以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
(電荷輸送性化合物)
先ず、本発明の電荷輸送性化合物について説明する。本発明の電荷輸送性化合物は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である。
[Z−(R1)p(X)q]r−F−[D−Si(R2)(3−a)Qa]b (1)
[式中、R1はアルキレン基を示し、R2は水素原子、アルキル基又はアリール基を示し、Fは下記一般式(2)で表される基を示し、Dは−C α H 2α −(αは1〜15の整数)、−C β H 2β−2 −(βは2〜15の整数)、−C γ H 2γ−4 −(γは3〜15の整数)、−COO−、−S−、−O−、−CH 2 −C 6 H 4 −、−N=CH−、−(C 6 H 4 )−(C 6 H 4 )−、又は、これらの基を任意に組み合わせた構造を有する基を示し、Qはアルコキシ基を示し、Zは水酸基又はカルボキシル基を示し、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、aは1〜3の整数を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示し、b及びrはb+r=2〜5となるように選ばれる1〜4の整数を示す。]
ここで、上記一般式(1)中、R1はアルキレン基を示し、R2は水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。
上記一般式(1)中、Dは可とう性を有する2価の基を示し、具体的には、−C α H 2α −(αは1〜15の整数)、−C β H 2β−2 −(βは2〜15の整数)、−C γ H 2γ−4 −(γは3〜15の整数)、−COO−、−S−、−O−、−CH 2 −C 6 H 4 −、−N=CH−、−(C 6 H 4 )−(C 6 H 4 )−、又は、これらの基を任意に組み合わせた構造を有する基を示す。
上記一般式(1)中、Qは加水分解性基として、アルコキシ基が挙げられ、炭素数1〜15のアルコキシ基であることがより好ましい。
上記一般式(1)中、Zは水酸基又はカルボキシル基を示し、Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。
上記一般式(1)中、aは1〜3の整数を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示し、b及びrはb+r=2〜5となるように選ばれる1〜4の整数を示す。
上記一般式(1)中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、下記一般式(2)で表される基であ
る。
[式中、Ar
1、Ar
2、Ar
3及びAr
4はそれぞれ独立に
炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種の基により置換されたもしくは未置換のアリール基を示し、Ar
5は
炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種の基により置換されたもしくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、kは0又は1を示す。なお、Ar
1、Ar
2、Ar
3及びAr
4及びAr
5のうちの1〜4個は、前記式(1)で表される化合物における−D−Si(R
2)
(3−a)Q
aで示される部位と結合可能な結合手を有し、且つ、Ar
1、Ar
2、Ar
3、Ar
4及びAr
5のうちの1〜4個は、前記式(1)で表される化合物におけるZ−(R
1)
p(X)
q−で示される部位と結合可能な結合手を有する。]
ここで、上記一般式(2)中、Ar1、Ar2、Ar3及びAr4はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、具体的には下記式(2−1)〜(2−7)のうちのいずれかであることが好ましい。
上記式(2−1)〜(2−7)中、R6は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を示し、R7〜R9はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示し、Arは置換又は未置換のアリーレン基を示し、X1は一般式(1)中の−D−Si(R2)(3−a)Qaで表される基、又は、一般式(1)中のZ−(R1)p(X)q−で表される基を示し、m及びuはそれぞれ独立に0又は1を示し、tはそれぞれ独立に1〜3の整数を示す。
ここで、式(2−7)中のArとしては、下記式(2−7−1)又は(2−7−2)で表されるものが好ましい。
上記式(2−7−1)及び(2−7−2)中、R10及びR11はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、未置換若しくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基又はハロゲン原子を示し、tはそれぞれ独立に1〜3の整数を示す。
また、式(2−7)中のZ’としては、下記式(2−7−3)〜(2−7−10)のうちのいずれかで表されるものが好ましい。
−(CH
2)
g− (2−7−3)
−(CH
2CH
2O)
h− (2−7−4)
上記式(2−7−3)〜(2−7−10)中、R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、未置換若しくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基又はハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示し、Wは2価の基を示し、g及びhはそれぞれ独立に1〜10の整数を示し、tはそれぞれ独立に1〜3の整数を示す。
上記式(2−7−9)及び(2−7−10)中のWとしては、下記(2−7−11)〜(2−7−19)で表される2価の基のうちのいずれかであることが好ましい。
−CH
2− (2−7−11)
−C(CH
3)
2− (2−7−12)
−O− (2−7−13)
−S− (2−7−14)
−C(CF
3)
2− (2−7−15)
−Si(CH
3)
2− (2−7−16)
上記式(2−7−18)中、iは0〜3の整数を示す。
また、一般式(2)中、Ar5は、kが0のときはAr1〜Ar4の説明で例示されたアリール基であることが好ましく、kが1のときはかかるアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基であることが好ましい。
上記一般式(1)で表される電荷輸送性化合物の具体例としては、下記の表1〜5に示す化合物(5−1)〜(5−28)が挙げられる。なお、Meはメチル基を、iPrはイソプロピル基を表わす。
以上説明した本発明の電荷輸送性化合物は、電子写真感光体における感光層の構成材料として非常に有用である。そして、かかる電荷輸送性化合物を用いることによって、摩擦特性の改善、繰り返し使用時の残留電位の上昇の抑制、及び、感光体への汚染物等の付着の抑制の全てを同時に達成することが可能な電子写真感光体を得ることができる。また、上記の効果をより十分に得る観点から、本発明の電荷輸送性化合物は感光体の最表面層(導電性支持体から最も遠い位置に配置される層)に含有されることが好ましく、感光体が最表面層として保護層を備えており、この保護層に本発明の電荷輸送性化合物が含有されることが特に好ましい。
(電荷輸送性化合物の製造方法)
次に、上述した本発明の電荷輸送性化合物を製造するための製造方法について説明する。
一般的に、アルコキシシリル基を持つ化合物の合成法としては、アルケンもしくはアルキンとヒドロキシシラン化合物とを反応(ヒドロシリル化反応)させる方法が知られている。しかし、ヒドロシリル化反応は還元体、異性体などの副生成物を生成するため、有機半導体として用いるためには純度が十分ではない。その他の合成法としては、ハロゲン化合物と活性水素を持つ化合物とを反応(脱ハロゲン化水素反応)させる方法がある。本発明の電荷輸送性化合物は、脱ハロゲン化水素反応により効率的に製造することができる。
すなわち、本発明の電荷輸送性化合物は、下記一般式(1−1)で表される化合物と下記一般式(1−2)で表される化合物とを溶媒中で反応させ、上記一般式(1)で表される本発明の電荷輸送性化合物を含む反応溶液を得る反応工程を有する製造方法によって効率的に且つ確実に製造することができる。
[Z−(R1)p(X)q]s−F (1−1)
[式中、R1はアルキレン基を示し、Fは前記一般式(2)で表される基を示し、Zは水酸基又はカルボキシル基を示し、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示し、sは2〜5の整数を示す。]
Y−D−Si(R2)(3−a)Qa(1−2)
