自体には固体誘電体層を設けないことにしてもよい。 As shown in FIG. 1, the atmospheric pressure plasma processing apparatus 1 according to the first embodiment includes three roll electrodes 20 and a nozzle head 30 and is disposed in an almost atmospheric pressure environment.
The roll electrode 20 has a cylindrical shape with its axis line horizontal and oriented in the front-rear direction (a direction orthogonal to the paper surface of FIG. 1), and is supported by the gantry 11 side by side. Although not shown in detail, a solid dielectric layer for stabilizing discharge is formed on the outer peripheral surface of each roll electrode 20. As the solid dielectric layer, for example, glass coating, ceramic sprayed film, resin film, silicone rubber film or the like can be used. As the resin film, a fluorine resin such as polytetrafluoroethylene may be used. It is not necessary to provide a solid dielectric layer on the roll electrodes 20L and 20R serving as ground electrodes. The substrate 90 to be processed may also serve as a solid dielectric layer, and the roll electrode 20 itself may not be provided with a solid dielectric layer.

３つのロール電極２０の大きさ（直径）は互いに等しく、配置高さは互いに等しい。以下、３つのロール電極２０を互いに区別する際は、左側のロール電極２０（第１側部ロール電極）には符号に「Ｌ」を付し、中央のロール電極２０には符号に「Ｃ」を付し、右側のロール電極２０（第２側部ロール電極）には符号に「Ｒ」を付すことにする。左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒが、中央のロール電極２０Ｃを両側から挟むように配置されている。図１及び図３に示すように、左側のロール電極２０Ｌと中央のロール電極２０Ｌとの間には、第１ギャップ２１Ｌが形成されている。中央のロール電極２０Ｃと右側のロール電極２０Ｒとの間には、第２ギャップ２１Ｒが形成されている。これらギャップ２１の幅は、数ｍｍ程度である。   The three roll electrodes 20 have the same size (diameter) and the same arrangement height. Hereinafter, when distinguishing the three roll electrodes 20 from each other, the left roll electrode 20 (first side roll electrode) is denoted by “L”, and the central roll electrode 20 is denoted by “C”. The right roll electrode 20 (second side roll electrode) is denoted by “R”. The left and right roll electrodes 20L and 20R are arranged so as to sandwich the center roll electrode 20C from both sides. As shown in FIGS. 1 and 3, a first gap 21L is formed between the left roll electrode 20L and the center roll electrode 20L. A second gap 21R is formed between the center roll electrode 20C and the right roll electrode 20R. The width of these gaps 21 is about several mm.

中央のロール電極２０Ｃの位置は、架台１１に対し固定されている。これに対し、左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒは、架台１１に対しそれぞれ左右に微少スライド可能になっている。   The position of the center roll electrode 20 </ b> C is fixed with respect to the gantry 11. On the other hand, the left and right roll electrodes 20L and 20R can be slightly slid left and right with respect to the gantry 11, respectively.

図１に示すように、架台１１の左右両側部には、スクリューやスライドガイドなどを含む間隔調節機構４０がそれぞれ設けられている。これら間隔調節機構４０によって、左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒの左右方向の位置が、それぞれ微調節されるようになっている。これによって、左右のギャップ２１Ｌ，２１Ｒの幅がそれぞれ微調節されるようになっている。   As shown in FIG. 1, distance adjustment mechanisms 40 including screws and slide guides are provided on the left and right sides of the gantry 11, respectively. By the interval adjusting mechanism 40, the positions of the left and right roll electrodes 20L, 20R in the left-right direction are finely adjusted. As a result, the widths of the left and right gaps 21L and 21R are finely adjusted.

図２に示すように、中央のロール電極２０Ｃは、架台１１に設けられた給電端子２２及び給電線２ａを介して電源２に接続され、電界印加電極となっている。左右の２つのロール電極２０Ｌ，２０Ｒは、架台１１に設けられた接地端子２３及び接地線２ｂを介して電気的に接地され、接地電極となっている。
電源２から中央のロール電極２０Ｃへの電圧供給により、左側と中央のロール電極２０Ｌ，２０Ｃどうし間のギャップ２１Ｌと中央と右側のロール電極２０Ｒ，Ｌどうし間のギャップ２１Ｒがそれぞれ放電空間となる。電源２からの供給電圧は、例えばパルス波状であるが、これに限定されるものではなく、正弦波等の連続波状であってもよい。 As shown in FIG. 2, the center roll electrode 20 </ b> C is connected to the power source 2 via a power supply terminal 22 and a power supply line 2 a provided on the gantry 11, and serves as an electric field application electrode. The two left and right roll electrodes 20L and 20R are electrically grounded via a ground terminal 23 and a ground wire 2b provided on the gantry 11, and serve as ground electrodes.
By supplying voltage from the power source 2 to the center roll electrode 20C, a gap 21L between the left and center roll electrodes 20L and 20C and a gap 21R between the center and right roll electrodes 20R and L become discharge spaces. The supply voltage from the power supply 2 is, for example, a pulse wave shape, but is not limited to this, and may be a continuous wave shape such as a sine wave.

図１及び図２に示すように、架台１１の下部中央と左右側部には、それぞれモータ５０が設けられている。下部中央のモータ５０Ｃの出力軸に取り付けられたプーリ５１と、ロール電極２０Ｃの回転軸に取り付けられたプーリ５２との間にタイミングベルト５３が掛け渡されている。下部中央のモータ５０Ｃの駆動により、ロール電極２０Ｃが軸線のまわりに回転されるようになっている。同様にして、左側のモータ５０Ｌとロール電極２０Ｌとがプーリ５１，５２及びタイミングベルト５３にて連繋され、モータ５０Ｌの駆動により、ロール電極２０Ｌが軸線のまわりに回転されるようになっている。また、右側のモータ５０Ｒとロール電極２０Ｒとがプーリ５１，５２及びタイミングベルト５３にて連繋され、モータ５０Ｒの駆動により、ロール電極２０Ｒが軸線のまわりに回転されるようになっている。
各モータ５０とロール電極２０の動力伝達機構は、プーリ５１，５２及びタイミングベルト５３に限られず、チェーン、ギア列などを用いてもよい。 As shown in FIG.1 and FIG.2, the motor 50 is provided in the lower center and left-right side part of the mount frame 11, respectively. A timing belt 53 is stretched between a pulley 51 attached to the output shaft of the motor 50C at the lower center and a pulley 52 attached to the rotation shaft of the roll electrode 20C. The roll electrode 20C is rotated around the axis by driving the motor 50C at the lower center. Similarly, the left motor 50L and the roll electrode 20L are connected by pulleys 51 and 52 and a timing belt 53, and the roll electrode 20L is rotated around the axis by driving the motor 50L. Further, the right motor 50R and the roll electrode 20R are connected by pulleys 51, 52 and a timing belt 53, and the roll electrode 20R is rotated around the axis by driving the motor 50R.
The power transmission mechanism of each motor 50 and the roll electrode 20 is not limited to the pulleys 51 and 52 and the timing belt 53, and a chain, a gear train, or the like may be used.

架台１１の頂部には、ノズルヘッド３０が配置されている。ノズルヘッド３０は、センターボディ３２と、このセンターボディ３２の左右両側に添えられた２つの処理ガスノズル３３（処理ガス噴出部）と、その更に左右両側に添えられた２つのカーテンガスノズル３４と、これらセンターボディ３２及びノズルの上側に被せられた金属製のアッパープレート３１とを有している。センターボディ３２と処理ガスノズル３３とカーテンガスノズル３４は、耐腐食性の樹脂にて構成されている。   A nozzle head 30 is disposed on the top of the gantry 11. The nozzle head 30 includes a center body 32, two processing gas nozzles 33 (processing gas ejection portions) attached to the left and right sides of the center body 32, two curtain gas nozzles 34 attached to the left and right sides thereof, A center body 32 and a metal upper plate 31 placed on the upper side of the nozzle are provided. The center body 32, the processing gas nozzle 33, and the curtain gas nozzle 34 are made of a corrosion-resistant resin.