[式中、R2は水素原子、アルキル基又はアリール基を示し、Yはハロゲン原子を示し、Dは−C α H 2α −(αは1〜15の整数)、−C β H 2β−2 −(βは2〜15の整数)、−C γ H 2γ−4 −(γは3〜15の整数)、−COO−、−S−、−O−、−CH 2 −C 6 H 4 −、−N=CH−、−(C 6 H 4 )−(C 6 H 4 )−、又は、これらの基を任意に組み合わせた構造を有する基を示し、Qはアルコキシ基を示し、aは1〜3の整数を示す。]
ここで、一般式(1−2)で表される化合物の使用量(モル数)は、適宜、最適な量を用いることが好ましく、特に限定されるのもではないが、例えば、化合物(1−1)1モルに対して、化合物(1−2)の好ましい量は、0.6×bモル〜1.4×bモル、より好ましくは0.8×bモル〜1.2×bモルである。ここで、上記bの値は、上記一般式(1)におけるbの値を示す。化合物(1−2)の使用量が1.4×bモルを超える場合、極性の低い副生成物が増え、精製が困難になる傾向がある。また、化合物(1−2)の使用量が0.6×bモル未満である場合、収量が極端に減少してしまう傾向がある。
また、上記製造方法においては、下記一般式(1−1)で表される化合物と下記一般式(1−2)で表される化合物とを溶媒中で反応させる際に、溶媒中に塩基を加えてカップリングを行うことが好ましい。用いる塩基としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ピリジン、トリエチルアミン、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化ナトリウム等が挙げられる。これらの中でも、加水分解性置換基を有するケイ素化合物の塩基に対する安定性を考慮すると、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが好ましい。
塩基の使用量は、用いる原料の種類や反応速度に応じて任意に設定できるが、使用量が多くなり過ぎるとその処理、分離等が困難になるため、一般式(1−2)で表される化合物1モルに対して、好ましくは1〜10モル、より好ましくは1〜1.5モルの使用量で用いられる。
また、溶媒としては、水、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ペンタン、ベンゼン、キシレン等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上を混合した混合溶媒として用いることができる。なお、溶媒は脱水して用いることが好ましい。これらの中でも、選択性の高さ、反応後の分離の容易さ等を考慮すると、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水性極性溶媒が特に好ましい。また、カップリング反応を行う際の溶媒の温度は30〜100℃とすることが好ましく、0〜50℃とすることがより好ましい。
溶媒の使用量は、一般式(1−1)で表される化合物1質量部に対して1〜100質量部であることが好ましく、2〜50質量部であることがより好ましい。
本発明の製造方法においては、上記一般式(1−1)で表される化合物と上記一般式(1−2)で表される化合物との反応により生じた塩基性不純物及び副生成物を反応溶液中から除去するために、上記反応工程で得られた反応溶液と吸着剤とを接触させる除去工程を更に行うことが好ましい。
本発明の電荷輸送性化合物は、上記の反応工程で得られた塩基性不純物等を含むケイ素化合物を吸着剤と接触させて不純物を取り除くことにより効率良く製造することができる。
吸着剤としては、塩基性不純物及び副生成物の両方を効率良く取り除くことができるため固体酸性物質が好ましく用いられる。用いる固体酸性物質としては、シリカゲル、酸性アルミナ、活性白土、SiO2/Al2O3、SiO2/MgO、SiO2/ZrO2、SiO2/B2O3/Al2O3、各種ゼオライト、各種ヘテロポリ酸、各種リン酸塩、各種硫酸塩、H3PO4/ケイソウ土(固体リン酸)、陽イオン交換樹脂等を主なものとして挙げることができる。これらの中でも、コストや取扱いの容易さを考慮すると、シリカゲル、酸性アルミナ、活性白土等が好ましい。
吸着剤と反応溶液とを接触させる際の接触時間は、1秒〜90分であることが好ましく、30秒〜90分であることがより好ましく、1〜20分であることが更に好ましい。このときの温度は、30〜100℃であることが好ましく、5〜40℃であることがより好ましい。なお、この操作は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
固体酸性物質と反応溶液との接触は、桐山ロート、ヌッチェ、ガラスロート、ガラスフィルター、カラムクロマトグラフィー用のガラス管等に固体酸性物質を敷き、その上から不純物を含む反応溶液を流すことによって接触させる方法や、反応溶液中に固体酸性物質を入れ、機械的に撹拌して接触させる方法等により行うことができる。
以上説明した製造方法により、本発明の電荷輸送性化合物を効率的に且つ確実に製造することができる。
(電子写真感光体)
次に、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について説明する。
図1は、本発明の電子写真感光体の第1実施形態を示す模式断面図である。図1に示した電子写真感光体100は、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性支持体3上に、下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5が順次積層された構造を有するものである。電子写真感光体100においては、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5により感光層6が構成されている。そして、後述するように、保護層5は上記本発明の電荷輸送性化合物を構成材料として含有している。
導電性支持体3としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
また、電子写真感光体100がレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性支持体3表面は、中心線平均粗さRaが0.04〜0.5μmとなるように粗面化することが好ましい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて導電性支持体3に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性支持体3を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化、あるいは、有機又は無機の半導電性微粒子を含有する層を導電性支持体3表面に形成する方法などが好ましい。Raが0.04μm未満であると、鏡面に近くなるため干渉防止効果が不十分となる傾向にあり、Raが0.5μmを超えると、画質が粗くなる傾向にある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止のための粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極として電解質溶液中で陽極酸化することにより、アルミニウム表面に酸化膜を形成する処理である。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
陽極酸化膜の膜厚は、0.3〜15μmであることが好ましい。膜厚が0.3〜15μmであると、上述した干渉縞を防止する効果の他に、更に、導電性支持体3への電荷の注入に対するバリア性を向上する効果と、繰り返し使用時の残留電位の上昇を抑制する効果とを得ることができる。但し、膜厚が0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が不十分となる傾向にある。また、膜厚が15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を抑制する効果が不十分となる傾向にある。
また、導電性支持体3には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が10〜11質量%の範囲、クロム酸が3〜5質量%の範囲、フッ酸が0.5〜2質量%の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5〜18質量%の範囲が好ましい。処理温度は42〜48℃が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚は、0.3〜15μmが好ましい。0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
ベーマイト処理は、90〜100℃の純水中に5〜60分間浸漬すること、又は90〜120℃の加熱水蒸気に5〜60分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚は、0.1〜5μmが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