図４に示すように、各処理ガスノズル３３は、前後方向に延びている。図４及び図５に示すように、処理ガスノズル３３の内部には、長手方向に延びるヘッダ路３３ａと、このヘッダ路３３ａからその長手方向の等間隔置きに分岐された多数の噴出路３３ｂとが形成されている。図４（ａ）に示すように、処理ガス源３から延びる供給路３ａが、ヘッダ路３３ａに接続されている。処理ガス源３には、処理に応じた処理ガスが蓄えられている。   As shown in FIG. 4, each process gas nozzle 33 extends in the front-rear direction. As shown in FIGS. 4 and 5, inside the processing gas nozzle 33, there are a header path 33a extending in the longitudinal direction and a number of ejection paths 33b branched from the header path 33a at equal intervals in the longitudinal direction. Is formed. As shown to Fig.4 (a), the supply path 3a extended from the process gas source 3 is connected to the header path 33a. The processing gas source 3 stores a processing gas corresponding to the processing.

図４（ｂ）に示すように、処理ガスノズル３３の下端面には、長手方向に延びる溝状の噴出口３３ｃが、複数、一列に並んで形成されている。各噴出口３３ｃの上部に複数の噴出路３３ｂが連なっている。   As shown in FIG. 4B, a plurality of groove-shaped jets 33 c extending in the longitudinal direction are formed in a row on the lower end surface of the processing gas nozzle 33. A plurality of ejection paths 33b are connected to the upper part of each ejection port 33c.

図６及び図７に示すように、カーテンガスノズル３４は、前後方向に延びている。カーテンガスノズル３４の内部には、長手方向に延びるヘッダ路３４ａと、このヘッダ路３４ａからその長手方向の等間隔置きに分岐された多数の噴出路３４ｂとが形成されている。カーテンガス源４から延びる供給路４ａが、ヘッダ路３４ａに接続されている。カーテンガスとして、窒素などの不活性ガスが用いられている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the curtain gas nozzle 34 extends in the front-rear direction. Inside the curtain gas nozzle 34, a header path 34a extending in the longitudinal direction and a number of ejection paths 34b branched from the header path 34a at equal intervals in the longitudinal direction are formed. A supply path 4a extending from the curtain gas source 4 is connected to the header path 34a. An inert gas such as nitrogen is used as the curtain gas.

各噴出路３４ｂは、ヘッダ路３４ａから下方へ向かって斜めに延び、カーテンガスノズル３４の下側面に達している。   Each ejection passage 34 b extends obliquely downward from the header passage 34 a and reaches the lower surface of the curtain gas nozzle 34.

図１に示すように、ノズルヘッド３０は、３つのロール電極２０の上側に被さっている。センターボディ３２は、中央のロール電極２０Ｃの上側に配置されている。左側の処理ガスノズル３３は、左側と中央のロール電極２０Ｌ，２０Ｃどうし間のギャップ２１Ｌの上側に配置されている。右側の処理ガスノズル３３は、中央と右側のロール電極２０Ｃ，２０Ｒどうし間のギャップ２１Ｒの上側に配置されている。左側のカーテンガスノズル３４は、左側のロール電極２０Ｌの上側に配置されている。右側のカーテンガスノズル３４は、右側のロール電極２０Ｒの上側に配置されている。   As shown in FIG. 1, the nozzle head 30 covers the upper side of the three roll electrodes 20. The center body 32 is disposed above the central roll electrode 20C. The left processing gas nozzle 33 is disposed above the gap 21L between the left and center roll electrodes 20L and 20C. The right process gas nozzle 33 is disposed above the gap 21R between the center and right roll electrodes 20C, 20R. The left curtain gas nozzle 34 is disposed above the left roll electrode 20L. The right curtain gas nozzle 34 is disposed above the right roll electrode 20R.

図１に示すように、ノズルヘッド３０の下側面は、３つのロール電極２０の上側部の形状に合わせた曲面になっている。すなわち、センターボディ３２の下面は、中央のロール電極２０の上側の周面に合わせて中央部が上に凹んだアーチ面３２ｅになっている。
処理ガスノズル３３の下側の両側面は、左右対称のアーチ面３３ｅ，３３ｅになっている。これらアーチ面３３ｅ，３３ｅの間に、上記噴出口３３ｃが開口された下端面がギャップ２１に向かって突出されるように配置されている。 As shown in FIG. 1, the lower side surface of the nozzle head 30 is a curved surface that matches the shape of the upper side portions of the three roll electrodes 20. In other words, the lower surface of the center body 32 is an arch surface 32e whose center is recessed upward in accordance with the upper peripheral surface of the central roll electrode 20.
Both side surfaces on the lower side of the processing gas nozzle 33 are symmetric arch surfaces 33e and 33e. Between these arch surfaces 33e and 33e, it arrange | positions so that the lower end surface where the said ejection port 33c was opened may protrude toward the gap 21. As shown in FIG.

処理ガスノズル３３の片側のアーチ面３３ｅは、センターボディ３２のアーチ面３２ｅに連続し、中央のロール電極２０の周面に沿っている。処理ガスノズル３３のもう１つのアーチ面３３ｅは、左右のロール電極２０の周面に沿っている。   The arch surface 33e on one side of the processing gas nozzle 33 is continuous with the arch surface 32e of the center body 32 and extends along the peripheral surface of the central roll electrode 20. Another arch surface 33 e of the processing gas nozzle 33 is along the peripheral surface of the left and right roll electrodes 20.

カーテンガスノズル３４の下側面は、処理ガスノズル３３の側へ近づくにしたがって下に突出するアーチ面３４ｅになっている。このアーチ面３４ｅが、処理ガスノズル３３のアーチ面３３ｅに連続し、左右のロール電極２０の周面に沿っている。
ノズルヘッド３０の上記各アーチ面３２ｅ，３３ｅ，３４ｅとロール電極２０の周面との間には、数ｍｍ程度の狭い隙間１２が形成されている。 The lower surface of the curtain gas nozzle 34 is an arch surface 34e that projects downward as it approaches the process gas nozzle 33 side. The arch surface 34 e is continuous with the arch surface 33 e of the processing gas nozzle 33 and extends along the peripheral surfaces of the left and right roll electrodes 20.
A narrow gap 12 of about several millimeters is formed between the arch surfaces 32e, 33e, 34e of the nozzle head 30 and the peripheral surface of the roll electrode 20.

図１に示すように、この隙間１２に連続フィルム状又は連続シート状の被処理基材９０が通されている。
被処理基材９０は、左側ロール電極２０Ｌの周面の上側部分（一側）に巻き付けられるとともに、ギャップ２１Ｌを通してギャップ２１Ｌより下方（前記巻き付け側とは反対側）において折り返すようにループ状に曲げられて第１ループ状曲げ部分９１Ｌを形成し、再びギャップ２１Ｌを通して中央のロール電極２０Ｃの周面の上側部分（前記ロール電極２０Ｌの巻き付け側と同じ側）に巻き付けられている。さらに、被処理基材９０は、ギャップ２１Ｒを通してギャップ２１Ｒより下方において折り返すようにループ状に曲げられて第２ループ状曲げ部分９１Ｒを形成し、再びギャップ２１Ｒを通して右側のロール電極２０Ｒの周面の上側部分（前記ロール電極２０Ｌ，２０Ｃの巻き付け側と同じ側）に巻き付けられている。
図３に示すように、被処理基材９０は、その被処理面９０ａが表側（外側）になるようにして裏面９０ｂが各ロール電極２０に接している。したがって、ループ状曲げ部分９１においては、被処理面９０ａが内側を向き、裏面９０ｂが外側を向いている。 As shown in FIG. 1, a continuous film-like or continuous sheet-like substrate 90 is passed through the gap 12.
The substrate 90 to be treated is wound around the upper portion (one side) of the peripheral surface of the left roll electrode 20L, and is bent in a loop so as to be folded back below the gap 21L (opposite to the winding side) through the gap 21L. Thus, a first loop-shaped bent portion 91L is formed, and is wound around the upper portion of the peripheral surface of the central roll electrode 20C through the gap 21L (the same side as the winding side of the roll electrode 20L). Furthermore, the substrate 90 to be processed is bent into a loop shape so as to be folded back below the gap 21R through the gap 21R to form a second loop-shaped bent portion 91R, and again through the gap 21R on the peripheral surface of the right roll electrode 20R. It is wound around the upper part (the same side as the winding side of the roll electrodes 20L and 20C).
As shown in FIG. 3, the substrate 90 to be processed has the back surface 90 b in contact with each roll electrode 20 so that the surface 90 a to be processed is on the front side (outside). Therefore, in the loop-shaped bent portion 91, the processing target surface 90a faces inward and the back surface 90b faces outward.