有機又は無機の半導電性微粒子を含有する層を形成する場合、有機又は無機の半導電性微粒子としては、特開昭47−30330号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミ等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中では、酸化亜鉛、酸化チタンが電荷輸送能が高く厚膜化に有効であり、好ましい。
これら顔料の表面は、分散性改善又はエネルギーレベルの調整等の目的でチタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等で表面処理してもよい。特に、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−2−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−2−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤で処理することが好ましい。
有機又は無機の半導電性微粒子は多すぎると層の強度が低下して塗膜欠陥を生じるため、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下で使用される。
有機又は無機の半導電性微粒子の混合/分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる方法が適用される。混合/分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有期金属化合物や樹脂を溶解し、また、有機又は無機の半導電性微粒子を混合/分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。
有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独で又は2種以上混合して用いることができる。
下引層4は、有機金属化合物及び結着樹脂を含有して構成される。有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。有機金属化合物としては、特に、有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物が残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることができる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
また、下引層4には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−2−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−2−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させることもできる。
また、下引層4中には、電子輸送性顔料を混合/分散することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭47−30330号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が上げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引層の強度を低下させ、塗膜欠陥を生じる原因となるため、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下で使用される。
下引層4は、上記各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。
下引層形成用塗布液の混合/分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用される。混合/分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有期金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合/分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。
有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
また、下引層4を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
塗布後、塗膜を乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性支持体3は、その欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層4を形成することが好ましい。
下引層4の膜厚は、好ましくは0.1〜30μm、より好ましくは0.2〜25μmが適当である。
電荷発生層1は、電荷発生材料を含有して、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有して構成される。
電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料等既知のもの全て使用することができる。電荷発生材料としては、380nm〜500nmの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が好ましく、700nm〜800nmの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平5−263007号公報及び特開平5−279591号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−140472号公報及び特開平5ー140473号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、又は特開平4−189873号公報及び特開平5−43813号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
電荷発生層1は、上記電荷発生材料を用いて蒸着により、又は上記電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷発生層形成用塗布液は、電荷発生材料と結着樹脂の配合比(質量比)が、10:1〜1:10であることが好ましい。また、これらを分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件が必要とされる。ちなみに、上記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。
さらに、この分散の際、粒子を好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.3μm以下、さらに好ましくは0.15μm以下の粒子サイズにすることが有効である。
また、これらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
また、電荷発生層1を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
電荷発生層1の膜厚は、好ましくは0.1〜5μm、より好ましくは0.2〜2.0μmである。
電荷輸送層2は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。
また、電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式(6−1)、(6−2)又は(6−3)で表される化合物が好ましい。
上記式(6−1)中、R14は水素原子又はメチル基を示し、n1は1又は2を示す。また、Ar11及びAr12は置換もしくは未置換のアリール基を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、又は炭素数1〜3のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
上記式(6−2)中、R15、R15’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、を示す。また、R16、R16’、R17及びR17’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜2のアルキル基で置換されたアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、−C(R18)=C(R19)(R20)、又は、−CH=CH−CH=C(Ar)2を示し、R18、R19、R20は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Arは、置換もしくは未置換のアリール基を示す。n2及びn3は0〜2の整数を示す。