被処理基材９０は、各ループ状曲げ部分９１がループ形状を自立して維持し得る腰の強さを有しており、好ましくは、ループ状曲げ部分９１がギャップ２１の幅より大きく左右に膨らむ程度の腰の強さを有している。したがって、ループ状曲げ部分９１におけるギャップ２１の中央に位置する上端部（基端部）から最も膨らんだ部分までの間が斜めになり、ループ状曲げ部分９１の上端部付近がロール電極２０の周面に接している。   The to-be-processed base material 90 has the strength of the waist which each loop-shaped bending part 91 can maintain a loop shape self-supporting, Preferably, the loop-shaped bending part 91 is larger than the width | variety of the gap 21, and is on either side. Has waist strength enough to swell. Therefore, a portion between the upper end portion (base end portion) located at the center of the gap 21 in the loop-shaped bent portion 91 and the most swollen portion is slanted, and the vicinity of the upper end portion of the loop-shaped bent portion 91 is the circumference of the roll electrode 20. It touches the surface.

ループ状曲げ部分９１は、ギャップ２１から自重で垂下されており、フリー状態となっている。すなわち、図３に示すように、ループ状曲げ部分９１は、その上端部附近がロール電極２０の周面に接触しているのを除き、如何なる物体とも接触していない。特に、ループ状曲げ部分９１の被処理面９０ａは、全体が如何なる物体とも接触していない。装置１には被処理基材９０を折り返すための折り返しロール等の部材は設けられていない。   The loop-shaped bent portion 91 is suspended from the gap 21 by its own weight, and is in a free state. That is, as shown in FIG. 3, the loop-shaped bent portion 91 is not in contact with any object except that the vicinity of the upper end thereof is in contact with the peripheral surface of the roll electrode 20. In particular, the treated surface 90a of the loop-shaped bent portion 91 is not in contact with any object as a whole. The apparatus 1 is not provided with a member such as a folding roll for folding the substrate 90 to be processed.

詳細な図示は省略するが、架台１１の周囲には、内部を密閉する周壁が設けられている。この周壁内の密閉空間に被処理基材９０の垂下部分９１が配置されている。
図１及び図２に示すように、架台１１の前側部と後側部には、それぞれ吸引ポート６０が左右に２つ設けられている。図１に示すように、これら吸引ポート６０は、各ループ状曲げ部分９１の内側の空間に臨むように配置されている。各吸引ポート６０は、吸引路６ａを介して真空ポンプなどの吸引排気手段６に連なっている。 Although detailed illustration is omitted, a peripheral wall that seals the inside is provided around the gantry 11. A suspended portion 91 of the substrate 90 to be processed is disposed in a sealed space in the peripheral wall.
As shown in FIGS. 1 and 2, two suction ports 60 are provided on the left and right sides of the front side portion and the rear side portion of the gantry 11, respectively. As shown in FIG. 1, these suction ports 60 are arranged so as to face the space inside each loop-shaped bent portion 91. Each suction port 60 is connected to suction exhaust means 6 such as a vacuum pump via a suction path 6a.

図１に示すように、左側のギャップ２１Ｌの真下には第１の距離センサ７０Ｌ（第１検出手段）が設けられている。同様に、右側のギャップ２１Ｒの真下には第２の距離センサ７０Ｒ（第２検出手段）が設けられている。これら距離センサ７０は、例えば超音波式の非接触センサで構成され、超音波の発信部と受信部とを有し、当該距離センサ７０の上方に在る物体との距離を検知するようになっている。   As shown in FIG. 1, a first distance sensor 70L (first detection means) is provided directly below the left gap 21L. Similarly, a second distance sensor 70R (second detection means) is provided directly below the right gap 21R. These distance sensors 70 are composed of, for example, an ultrasonic non-contact sensor, and have an ultrasonic transmission unit and a reception unit, and detect a distance from an object above the distance sensor 70. ing.

更に、プラズマ処理装置１には回転制御手段８０が設けられている。この回転制御手段８０に各距離センサ７０からの検知信号線８１が接続されている。回転制御手段８０から制御信号線８２が、各モータ５０に接続されている。回転制御手段８０は、距離センサ７０の検知情報に応じてモータ５０の回転を制御するようになっている。   Further, the plasma processing apparatus 1 is provided with a rotation control means 80. A detection signal line 81 from each distance sensor 70 is connected to the rotation control means 80. A control signal line 82 from the rotation control means 80 is connected to each motor 50. The rotation control unit 80 controls the rotation of the motor 50 according to the detection information of the distance sensor 70.

上記構成のプラズマ処理装置１の動作を説明する。
処理ガス源３からの処理ガスを、左右の処理ガスノズル３３に供給し、ヘッダ路３３ａ及び噴出路３３ｂにて前後方向に略均一に拡散させたうえで、噴出口３３ｃから下方のギャップ２１へ噴き出す。併行して、電源２から中央のロール電極２０に電圧を供給し、左右のギャップ２１に大気圧プラズマを生成し、ギャップ２１内において処理ガスをプラズマ化する。このプラズマ化された処理ガスが、ギャップ２１内の被処理基材９０の被処理面に接触することにより、被処理基材９０がプラズマ処理される。
ノズルヘッド３０の下側面が３つのロール電極２０の上側の周面に合わせた形状になっており、ノズルヘッド３０とロール電極２０上の被処理基材９０との間の隙間１２が狭くなっているため、処理ガスノズル３３から噴き出された処理ガスが、隙間１２に入り込むのを抑えることができる。
また、カーテンガス源４からのカーテンガスを、左右のカーテンガスノズル３４に供給し、ヘッダ路３４ａ及び噴出路３４ｂにて前後方向に略均一に拡散させたうえで、噴出路３４ｂから噴き出す。これにより、処理ガスが隙間１２を経て外へ漏れるのを防止することができる。 The operation of the plasma processing apparatus 1 having the above configuration will be described.
A processing gas from the processing gas source 3 is supplied to the left and right processing gas nozzles 33 and diffused substantially uniformly in the front-rear direction in the header path 33a and the ejection path 33b, and then ejected from the ejection port 33c to the lower gap 21. . At the same time, a voltage is supplied from the power source 2 to the central roll electrode 20, atmospheric pressure plasma is generated in the left and right gaps 21, and the processing gas is turned into plasma in the gaps 21. The plasma processing gas comes into contact with the surface of the substrate 90 to be processed in the gap 21, so that the substrate 90 to be processed is plasma-processed.
The lower surface of the nozzle head 30 is shaped to match the upper peripheral surface of the three roll electrodes 20, and the gap 12 between the nozzle head 30 and the substrate 90 to be processed on the roll electrode 20 becomes narrower. Therefore, the processing gas ejected from the processing gas nozzle 33 can be prevented from entering the gap 12.
Further, the curtain gas from the curtain gas source 4 is supplied to the left and right curtain gas nozzles 34 and diffused substantially uniformly in the front-rear direction in the header path 34a and the ejection path 34b, and then ejected from the ejection path 34b. Thereby, it is possible to prevent the processing gas from leaking out through the gap 12.