上記式(6−3)中、R21は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−CH=CH−CH=C(Ar)2を示す。Arは、置換又は未置換のアリール基を示す。R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜2のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比(質量比)は10:1〜1:5が好ましい。
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
電荷輸送層2は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて構成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法を使用できる。
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層1上に塗布する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
電荷輸送層2の膜厚は、好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜30μmである。
保護層5は、表面層の磨耗、傷などに対する耐性を持たせるために設けられる層であり、結着樹脂中に導電性微粒子を分散したもの、通常の電荷輸送層材料にフッ素樹脂、アクリル樹脂などの潤滑性微粒子を分散させたもの、シリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用したもの等により構成される。
そして、この保護層5には、上述した本発明の電荷輸送性化合物が含有されている。本発明の電荷輸送性化合物を保護層5に含有させることにより、電子写真感光体は、摩擦特性の改善、繰り返し使用時の残留電位の上昇の抑制、及び、感光体への汚染物等の付着の抑制の全てを同時に達成することができる。
保護層5における本発明の電荷輸送性化合物の含有量は、上述した本発明の効果をより十分に得る観点から、保護層5の固形分全量を基準として20〜100質量%とすることが好ましく、30〜80質量%とすることがより好ましい。
また、本発明の電荷輸送性化合物とともに架橋構造を形成するために種々な材料を用いることができるが、特性上、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シロキサン樹脂などが好ましく、これらの中でもフェノール樹脂、エポキシ樹脂、シロキサン系樹脂およびそれらの混合樹脂が特に好ましい。
また、保護層5には、電気特性、膜強度、クリーニング性などのコントロールのため、上記一般式(1)で表される電荷輸送性化合物以外の他の電荷輸送材料を添加することもできる。他の電荷輸送材料としては、下記一般式(7)〜(9)で表される化合物が挙げられる。
F−[D−Si(R2)(3−a)Qa]b (7)
[式中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Dは可とう性を有する2価の基を示し、R2は水素、アルキル基、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Qは加水分解性基を示し、aは1〜3の整数、bは1〜4の整数を示す。]
F−[(X)qR1−Z”H]r (8)
[式中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、R1はアルキレン基を示し、Z”は酸素原子、硫黄原子、NH又はCO2を示し、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、qは0又は1を示し、rは1〜4の整数を示す。]
F−[(X)q−(R1)p−(Z”)lG]o (9)
[式中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、R1はアルキレン基を示し、Z”は酸素原子、硫黄原子、NH又はCO2を示し、Gは−CH(O)CH2、又は、−CH2CH(O)CH2を示し、l、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示し、oは2〜4の整数を示す。]
ここで、上記一般式(7)〜(9)におけるFは、下記一般式(2’)で表される基であることが好ましい。
上記式(2’)中、Ar1’、Ar2’、Ar3’及びAr4’はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、Ar5’は置換もしくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、kは0又は1を示す。なお、上記一般式(7)におけるFが上記式(2’)で表される基である場合、Ar1’、Ar2’、Ar3’、Ar4’及びAr5’のうちの1〜4個は、一般式(7)における−D−Si(R2)(3−a)Qaで示される部位と結合可能な結合手を有する。また、上記一般式(8)におけるFが上記式(2’)で表される基である場合、Ar1’、Ar2’、Ar3’、Ar4’及びAr5’のうちの1〜4個は、一般式(8)における−(X)qR1−Z”Hで示される部位と結合可能な結合手を有する。更に、上記一般式(9)におけるFが上記式(2’)で表される基である場合、Ar1’、Ar2’、Ar3’、Ar4’及びAr5’のうちの2〜4個は、一般式(9)における−(X)q−(R1)p−(Z”)lGで示される部位と結合可能な結合手を有する。
また、上記一般式Ar1’、Ar2’、Ar3’、Ar4’及びAr5’の具体例としては、上記一般式(2)におけるAr1、Ar2、Ar3、Ar4及びAr5の具体例として示したものと同様のものが挙げられる。
上記一般式(7)で表される化合物の具体例としては、下記の表6〜11に示す化合物(7−1)〜(7−61)が挙げられる。下記化合物(7−1)〜(7−61)は、一般式(2’)で表わされる化合物のAr1’、Ar2’、Ar3’、Ar4’、Ar5’及びkを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基(S)を下記の表に示される特定のものとしたものである。なお、下記表中、Meはメチル基を、Etはエチル基を、iPrはイソプロピル基を表わす。また、一般式(7)で表される化合物はこれらに限定されるものではない。
上記一般式(8)で表わされる化合物の具体例としては、下記化合物(8−1)〜(8−26)を挙げることができる。なお、下記表中、Me又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Etはエチル基を示す。
上記一般式(9)で表わされる化合物の具体例としては、下記化合物(9−1)〜(9−38)を挙げることができる。なお、下記表中、Me又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Etはエチル基を示す。
また、保護層5には、保護層5の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式(10)で表わされる化合物を添加することもできる。
Si(R30)(4−c)Qc (10)
上記式(10)中、R30は水素原子、アルキル基又は置換もしくは未置換のアリール基を示し、Qは加水分解性基を示し、cは1〜4の整数を示す。
上記一般式(10)で表わされる化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン(c=4);メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン(c=3);ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン(c=2);トリメチルメトキシシラン等の1官能アルコキシシラン(c=1)等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには3及び4官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには1及び2官能のアルコキシシランが好ましい。
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−40−2239(以上、信越シリコーン社製)、及びAY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等を用いることができる。
また、保護層5には、その強度を高めるために、下記一般式(11)に示すような2つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
B−(Si(R2)(3−a)Qa)2 (11)
上記式(11)中、Bは2価の有機基を示し、R2は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Qは加水分解性基を示し、aは1〜3の整数を示す。
上記一般式(11)で表わされる化合物として具体的には、下記化合物(11−1)〜(11−17)が好ましいものとして挙げることができる。
さらに、膜特性のコントロール、液寿命の延長等のため、アルコール系、ケトン系溶剤に可溶な樹脂を添加してもよい。このような樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂(たとえば積水化学社製エスレックB、K等)、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
また、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長等の目的で種々の樹脂を添加することができる。特にシロキサン系樹脂の場合はアルコールに溶解する樹脂を加えることが好ましい。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂(たとえば積水化学社製エスレックB、K等)、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
上記樹脂の分子量は2000〜100000が好ましく、5000〜50000がさらに好ましい。分子量は2000より小さいと所望の効果が得られなくなる傾向があり、100000より大きいと溶解度が低くなり添加量が限られてしまったり、塗布時に製膜不良の原因になったりする傾向がある。添加量は保護層5の固形分全量を基準として1〜40質量%が好ましく、1〜30質量%がさらに好ましく、5〜20質量%が最も好ましい。添加量が1質量%未満であると所望の効果が得られにくくなる傾向にあり、40質量%を超えると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる傾向にある。また、これらの樹脂は単独で用いてもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。
また、保護層5の膜特性のコントロールのため、保護層5には下記一般式(4)で表される繰り返し構造単位を持つ環状化合物又はその誘導体のうちの少なくとも一種を含有させることが好ましい。
上記式(4)中、A1及びA2はそれぞれ独立に1価の有機基を示す。
上記一般式(4)で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は1種を単独で用いてもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。
更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性を改善するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、2種以上を併用してもよい。
微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が好ましくは1〜100nm、より好ましくは10〜30nmであり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層5中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層5の固形分全量を基準として好ましくは0.1〜50質量%の範囲、より好ましくは0.1〜30質量%の範囲で用いられる。
ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径が好ましくは1〜500nm、より好ましくは10〜100nmであり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層5中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層5の固形分全量を基準として好ましくは0.1〜30質量%の範囲であり、より好ましくは0.5〜10質量%の範囲である。
また、その他の微粒子としては、4弗化エチレン、3弗化エチレン、6弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や、“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 p89”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子、ZnO−Al2O3、SnO2−Sb2O3、In2O3−SnO2、ZnO−TiO2、ZnO−TiO2、MgO−Al2O3、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。
また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層5にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Sumilizer BHT−R」、「Sumilizer MDP−S」、「Sumilizer BBM−S」、「Sumilizer WX−R」、「Sumilizer NW」、「Sumilizer BP−76」、「Sumilizer BP−101」、「Sumilizer GA−80」、「Sumilizer GM」、「Sumilizer GS」以上住友化学社製、「IRGANOX1010」、「IRGANOX1035」、「IRGANOX1076」、「IRGANOX1098」、「IRGANOX1135」、「IRGANOX1141」、「IRGANOX1222」、「IRGANOX1330」、「IRGANOX1425WL」、「IRGANOX1520L」、「IRGANOX245」、「IRGANOX259」、「IRGANOX3114」、「IRGANOX3790」、「IRGANOX5057」、「IRGANOX565」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブAO−20」、「アデカスタブAO−30」、「アデカスタブAO−40」、「アデカスタブAO−50」、「アデカスタブAO−60」、「アデカスタブAO−70」、「アデカスタブAO−80」、「アデカスタブAO−330」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールLS2626」、「サノールLS765」、「サノールLS770」、「サノールLS744」、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」、「マークLA57」、「マークLA67」、「マークLA62」、「マークLA68」、「マークLA63」、「スミライザーTPS」、チオエーテル系としては、「スミライザーTP−D」、ホスファイト系としては、「マーク2112」、「マークPEP・8」、「マークPEP・24G」、「マークPEP・36」、「マーク329K」、「マークHP・10」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
保護層5は、上述した各構成材料を含有する保護層形成用塗布液を用いて形成される。
保護層形成用塗布液又は保護層形成用塗布液作成時には、触媒を添加又は用いることが好ましい。かかる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒が挙げられる。
さらに、以下に示すような系に不溶な固体触媒を用いることもできる。アンバーライト15、アンバーライト200C、アンバーリスト15E(以上、ローム・アンド・ハース社製);ダウエックスMWC−1−H、ダウエックス88、ダウエックスHCR−W2(以上、ダウ・ケミカル社製);レバチットSPC−108、レバチットSPC−118(以上、バイエル社製);ダイヤイオンRCP−150H(三菱化成社製);スミカイオンKC−470、デュオライトC26−C、デュオライトC−433、デュオライト−464(以上、住友化学工業社製);ナフィオン−H(デュポン社製)等の陽イオン交換樹脂;アンバーライトIRA−400、アンバーライトIRA−45(以上、ローム・アンド・ハース社製)等の陰イオン交換樹脂;Zr(O3PCH2CH2SO3H)2,Th(O3PCH2CH2COOH)2等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体;スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン;コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸;ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸;シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、CaO、MgO等の単元系金属酸化物;シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物;酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物;LiSO4,MgSO4等の金属硫酸塩;リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩;LiNO3,Mn(NO3)2等の金属硝酸塩;シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体;アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