さらに、各モータ５０を駆動して３つのロール電極２０を正面視で例えば時計周りに回転させ、被処理基材９０を左から右へ搬送する。これにより、被処理基材９０の各部位が、左側のロール電極２０Ｌに接しながら左側のギャップ２１Ｌ内を通過し、プラズマ処理される。その後、左ギャップ２１Ｌから垂下され、左ループ状曲げ部分９１Ｌを形成して折り返し、今度は中央のロール電極２０Ｃに接しながら再び左ギャップ２１Ｌ内を通過し、プラズマ処理される。さらに、中央のロール電極２０Ｃに接しながら右側のギャップ２１Ｒ内を通過し、プラズマ処理される。その後、右ギャップ２１Ｒから垂下され、右ループ状曲げ部分９１Ｒを形成して折り返し、今度は右側のロール電極２０Ｒに接しながら再び右ギャップ２１Ｒ内を通過し、プラズマ処理される。
したがって、被処理基材９０は、各ギャップ２１で２回プラズマ処理され、２つのギャップ２１で合計４回プラズマ処理される。これにより、被処理基材９０を十分に、かつ高速でプラズマ処理することができる。 Further, each motor 50 is driven to rotate the three roll electrodes 20 clockwise, for example, in a front view, and the substrate to be processed 90 is conveyed from left to right. Thereby, each part of the substrate 90 to be processed passes through the left gap 21L while being in contact with the left roll electrode 20L, and is plasma-treated. Thereafter, it hangs down from the left gap 21L, forms a left loop-shaped bent portion 91L, turns back, and then passes through the left gap 21L again while being in contact with the center roll electrode 20C, and is plasma-treated. Further, it passes through the right gap 21R while being in contact with the central roll electrode 20C, and is plasma-treated. After that, it hangs down from the right gap 21R, forms a right loop-shaped bent portion 91R, turns back, and then passes through the right gap 21R again while being in contact with the right roll electrode 20R, and is plasma-treated.
Therefore, the substrate to be processed 90 is plasma-treated twice in each gap 21 and is plasma-treated four times in total in the two gaps 21. Thereby, the to-be-processed base material 90 can fully be plasma-processed at high speed.

しかも、被処理基材９０の各ループ状曲げ部分９１は、フリーになっており、上端部付近がロール電極２０に接触しているのを除き、如何なる物体とも接触していないため、かかる物体との摩擦で被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりすることはない。これによって、処理品質を高めることができる。折り返しローラ等の折り返し用部材が無いのでその腐食の問題が生じないだけでなく、ギャップ２１を通過した処理ガスがループ状曲げ部分９１の被処理面に接触するようにでき、処理効率を一層向上させることができる。
処理済みのガスは、ループ状曲げ部分９１の内側の空間から吸引ポート６０に吸い込まれ、吸引路６ａを経て吸引排気手段６にて排気される。 In addition, each loop-shaped bent portion 91 of the substrate 90 to be processed is free and is not in contact with any object except that the vicinity of the upper end is in contact with the roll electrode 20. The surface to be treated is not damaged or particles are not generated by the friction. Thereby, processing quality can be improved. Since there is no folding member such as a folding roller, the problem of corrosion does not occur, and the processing gas that has passed through the gap 21 can be brought into contact with the surface to be processed of the loop-shaped bent portion 91, thereby further improving the processing efficiency. Can be made.
The treated gas is sucked into the suction port 60 from the space inside the loop-shaped bent portion 91, and is exhausted by the suction exhaust means 6 through the suction path 6a.

隣り合うロール電極２０Ｌ，２０Ｃ又は２０Ｃ，２０Ｒの両方に被処理基材９０が被さっているので、何れのロール電極２０の周面にも反応生成物（汚れ）が付着するのを防止できる。
ロール電極２０の回転によりロール電極２０上の放電箇所が移動するため、電極の長寿命化を図ることができるとともに、冷却の負荷を低減することができる。
ロール電極２０間の狭いギャップ２１内での放電であるため、電源２の負担を軽減することができる。 Since the to-be-processed base material 90 has covered both the adjacent roll electrodes 20L and 20C or 20C and 20R, it can prevent that a reaction product (dirt) adheres to the surrounding surface of any roll electrode 20. FIG.
Since the discharge location on the roll electrode 20 is moved by the rotation of the roll electrode 20, the life of the electrode can be extended and the cooling load can be reduced.
Since the discharge is performed in the narrow gap 21 between the roll electrodes 20, the burden on the power source 2 can be reduced.

ロール電極２０の回転は、回転制御手段８０にて制御される。中央のロール電極２０Ｃの回転速度は常時等速になるように制御される。一方、各距離センサ７０にて、被処理基材９０のループ状曲げ部分９１の下端部から当該距離センサ７０までの距離が測定される。この距離は、ループ状曲げ部分９１の長さに対応する。このセンサ７０の検出値が、回転制御手段８０に入力される。回転制御手段８０は、この検出値に応じて左右のモータ５０の出力を操作し、左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒの回転速度を調節する。   The rotation of the roll electrode 20 is controlled by the rotation control means 80. The rotation speed of the central roll electrode 20C is controlled so as to be always constant. On the other hand, each distance sensor 70 measures the distance from the lower end of the loop-shaped bent portion 91 of the substrate 90 to be processed to the distance sensor 70. This distance corresponds to the length of the loop-shaped bent portion 91. The detection value of the sensor 70 is input to the rotation control means 80. The rotation control means 80 operates the outputs of the left and right motors 50 according to the detected value, and adjusts the rotation speed of the left and right roll electrodes 20L and 20R.

例えば、左側の距離センサ７０Ｌによる検出値が所定値より大きくなった場合（左側のループ状曲げ部分９１Ｌが所定長さより短くなった場合）、左側のロール電極２０Ｌの回転速度を速くする。中央のロール電極２０Ｃについては、一定の回転速度を維持する。これによって、被処理基材９０の左側の第１ループ状曲げ部分９１Ｌの長さを伸ばし、所定の長さに戻すことができる。反対に、左側の距離センサ７０Ｌによる検出値が所定値より小さくなった場合（左側のループ状曲げ部分９１Ｌが所定長さより長くなった場合）、左側のロール電極２０Ｌの回転速度を遅くし、中央のロール電極２０Ｃについては一定の回転速度を維持する。これによって、左側のループ状曲げ部分９１Ｌの長さを短くし、所定の長さに戻すことができる。   For example, when the value detected by the left distance sensor 70L is larger than a predetermined value (when the left loop-shaped bent portion 91L is shorter than a predetermined length), the rotational speed of the left roll electrode 20L is increased. A constant rotation speed is maintained for the center roll electrode 20C. Thereby, the length of the first loop-shaped bent portion 91L on the left side of the substrate 90 to be processed can be extended and returned to a predetermined length. On the other hand, when the detection value by the left distance sensor 70L is smaller than a predetermined value (when the left loop-shaped bent portion 91L is longer than a predetermined length), the rotation speed of the left roll electrode 20L is decreased, and the center A constant rotation speed is maintained for the roll electrode 20C. As a result, the length of the left loop bent portion 91L can be shortened and returned to a predetermined length.

また、右側の距離センサ７０Ｒによる検出値が所定値より大きくなった場合（右側のループ状曲げ部分９１Ｒが所定長さより短くなった場合）、右側のロール電極２０Ｒの回転速度を遅くする。中央のロール電極２０Ｃについては、一定の回転速度を維持する。これによって、被処理基材９０の右側の第２ループ状曲げ部分９１Ｒの長さを伸ばし、所定の長さに戻すことができる。反対に、右側の距離センサ７０Ｒによる検出値が所定値より小さくなった場合（右側のループ状曲げ部分９１Ｒが所定長さより長くなった場合）、右側のロール電極２０Ｒの回転速度を速くし、中央のロール電極２０Ｃについては一定の回転速度を維持する。これによって、右側のループ状曲げ部分９１Ｒの長さを短くし、所定の値に戻すことができる。   When the detection value by the right distance sensor 70R is larger than a predetermined value (when the right loop-shaped bent portion 91R is shorter than a predetermined length), the rotation speed of the right roll electrode 20R is decreased. A constant rotation speed is maintained for the center roll electrode 20C. Thereby, the length of the second loop-shaped bent portion 91R on the right side of the substrate 90 to be processed can be extended and returned to a predetermined length. On the contrary, when the detection value by the right distance sensor 70R becomes smaller than a predetermined value (when the right loop-shaped bent portion 91R becomes longer than a predetermined length), the rotation speed of the right roll electrode 20R is increased, A constant rotation speed is maintained for the roll electrode 20C. As a result, the length of the right loop bent portion 91R can be shortened and returned to a predetermined value.

このようにして、左右のループ状曲げ部分９１Ｌ，９１Ｒの長さ（垂下量）をそれぞれ適度な大きさに維持することができる。これによって、各ループ状曲げ部分９１が適度な弛み具合になるよう調節でき、適度な張り（ループの膨らみ）を持たせることができる。このループ状曲げ部分９１の張りによって、ギャップ２１内の被処理基材９０がロール電極２０の周面に確実に接触するようにでき、更にはループ状曲げ部分９１の上端部から最も膨らんだ部分までの間を斜めにして、被処理基材９０がロール電極２０に接する部分をロール電極２０の中心軸線の高さより下半円周側に延長させることができる。
また、ループ状曲げ部分９１が長くなり過ぎて、距離センサ７０をはじめ装置１の下部の物体に接触して損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止できるとともに、ループ状曲げ部分９１が短くなり過ぎて、ギャップ２１に食い込んだりギャップ２１より上に抜けてしまったりするのを防止することができる。
左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒの回転速度がそれぞれ変動しても、中央のロール電極２０Ｃの回転速度は不変であるので、左側のループ状曲げ部分９１Ｌの長さ調節により右側のループ状曲げ部分９１Ｒの長さが影響を受けることはなく、右側のループ状曲げ部分９１Ｒの長さ調節により左側の垂下部分９１Ｌの長さが影響を受けることはない。
距離センサ７０は、非接触センサであり、ループ状曲げ部分９１に接触することなくその長さ（垂下量）を測定できるため、被処理物の損傷やパーティクルの発生を一層確実に防止することができる。 In this way, the lengths (hanging amounts) of the left and right loop-shaped bent portions 91L and 91R can be maintained at appropriate sizes. As a result, each loop-shaped bent portion 91 can be adjusted so as to have an appropriate degree of slack, and an appropriate tension (loop swelling) can be provided. By the tension of the loop-shaped bent portion 91, the substrate 90 to be processed in the gap 21 can be surely brought into contact with the peripheral surface of the roll electrode 20, and further, the portion that swells most from the upper end portion of the loop-shaped bent portion 91. The portion where the substrate 90 is in contact with the roll electrode 20 can be extended from the height of the central axis of the roll electrode 20 to the lower semicircular side.
Further, it is possible to prevent the loop-shaped bent portion 91 from becoming too long and contacting the distance sensor 70 and other objects under the apparatus 1 to cause damage and generation of particles, and the loop-shaped bent portion 91 is shortened. Therefore, it is possible to prevent the gap 21 from getting into the gap 21 and coming out above the gap 21.
Even if the rotational speeds of the left and right roll electrodes 20L and 20R vary, the rotational speed of the central roll electrode 20C does not change. Therefore, by adjusting the length of the left looped bent part 91L, the right looped bent part 91R is adjusted. The length of the left hanging portion 91L is not affected by the length adjustment of the right loop-shaped bent portion 91R.
Since the distance sensor 70 is a non-contact sensor and can measure the length (the amount of drooping) without contacting the loop-shaped bent portion 91, it is possible to more reliably prevent damage to the object to be processed and generation of particles. it can.

次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の実施形態と重複する構成については図面に同一符号を付して説明を省略する。
図８の変形例に示すように、ノズルヘッド３０のカーテンガスノズル３４に代えてカーテンガス噴出経路３４ａ，３４ｂを有しないサイドボディ３５を設け、ガスカーテン構造を省略してもよい。このサイドボディ３５の下側面についても、ロール電極２０Ｌ，２０Ｒの周面に沿うアーチ面３５ｅとするのが好ましい。
第１実施形態では、ノズルヘッド３０の左右両端部が左右のロール電極２０Ｌ，２０Ｒの上端部まで達していなかったが（図１）、図８に示すサイドボディ３５のように、ノズルヘッド３０の左右両端部がロール電極２０Ｌ，２０Ｒの上端部を越える位置まで延長されていてもよい。 Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same components as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
As shown in the modification of FIG. 8, a side body 35 that does not have the curtain gas ejection paths 34 a and 34 b may be provided instead of the curtain gas nozzle 34 of the nozzle head 30, and the gas curtain structure may be omitted. The lower side surface of the side body 35 is also preferably an arch surface 35e along the peripheral surfaces of the roll electrodes 20L and 20R.
In the first embodiment, the left and right end portions of the nozzle head 30 do not reach the upper end portions of the left and right roll electrodes 20L and 20R (FIG. 1). However, like the side body 35 shown in FIG. The left and right ends may be extended to a position beyond the upper ends of the roll electrodes 20L and 20R.

図９に示す第２実施形態では、被処理基材９０のロール電極２０への巻き付け方が第１実施形態とは上下逆になっている。被処理基材９０は、その被処理面９０ａが表側になるようにして左側ロール電極２０Ｌの周面の下側部分（一側）に巻き付けられるとともに、ギャップ２１Ｌを通してギャップ２１Ｌより上方（前記巻き付け側とは反対側）においてループ状に曲げられて第１ループ状曲げ部分９１Ｌを形成し、再びギャップ２１Ｌを通して中央のロール電極２０Ｃの周面の下側部分（前記巻き付け側と同じ側）に巻き付けられている。さらに、被処理基材９０は、ギャップ２１Ｒを通してギャップ２１Ｒより上方においてループ状に曲げられて第２ループ状曲げ部分９１Ｒを形成し、再びギャップ２１Ｒを通して右側のロール電極２０Ｃの周面の下側部分（前記巻き付け側と同じ側）に巻き付けられている。   In the second embodiment shown in FIG. 9, the method of winding the substrate 90 to be processed around the roll electrode 20 is upside down from that of the first embodiment. The substrate 90 to be treated is wound around the lower portion (one side) of the peripheral surface of the left roll electrode 20L so that the surface 90a to be treated is on the front side, and above the gap 21L through the gap 21L (the winding side). The first loop-shaped bent portion 91L is formed by bending it in a loop shape on the opposite side to the lower portion (the same side as the winding side) of the central roll electrode 20C through the gap 21L. ing. Further, the substrate 90 to be processed is bent into a loop shape above the gap 21R through the gap 21R to form a second loop-shaped bent portion 91R, and again through the gap 21R, the lower portion of the peripheral surface of the right roll electrode 20C. It is wound around (the same side as the winding side).

各ループ状曲げ部分９１は、２つのロール電極２０，２０の間より上側に膨らむループ状をなし、自身の腰の強さによってループ形状を維持するとともに、自重によって左右両側部分がそれぞれギャップ２１より上側の電極２０の周面に倣うように接している。このループ状曲げ部分９１のロール電極２０への接触部分は、ギャップ２１から電極２０の上端近くまで及んでいる。
ループ状曲げ部分９１は、このロール電極２０との接触を除き、他の如何なる物体とも接触しておらず、特に被処理面９０ａは全体が如何なる物体とも接触しておらず、フリー状態になっている。 Each loop-shaped bent portion 91 has a loop shape that swells upward from between the two roll electrodes 20, 20, maintains the loop shape by the strength of its own waist, and the left and right side portions from the gap 21 by its own weight, respectively. It is in contact with the peripheral surface of the upper electrode 20. The contact portion of the loop-shaped bent portion 91 with the roll electrode 20 extends from the gap 21 to the vicinity of the upper end of the electrode 20.
The loop-shaped bent portion 91 is not in contact with any other object except for the contact with the roll electrode 20, and in particular, the surface to be treated 90a is not in contact with any object and is in a free state. Yes.

各ギャップ２１上側に離れて処理ガスノズル３３（処理ガス噴出部）が配置されている。処理ガスノズル３３は、ループ状曲げ部分９１で囲まれ、ループ状曲げ部分９１の内部に位置されている。   A processing gas nozzle 33 (processing gas ejection part) is disposed above each gap 21. The processing gas nozzle 33 is surrounded by the loop-shaped bent portion 91 and is positioned inside the loop-shaped bent portion 91.

処理ガスノズル３３から下方へ噴き出された処理ガスの一部は、ループ状曲げ部分９１の左右両側部に吹き付けられる。このガス圧によって、ループ状曲げ部分９１の左右両側部をロール電極２０に押し当て密着させることができ、更にはループ状曲げ部分９１のロール電極２０との接触面積を拡大させることができる。   A part of the processing gas blown downward from the processing gas nozzle 33 is blown to the left and right side portions of the loop-shaped bent portion 91. With this gas pressure, both the left and right side portions of the loop-shaped bent portion 91 can be pressed and brought into close contact with the roll electrode 20, and further, the contact area of the loop-shaped bent portion 91 with the roll electrode 20 can be increased.