また、保護層形成用塗布液の調製の際に、光機能性化合物、反応生成物、水、溶剤などに不溶な固体触媒を用いると、塗工液の安定性が向上する傾向にあるため好ましい。系に不溶な固体触媒とは、触媒成分が、架橋構造を有する樹脂を形成するための材料、他の添加剤、水、溶剤等に不溶であれば特に限定されない。これらの固体触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計100質量部に対して0.1〜100質量部が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、原料化合物、反応生成物、溶剤などに不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて適宜選択されるものであるが、反応温度は通常0〜100℃、好ましくは10〜70℃、より好ましくは15〜50℃であり、反応時間は好ましくは10分〜100時間である。反応時間が前記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある。
保護層形成用塗布液の調製の際に、系に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらに系に溶解する触媒を併用することが好ましい。そのような触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ(sec−ブチレート)、モノ(sec−ブトキシ)アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(エチルアセトアセテート)モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムジイソプロポキシ(アセチルアセトネート)、アルミニウムイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(トリフルオロアセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
また、有機アルミニウム化合物以外には、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機スズ化合物;チタニウムテトラキス(アセチルアセトネート)、チタニウムビス(ブトキシ)ビス(アセチルアセトネート)、チタニウムビス(イソプロポキシ)ビス(アセチルアセトネート)等の有機チタニウム化合物;ジルコニウムテトラキス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムビス(ブトキシ)ビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムビス(イソプロポキシ)ビス(アセチルアセトネート)等のジルコニウム化合物;等も使用することができるが、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。これらの触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計100質量部に対して0.1〜20質量部が好ましく、0.3〜10質量部が特に好ましい。
また、本発明において有機金属化合物を触媒として用いた場合は、ポットライフ、硬化効率の面から、ともに多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類;アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類;ビピリジン及びその誘導体;グリシン及びその誘導体;エチレンジアミン及びその誘導体;8−オキシキノリン及びその誘導体;サリチルアルデヒド及びその誘導体;カテコール及びその誘導体;2−オキシアゾ化合物等の2座配位子;ジエチルトリアミン及びその誘導体;ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の3座配位子;エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)及びその誘導体等の6座配位子;等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に2座配位子が好ましく、中でも下記一般式(12)で表される2座配位子がより好ましく、下記一般式(12)中のR40とR41とが同一のものが特に好ましい。R40とR41とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。
上記式(12)中、R40及びR41は各々独立に、炭素数1〜10のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の1モルに対し、0.01モル以上、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは1モル以上とするのが好ましい。
保護層5の形成は、その塗布液が液状であれば無溶媒下で行うことも可能であるが、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン;ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;等の他、種々の溶媒を使用してもよい。このような溶媒としては、沸点が100℃以下のものが好ましく、任意に混合して使用することができる。塗布液に有機ケイ素化合物を含有させる場合、溶媒が少なすぎると有機ケイ素化合物が析出しやすくなるため、有機ケイ素化合物1質量部に対し0.5〜30質量部とするのが好ましく、1〜20質量部とするのがより好ましい。
保護層形成用塗布液を電荷輸送層2上に塗布する場合、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。そして、塗布後、塗膜を乾燥させることで保護層5が形成する。
なお、塗布の際には1回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
保護層形成用塗布液中の硬化性成分を硬化させる際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、得られる樹脂の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは60℃以上、より好ましくは80〜200℃であり、反応時間は好ましくは10分〜5時間である。また、塗工液の硬化により得られる有機層を高湿度状態に保つことは、有機層の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて、得られる保護層5に表面処理を施して疎水化することもできる。
保護層5の膜厚は、0.5〜15μmが好ましく、1〜10μmがより好ましく、1〜5μmがさらに好ましい。
また、上記の保護層形成用塗布液から形成される保護層5は、優れた機械強度を有する上に光電特性も十分であるため、これをそのまま積層型感光体の電荷輸送層として用いることもできる。
感光層6には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。これらの添加剤は、感光層6を構成する電荷発生層1、電荷輸送層2又は保護層5の少なくとも一層に添加することができる。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができる。
電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やCl,CN,NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
以上、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について説明したが、本発明の電子写真感光体は上記のものに限定されるものではない。例えば、図1に示した電子写真感光体100は、導電性支持体3上に、下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5が順次積層された構造を有しているが、本発明の電子写真感光体は、例えば、下引層及び/又は保護層を有していなくてもよい。なお、電子写真感光体が保護層を有していない場合、本発明の電荷輸送性化合物は、電子写真感光体における最表面層(導電性支持体から最も遠い位置に配置される層)に含有されることが好ましい。