３つのロール電極２０の下方には、上面開口の容器からなる排気室６１が設けられている。この排気室６１に吸引排気手段６が連なっている。
上記処理ガスノズル３３からの処理ガスは、ギャップ２１に導かれてプラズマ化され、被処理基材９０のプラズマ処理に供される。処理済みのガスは、ギャップ２１から排気室６１を経て吸引排気手段６にて吸引排気される。
図示は省略するが、各ループ状曲げ部分９１の上方には第１実施形態と同様のセンサ７０が設けられており、このセンサ７０の検出値に基づいてロール電極２０Ｌ，２０Ｒの回転速度が可変調節されるようになっている。 Below the three roll electrodes 20, an exhaust chamber 61 formed of a container having an upper surface opening is provided. A suction exhaust means 6 is connected to the exhaust chamber 61.
The processing gas from the processing gas nozzle 33 is guided to the gap 21 to be converted into plasma and used for plasma processing of the substrate 90 to be processed. The processed gas is sucked and exhausted from the gap 21 through the exhaust chamber 61 by the suction / exhaust means 6.
Although not shown, a sensor 70 similar to that of the first embodiment is provided above each loop-shaped bent portion 91, and the rotation speeds of the roll electrodes 20L and 20R are variable based on the detection value of the sensor 70. It has come to be adjusted.

図１０に示す第３実施形態では、ロール電極２０，２０間のギャップ２１を挟んで、上側と下側にそれぞれ処理ガスノズル３３Ｘ，３３Ｙが設けられている。上側のノズル３３Ｘ（第１処理ガス噴出部）は、第１、第２実施形態のノズル３３と同様に、噴出口を下に向け、ギャップ２１より上側のロール電極２０，２０間に配置されている。下側のノズル３３Ｙ（第２処理ガス噴出部）は、噴出口を上に向け、被処理基材９０のループ状曲げ部分９１の内部に配置されている。下側ノズル３３Ｙは、ループ状曲げ部分９１に接触しない形状になっている。   In the third embodiment shown in FIG. 10, process gas nozzles 33X and 33Y are provided on the upper side and the lower side, respectively, with the gap 21 between the roll electrodes 20 and 20 interposed therebetween. The upper nozzle 33 </ b> X (first processing gas ejection portion) is arranged between the roll electrodes 20, 20 above the gap 21 with the ejection port facing downward, similarly to the nozzle 33 of the first and second embodiments. Yes. The lower nozzle 33 </ b> Y (second processing gas ejection portion) is disposed inside the loop-shaped bent portion 91 of the substrate to be treated 90 with the ejection port facing upward. The lower nozzle 33 </ b> Y has a shape that does not contact the looped bent portion 91.

上側のノズル３３Ｘは、処理ガスをギャップ２１の上方（ループ状曲げ部分９１とは反対側）からギャップ１２に向けて噴出す。下側のノズル３３Ｙは、処理ガスをギャップ２１の下方のループ状曲げ部分９１の内部からギャップ１２に向けて噴出す。これによって、ギャップ２１内に処理ガスを充分に供給できる。各ノズル３３Ｘ，３３Ｙからの噴出流量を大きくすることで、ギャップ２１内に処理ガスが溢れ、一部の処理ガスｇ１，ｇ２が上下に跳ね返る。上側に跳ね返った処理ガスｇ１は、上側ノズル３３Ｘと被処理基材９０のロール電極２０への巻き付け部分との間の隙間１２Ｘを通り、外部へ抜け出る。このガス流ｇ１によって、外部の空気等の雰囲気ガスが隙間１２Ｘからギャップ２１内に入り込むのを防止できる。したがって、上側ノズル３３Ｘの側部にガスカーテンノズル３４（図１参照）を設けなくても済む。   The upper nozzle 33 </ b> X ejects the processing gas from above the gap 21 (on the side opposite to the loop-shaped bent portion 91) toward the gap 12. The lower nozzle 33 </ b> Y ejects the processing gas from the inside of the loop-shaped bent portion 91 below the gap 21 toward the gap 12. As a result, the processing gas can be sufficiently supplied into the gap 21. By increasing the ejection flow rate from the nozzles 33X and 33Y, the processing gas overflows into the gap 21, and part of the processing gases g1 and g2 bounces up and down. The processing gas g1 that bounces upward passes through the gap 12X between the upper nozzle 33X and the portion of the substrate 90 to be wound around the roll electrode 20, and escapes to the outside. The gas flow g1 can prevent atmospheric gas such as external air from entering the gap 21 through the gap 12X. Therefore, it is not necessary to provide the gas curtain nozzle 34 (see FIG. 1) on the side of the upper nozzle 33X.

下側に跳ね返った処理ガスｇ２は、下側ノズル３３Ｙと被処理基材９０との間の隙間１２Ｙを通り、外部へ抜け出る。このガス流ｇ２によって、外部の空気等の雰囲気ガスが隙間１２Ｙからギャップ２１内に入り込むのを防止できる。したがって、下側ノズル３３Ｙの側部にガスカーテンノズルを設ける必要がない。
また、雰囲気ガスがギャップ２１に入る可能性は低いので、上側ノズル３３Ｘまたは下側ノズル３３Ｙの側部にガスカーテンノズルを設けるにしても簡易なもので済む。 The processing gas g2 that has bounced downward passes through the gap 12Y between the lower nozzle 33Y and the substrate to be processed 90 and escapes to the outside. This gas flow g2 can prevent atmospheric gas such as external air from entering the gap 21 from the gap 12Y. Therefore, it is not necessary to provide a gas curtain nozzle on the side of the lower nozzle 33Y.
In addition, since the possibility that the atmospheric gas enters the gap 21 is low, a simple gas curtain nozzle may be provided on the side of the upper nozzle 33X or the lower nozzle 33Y.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、上記実施形態では、ロール電極２０の数は、３つであったが、少なくとも２つあればよく、４つ以上であってもよい。これら複数のロール電極２０のうち隣り合う２つのロール電極２０が、特許請求の範囲の「一対のロール電極」を構成し、その各々が、「一方のロール電極」及び「他方のロール電極」を構成する。
被処理基材９０は、一方のロール電極の側から他方のロール電極の側へ搬送されるようになっていてもよく、他方のロール電極の側から一方のロール電極の側へ搬送されるようになっていてもよい。
隣り合うロール電極どうしの高さが互いに異なっていてもよく、大きさ（直径）が互いに異なっていてもよい。
ロール電極の軸線が、水平に対し若干傾いていてもよく、ほぼ鉛直に向いていてもよい。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
For example, in the above-described embodiment, the number of roll electrodes 20 is three. However, at least two are sufficient, and four or more may be sufficient. Two adjacent roll electrodes 20 among the plurality of roll electrodes 20 constitute “a pair of roll electrodes” in the claims, and each of them constitutes “one roll electrode” and “the other roll electrode”. Constitute.
The to-be-processed base material 90 may be conveyed from the one roll electrode side to the other roll electrode side, and may be conveyed from the other roll electrode side to the one roll electrode side. It may be.
The heights of adjacent roll electrodes may be different from each other, and the size (diameter) may be different from each other.
The axis of the roll electrode may be slightly inclined with respect to the horizontal, or may be substantially vertical.

第１実施形態（図１）において、処理ガスノズル３３がギャップ２１より下側においてループ状曲げ部分９１に囲まれるように配置され、処理ガスを上方に向けて噴き出すようになっていてもよい。
第２実施形態（図９）において、処理ガスノズル３３がギャップ２１より下側に配置され、処理ガスを上方に向けて噴き出すようになっていてもよい。
各実施形態を組み合わせてもよい。例えば、第３実施形態（図１０）の被処理基材９０の巻き付け態様は、第１実施形態（図１）と同じになっていたが、第２実施形態（図９）と同様の巻き付け態様にしてもよく、第２実施形態の巻き付け態様においてもギャップ２１を挟んで上下両側にノズル３３Ｘ，３３Ｙを設けてもよい。 In the first embodiment (FIG. 1), the processing gas nozzle 33 may be disposed so as to be surrounded by the loop-shaped bent portion 91 below the gap 21 so as to eject the processing gas upward.
In the second embodiment (FIG. 9), the processing gas nozzle 33 may be arranged below the gap 21 so as to eject the processing gas upward.
You may combine each embodiment. For example, although the winding aspect of the to-be-processed base material 90 of 3rd Embodiment (FIG. 10) was the same as 1st Embodiment (FIG. 1), it is the same winding aspect as 2nd Embodiment (FIG. 9). Alternatively, in the winding mode of the second embodiment, the nozzles 33X and 33Y may be provided on both upper and lower sides with the gap 21 therebetween.

ループ状曲げ部分９１は、該ループ状曲げ部分９１における少なくとも被処理面９０ａの全体が折り返しローラ等の物体と接触しておらずフリーになっていればよく、ループ状曲げ部分９１の裏面９０ｂが、例えばループ状曲げ部分９１の形を整えるためのローラ等の部材と接触するようになっていてもよい。
ループ状曲げ部分９１は、ギャップ２１すなわち放電空間より外側（巻き付け側とは反対側）で折り返していればよく、その先端部は、ロール電極２０，２０どうし間より外側
（図１において下、図９において上）に位置するのに限られず、ギャップ２１とロール電極２０の下端部（図１）又は上端部（図９）との間の高さに位置していてもよい。
ループ状曲げ部分９１の外側を内側より低圧にし、ループ形状を維持するようにしてもよい。 The loop-shaped bent portion 91 may be free as long as at least the entire surface 90a of the loop-shaped bent portion 91 is not in contact with an object such as a folding roller, and the back surface 90b of the loop-shaped bent portion 91 is free. For example, you may come to contact members, such as a roller for adjusting the shape of the loop-shaped bending part 91. FIG.
The loop-shaped bent portion 91 only needs to be folded back outside the gap 21, that is, the discharge space (opposite side to the winding side), and the tip portion is outside the space between the roll electrodes 20, 20 (lower in FIG. 9 may be positioned at a height between the gap 21 and the lower end (FIG. 1) or the upper end (FIG. 9) of the roll electrode 20.
The outer side of the loop-shaped bent portion 91 may be set at a lower pressure than the inner side to maintain the loop shape.

ループ状曲げ部分９１の長さを検出する検出手段として、実施形態では超音波式の距離センサ７０を用いていたが、これに代えて赤外線式の距離センサを用いてもよく、その他の種類のセンサを用いてもよい。ループ状曲げ部分９１の先端部までの距離を測定する方式に限られず、ループ状曲げ部分９１の横幅を測定する方式やループ形状を直接的に測定する方式のセンサを用いてもよい。
隣り合うロール電極２０の両方の回転速度を、一方は増速方向に、他方は減速方向にそれぞれ変速することにより、ループ状曲げ部分９１の長さを制御することにしてもよい。
本発明は、エッチング、アッシング、成膜、洗浄、表面改質等の種々のプラズマ表面処理に適用可能である。 As the detection means for detecting the length of the loop-shaped bent portion 91, the ultrasonic distance sensor 70 is used in the embodiment. However, an infrared distance sensor may be used instead of this, and other types of distance sensors may be used. A sensor may be used. The sensor is not limited to the method of measuring the distance to the tip of the loop-shaped bent portion 91, but may be a sensor of a method of measuring the lateral width of the loop-shaped bent portion 91 or a method of directly measuring the loop shape.
You may decide to control the length of the loop-shaped bending part 91 by shifting the rotational speed of both the adjacent roll electrodes 20, one side in the speed-up direction and the other in the speed-down direction.
The present invention is applicable to various plasma surface treatments such as etching, ashing, film formation, cleaning, and surface modification.

本発明は、例えば液晶ディスプレイの偏光板の保護膜として用いられるＴＡＣフィルム（トリアセテートセルロースフィルム）に対する鹸化処理に代わる表面処理として利用可能である。   The present invention can be used as a surface treatment instead of a saponification treatment for a TAC film (triacetate cellulose film) used as a protective film for a polarizing plate of a liquid crystal display, for example.

本発明の第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を、一部断面で示す正面図である。It is a front view which shows the atmospheric pressure plasma processing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention in a partial cross section. 図１のII−II線に沿う、上記大気圧プラズマ処理装置の側面図である。It is a side view of the said atmospheric pressure plasma processing apparatus which follows the II-II line | wire of FIG. 上記大気圧プラズマ処理装置のギャップ部分及びループ状曲げ部分を拡大して示す正面図である。It is a front view which expands and shows the gap part and loop-shaped bending part of the said atmospheric pressure plasma processing apparatus. 上記大気圧プラズマ処理装置の処理ガス噴出ノズルを示し、（ａ）は、その側面断面図であり、（ｂ）は、その底面図である。The process gas ejection nozzle of the said atmospheric pressure plasma processing apparatus is shown, (a) is the side surface sectional drawing, (b) is the bottom view. 上記処理ガス噴出ノズルの正面断面図である。It is front sectional drawing of the said process gas ejection nozzle. 上記大気圧プラズマ処理装置のカーテンガス噴出ノズルの側面図である。It is a side view of the curtain gas ejection nozzle of the atmospheric pressure plasma processing apparatus. 上記カーテンガス噴出ノズルの正面図である。It is a front view of the said curtain gas ejection nozzle. 第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の変形例を示す正面図である。It is a front view which shows the modification of the atmospheric pressure plasma processing apparatus which concerns on 1st Embodiment. 本発明の第２実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the atmospheric pressure plasma processing apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の要部を示す正面図である。It is a front view which shows the principal part of the atmospheric pressure plasma processing apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ 大気圧プラズマ処理装置
２ 電源
３ 処理ガス源
６ 吸引排気手段
２０（２０Ｌ，２０Ｃ，２０Ｒ） ロール電極
２０Ｃ 中央ロール電極
２０Ｌ 第１側部ロール電極
２０Ｒ 第２側部ロール電極
２０（２１Ｌ，２１Ｒ） ギャップ
２１Ｌ 第１ギャップ
２１Ｒ 第２ギャップ
３０ ノズルヘッド
３２ｅ センターボディのアーチ面
３３ 処理ガスノズル（処理ガス噴出部）
３３Ｘ 上側ノズル（第１処理ガス噴出部）
３３Ｙ 下側ノズル（第２処理ガス噴出部）
３３ｅ 処理ガスノズルのアーチ面
３４ カーテンガスノズル
３４ｅ カーテンガスノズルのアーチ面
５０（５０Ｌ，５０Ｃ，５０Ｒ） モータ
７０（７０Ｌ，７０Ｒ） 距離センサ（検出手段）
７０Ｌ 第１距離センサ（第１検出手段）
７０Ｌ 第２距離センサ（第２検出手段）
８０ 回転制御手段
９０ 被処理基材
９０ａ 被処理面
９１（９１Ｌ，９１Ｒ） ループ状曲げ部分
９１Ｌ 第１ループ状曲げ部分
９１Ｒ 第２ループ状曲げ部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Atmospheric pressure plasma processing apparatus 2 Power supply 3 Processing gas source 6 Suction exhaust means 20 (20L, 20C, 20R) Roll electrode 20C Central roll electrode 20L First side roll electrode 20R Second side roll electrode 20 (21L, 21R) Gap 21L 1st gap 21R 2nd gap 30 Nozzle head 32e Arch surface 33 of center body Process gas nozzle (process gas ejection part)
33X Upper nozzle (first process gas ejection part)
33Y Lower nozzle (second processing gas ejection part)
33e Arch surface 34 of process gas nozzle Curtain gas nozzle 34e Arch surface 50 (50L, 50C, 50R) of curtain gas nozzle Motor 70 (70L, 70R) Distance sensor (detection means)
70L first distance sensor (first detection means)
70L second distance sensor (second detection means)
80 Rotation control means 90 Processed substrate 90a Processed surface 91 (91L, 91R) Loop-shaped bent portion 91L First loop-shaped bent portion 91R Second loop-shaped bent portion