また、本発明の電子写真感光体は、いわゆる単層型感光体であってもよい。この場合、感光層は、電荷発生材料と結着樹脂とを含有して形成される単層型感光層を有することとなる。電荷発生材料としては機能分離型感光層における電荷発生層に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型感光層における電荷発生層及び電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様のものを用いることができる。単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、単層型感光層における固形分全量を基準として好ましくは10〜85質量%、より好ましくは20〜50質量%である。また、単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は単層型感光層における固形分全量を基準として5〜50質量%とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。単層型感光層の膜厚は、5〜50μm程度が好ましく、10〜40μmとすることがさらに好ましい。なお、単層型感光体が保護層を有さない場合、本発明の電荷輸送性化合物は上記の単層型感光層に含有されることとなる。一方、単層型感光体が保護層を有する場合、本発明の電荷輸送性化合物は保護層に含有されることが好ましい。いずれの場合でも、本発明の電荷輸送性化合物の含有量は、当該電荷輸送性化合物が含有されるべき層の固形分全量を基準として20〜100質量%とすることが好ましく、30〜80質量%とすることがより好ましい。
(画像形成装置及びプロセスカートリッジ)
次に、本発明の電子写真感光体を搭載した画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
図2は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図2に示す画像形成装置200は、電子写真感光体7と、電子写感光体7を帯電させる非接触帯電方式の帯電手段8と、帯電手段8に接続された電源9と、帯電手段8により帯電した電子写真感光体7を露光して静電潜像を形成させる露光手段10と、形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成させる現像手段11と、トナー像を電子写真感光体7から被転写媒体に転写する転写手段12と、クリーニング手段13と、除電器14と、定着手段15とを備える。
また、図3は、図2に示す本発明の画像形成装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図3に示す画像形成装置210は、電子写真感光体7を接触帯電方式により帯電させる帯電手段8を備えていること以外は、図2に示した画像形成装置200と同様の構成を有する。なお、この場合には、除電器14が設けられていないものもある。
本発明で用いられる非接触帯電方式の帯電手段8としては、コロナ放電を利用したコロトロン、スコロトロンなどが挙げられる。また、接触帯電方式の帯電手段8としては、帯電ローラーや帯電ブラシなどの接触帯電用部材を用いた帯電器が挙げられる。
接触帯電部材としては、アルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料に、カーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどを用いることができる。この金属酸化物の例としては、ZnO、SnO2、TiO2、In2O3、MoO3等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、接触帯電用部材にはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
更に、接触帯電用部材の表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、N−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、例えば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることもできる。これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型、などが挙げられる。
接触帯電用部材の電気抵抗値は、1×102〜1×1014Ωcmであることが好ましく、1×102〜1×1012Ωcmであることがより好ましい。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。また、直流+交流(直流電圧と交流電圧とを重畳したもの)の形で印加することもできる。
露光手段10としては、電子写真感光体7の表面に、半導体レーザー、LED(light emitting diode)、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光装置を用いると、電子写真感光体7の導電性支持体と感光層との間での干渉縞を防止することができる。
また、露光光源としてレーザー光を用いる場合、その発振波長としては350〜850nmが好ましく、短波長のものほど解像度に優れるため好ましい。
現像手段11としては、従来公知の現像装置等を用いることができる。また、使用される現像剤の種類及びその製造方法は特に制限されず、例えば結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を混練、粉砕、分級する混練粉砕法、混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法、結着樹脂を得るための重合性単量体と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法、結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等が使用できる。また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法など、公知の方法を使用することができるが、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
トナーは結着樹脂と着色剤、離型剤とからなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を用いてもよい。トナーの平均粒径は、2〜12μmであることが好ましく、3〜9μmであることがより好ましい。また、トナーの平均形状指数(ML2/A)は、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られることから、100〜140であることが好ましく、115〜140であることがより好ましい。
トナーに使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα―メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体を例示することができ、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等を挙げることができる。更に、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることができる。
また、トナーの着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメント・レッド48:1、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド57:1、C.I.ピグメント・イエロー97、C.I.ピグメント・イエロー17、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:3等を代表的なものとして例示することができる。
離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
また、トナーには必要に応じて帯電制御剤を添加してもよい。帯電制御剤としては、公知のものを使用することができ、例えば、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤等を用いることができる。
トナーを湿式製法で製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で、水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。トナーは、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
外添剤を添加する場合、トナー及び外添剤をヘンシェルミキサーあるいはVブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナーを湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
本発明で用いられるトナーに添加される滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用でき、これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。滑性粒子の平均粒径は0.1〜10μmが好ましく、必要に応じて粉砕して粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量はトナー100質量部に対して0.05〜2.0質量部であることが好ましく、0.1〜1.5質量部であることがより好ましい。