Claims (12)

連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する方法であって、
互いの間に前記放電空間となるギャップを形成する一対のロール電極を用意し、
前記基材を、その被処理面が表側になるようにして一方のロール電極の周面の一側に巻き付けるとともに、前記ギャップに通してギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げ、再び前記ギャップに通して他方のロール電極の周面の前記一方の電極と同じ側に巻き付けた状態で、前記ロール電極どうしを互いに同方向に回転させ、しかも、前記ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体をフリー状態としたことを特徴とするプラズマ処理方法。 A method of performing plasma treatment on a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
Prepare a pair of roll electrodes that form a gap to be the discharge space between each other,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of one of the roll electrodes so that the treated surface is on the front side, and is bent in a loop on the opposite side of the winding side from the gap through the gap. The roll electrodes are rotated in the same direction while being wound around the same side as the one electrode on the peripheral surface of the other roll electrode again through the gap, and at least the loop-shaped bent portion is processed. A plasma processing method, wherein the entire surface is in a free state. 前記一方のロール電極の回転速度を、他方のロール電極の回転速度に対して可変調節することにより、前記基材の前記ループ状曲げ部分の長さを調節することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。   The length of the loop-shaped bent portion of the base material is adjusted by variably adjusting the rotation speed of the one roll electrode with respect to the rotation speed of the other roll electrode. The plasma processing method as described. 連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する装置であって、
互いの間に前記放電空間となるギャップを形成する一対のロール電極と、
これらロール電極の回転制御手段と、を備え、
前記基材が、その被処理面が表側になるようにして一方のロール電極の周面の一側に巻き付けられるとともに、前記ギャップを通してギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられ、再び前記ギャップを通して他方のロール電極の周面の前記一方の電極と同じ側に巻き付けられ、しかも、前記ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体がフリー状態となるようにして、前記回転制御手段にて各ロール電極を回転制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 An apparatus for plasma processing a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
A pair of roll electrodes forming a gap to be the discharge space between each other;
These roll electrode rotation control means,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of one of the roll electrodes so that the treated surface is on the front side, and is bent in a loop shape on the opposite side of the winding side from the gap through the gap. The rotation control means is again wound around the same side as the one electrode of the peripheral surface of the other roll electrode through the gap, and at least the entire surface to be processed of the loop-shaped bent portion is in a free state. A plasma processing apparatus for controlling the rotation of each roll electrode. 前記基材の前記ループ状曲げ部分の長さを検出する検出手段を、更に備え、
前記回転制御手段が、前記検出手段の検出値に応じて、前記一方のロール電極の回転速度を、他方のロール電極の回転速度に対して可変調節することを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。 Detecting means for detecting the length of the loop-shaped bent portion of the base material,
The rotation control means variably adjusts the rotation speed of the one roll electrode with respect to the rotation speed of the other roll electrode according to a detection value of the detection means. Plasma processing equipment. 前記検出手段が、非接触センサであることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 4, wherein the detection unit is a non-contact sensor. 各ロール電極の軸線がほぼ水平に向けられ、前記基材が、各ロール電極の上側部に巻き付けられ、前記ループ状曲げ部分が、前記ギャップからフリー状態で垂下されていることを特徴とする請求項３〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。   The axis of each roll electrode is oriented substantially horizontally, the base material is wound around the upper part of each roll electrode, and the loop-shaped bent part is suspended from the gap in a free state. Item 6. The plasma processing apparatus according to any one of Items 3 to 5. 処理ガスを前記ギャップより前記ループ状曲げ部分とは反対側からギャップに向けて噴出す処理ガス噴出部を含むノズルヘッドを、更に備えたことを特徴とする請求項３〜６の何れかに記載のプラズマ処理装置。   The nozzle head containing the process gas ejection part which ejects process gas toward the gap from the opposite side to the said loop-shaped bending part from the said gap is further provided. Plasma processing equipment. 前記ノズルヘッドが、前記ロール電極の周面に沿うアーチ面を含むことを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 7, wherein the nozzle head includes an arch surface along a peripheral surface of the roll electrode. 前記ループ状曲げ部分の内部に、処理ガスをギャップに向けて噴出す処理ガス噴出部を設けたことを特徴とする請求項３〜６の何れかに記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 3, wherein a processing gas ejection portion that ejects a processing gas toward the gap is provided inside the loop-shaped bent portion. 処理ガスを前記ギャップより前記ループ状曲げ部分とは反対側からギャップに向けて噴出す第１処理ガス噴出部と、処理ガスを前記ループ状曲げ部分の内部からギャップに向けて噴出す第２処理ガス噴出部と、を備えたことを特徴とする請求項３〜６の何れかに記載のプラズマ処理装置。   A first processing gas jetting portion for jetting a processing gas from the gap toward the gap from a side opposite to the loop-shaped bent portion; and a second processing for jetting a processing gas from the inside of the loop-shaped bent portion toward the gap. The plasma processing apparatus according to claim 3, further comprising a gas ejection unit. 連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する装置であって、
中央のロール電極と、この中央ロール電極を挟むようにしてその両側にそれぞれ配置された第１、第２の側部ロール電極と、
これら３つのロール電極の回転制御手段と、を備え、
前記中央ロール電極と前記第１側部ロール電極との間に前記放電空間となる第１ギャップが形成され、
前記中央ロール電極と前記第２側部ロール電極との間に他の放電空間となる第２ギャップが形成され、
前記基材が、その被処理面が表側になるようにして前記第１側部ロール電極の周面の一側に巻き付けられるとともに、前記第１ギャップを通して第１ギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられて第１ループ状曲げ部分を形成し、再び前記第１ギャップを通して中央ロール電極の周面の前記第１側部電極と同じ側に巻き付けられ、さらに、前記第２ギャップを通して第２ギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げられて第２ループ状曲げ部分を形成し、再び前記第２ギャップを通して前記第２側部ロール電極の周面の前記第１側部ロール電極及び中央ロール電極と同じ側に巻き付けられ、しかも、前記第１ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面全体と第２ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面全体とがフリー状態となるようにして、前記回転制御手段にて各ロール電極を回転制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 An apparatus for plasma processing a continuous film-like or sheet-like substrate in a discharge space,
A central roll electrode, and first and second side roll electrodes disposed on both sides of the central roll electrode, respectively,
These three roll electrode rotation control means,
A first gap serving as the discharge space is formed between the central roll electrode and the first side roll electrode,
A second gap serving as another discharge space is formed between the central roll electrode and the second side roll electrode,
The substrate is wound around one side of the peripheral surface of the first side roll electrode so that the surface to be treated is on the front side, and the side opposite to the winding side from the first gap through the first gap. To be bent into a loop shape to form a first loop-shaped bent portion, and is wound around the same side as the first side electrode of the peripheral surface of the center roll electrode again through the first gap, and further through the second gap. The second gap is bent in a loop shape on the side opposite to the winding side from the second gap to form a second loop-shaped bent portion, and the first side portion of the peripheral surface of the second side roll electrode is again passed through the second gap. It is wound on the same side as the roll electrode and the central roll electrode, and at least the entire surface to be processed of the first loop-shaped bent portion and at least the processed surface of the second loop-shaped bent portion Whole and is made to be a free state, a plasma processing apparatus characterized by controlling the rotation of each roll electrode in the rotation control means. 前記第１ループ状曲げ部分の長さを検出する第１検出手段と、前記第２ループ状曲げ部分の長さを検出する第２検出手段とを、更に備え、
前記回転制御手段が、前記中央ロール電極を等速回転させるとともに、前記第１検出手段の検出値に応じて前記第１側部ロール電極の回転速度を可変調節し、前記第２検出手段の検出値に応じて前記第２側部ロール電極の回転速度を可変調節することを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。 A first detecting means for detecting the length of the first loop-shaped bent portion; and a second detecting means for detecting the length of the second loop-shaped bent portion;
The rotation control means rotates the central roll electrode at a constant speed, and variably adjusts the rotation speed of the first side roll electrode according to the detection value of the first detection means, and the detection of the second detection means The plasma processing apparatus of claim 11, wherein the rotation speed of the second side roll electrode is variably adjusted according to a value.
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