本発明で用いられるトナーには、電子写真感光体7表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子などを加えることができるが、研磨性に優れる無機微粒子が特に好ましい。無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。また、上記無機微粒子にテトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネートなどのチタンカップリング剤、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤などで処理を行っても良い。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理することも好ましい。
有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
無機又は有機微粒子の粒子径としては、小さすぎると研磨能力に欠け、また、大きすぎると電子写真感光体7表面に傷を発生しやすくなるため、平均粒子径で5〜1000nmであることが好ましく、5〜800nmであることがより好ましく、5〜700nmであることが特に好ましい。また、無機及び有機微粒子のトナーへの添加量は、トナー100質量部に対し滑性粒子の添加量との和として0.6質量部以上であることが好ましい。
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、平均一次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンとを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれらの表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。
転写手段12としては、ローラー状の接触帯電部材の他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、あるいはコロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等が挙げられる。
転写後の電子写真感光体7の表面には未転写のトナーが残存し得るが、かかる残存トナーはクリーニング手段13により除去することができる。クリーニング手段13としては、ブレード、磁気ブラシ、導電性ファイバーブラシなどのクリーニング部材を備えるものが好ましく使用される。以下、クリーニング手段13の一例としてブレード部材を備えるクリーニング装置について詳述する。
ブレードの材料は特に限定されないが、例えばポリエチレンアジぺート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオールなどのポリオールとジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートとからなるウレタンプレポリマー、並びに1,4−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものが、得られるブレード部材が耐摩耗性にすぐれ、機械的強度が大きいという点から好ましい。また、ブレード部材の構成材料であるウレタンプレポリマーとしては、例えばNCO基の含有量が4〜10質量%程度、70℃での粘度が1000〜3000cP程度のものが好ましく用いられる。
ブレード部材の厚さは、感光体の表面の残存トナーを除去するために十分な強度を有するような程度であればよく、特に限定されないが、通常1〜3mm程度であることが好ましい。また、例えば紫外線などを照射することによって反応硬化する接着剤などを用いて、ブレード部材と後述する取付金具とを接着せしめてクリーニングブレードを得ようとする場合、ブレード部材は、透明で、紫外線などを透過し得る厚さを有することが好ましい。また、ブレード部材のゴム硬度は、電子写真感光体7の表面の残存トナーを除去するために十分な強度を有するような程度であればよく、特に限定されないが、通常65〜80(JIS K6253 Aタイプ硬度計による測定値)程度であることが好ましい。
ブレード部材の製造の際には、例えば以下のような方法を採用することができる。まず、所望の配合量となるように調整したブレード材料の原料を、例えばアジターなどの混合撹拌装置を用いて1〜3分間程度撹拌、混合して混合液とし、これを120〜160℃程度で100〜300rpm程度で回転している、例えば遠心成形機の成形ドラム型内へ注入した後、成形ドラム型の回転数を600〜1200rpm程度に上げ、注入された混合液が成形ドラム型の内面に均一に拡がって注入時に巻き込まれた気泡がその表面に浮かび上がった状態のブレード材料とする。なお、ここで成形ドラム型内に注入する混合液の量は、例えば上述したような所望の厚さのブレード部材が得られるように調整すればよい。次に、成形ドラム型の回転数を600〜1200rpm程度、温度を120〜160℃程度に維持しながら、上記ブレード材料が架橋硬化する前に、例えばスプレーガンなどを用いて研磨材微粒子が均一に分散された懸濁液をブレード材料に噴霧したのち、成形ドラム型を回転させながら該ブレード材料を硬化させて研磨材微粒子を少なくともクリーニング面に存在させる。上記研磨材微粒子が均一に分散された懸濁液を得るための媒体は、研磨材微粒子およびブレード材料との相互作用を呈さないものであればよく、特に限定されないが、例えばブレード材料を得る際に通常用いられている、消泡を促進する作用を呈するジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、トリフルオロプロピルメチルポリシロキサンなどのシリコーンオイルなどを用いた場合には、研磨材微粒子を均一にブレード材料表面へ移行させることができるので好ましい。上記研磨材には研磨材微粒子が均一に分散されていればよいが、該懸濁液における研磨材微粒子の配合量によってクリーニング面に存在させる研磨材微粒子の量を調整することができるので、該研磨材微粒子は、媒体100質量部に対して1〜20質量部程度配合されていることが好ましい。また、ブレード材料の原料中に所望量の研磨材微粒子を直接混合、分散した後、成形することもできる。
懸濁液をブレード材料に噴霧するにはスプレーガンなどが用いられる。かかる噴霧の際のエアー圧や噴霧量は、クリーニング面に存在させようとする研磨材微粒子の量などに応じて調整すればよいが、通常エアー圧は1〜10kg/cm2程度、噴霧量は0.5〜5mg/cm2程度であることが好ましい。懸濁液をブレード材料に噴霧する時期は、ブレード材料が成形ドラム型内で均一に拡がった後、ブレード材料の表面に気泡が浮かび上がった状態で、該ブレード材料が硬化する前であればよく、例えば研磨材微粒子をブレード部材の内部へ含浸させる場合の目的とする深さ等によって異なるので一概には決定することができないが、成形ドラム型内へブレード材料を入れた後、通常2〜10分間程度経過時とすることが好ましい。このようにして得られるブレード部材は、研磨材微粒子が少なくともクリーニング面に強固に付着したり、内部に浸漬しているため、引張強度、引裂強度などの物性や取付金具との接着性は低下せずに優れた耐久性を有するものである。また、遠心力によって研磨材微粒子を少なくともクリーニング面に存在せしめるので、該研磨材微粒子の懸濁液の噴霧量や噴霧する時期、成形ドラム型の回転数などを調整することによって研磨性能の程度や研磨性能の持続性をコントロールすることができる。
ブレード部材は、例えばホットメルト接着剤、両面テープなどを用いるなどして取付金具と一体化させてクリーニングブレードとし、例えばPPC用、PPP用、PPF用などの画像形成装置に装着して用いることができる。なお、取付金具には特に限定がなく、例えば通常クリーニングブレードに用いられている剛体の金属や弾性を有する金属、プラスチック、セラミックなどからなる取付金具を用いることができるが、これらの中では、無処理の鋼板、リン酸亜鉛処理やクロメート処理などの表面処理を施した鋼板、そのほかメッキ処理を施した鋼板などからなる取付金具が、特に腐蝕などの経時変化を起こさないという点から好ましい。また、ブレード部材は単層でも良いし、複数の材質を貼り合わせた積層でも良い。
電子写真感光体7の磨耗量及び表面粗さは、適正に制御することが好ましい。この制御手段としては、クリーニングブレードを電子写真感光体7に当接し、その当接圧や角度の調整、電子写真感光体7の表面層の材料の適正化、クリーニングブレードの材質による制御、研磨ロールやブラシ部材との併用による調整、電子写真感光体7の表面層の材料による強度制御、トナーに酸化アルミニウム、酸化セリウム、硫酸バリウムなどの無機微粒子を添加することによる制御、などの方法が挙げられ、これらの制御を組み合わせることによって適正な範囲に制御することが好ましい。
図4は本発明の画像形成装置の他の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図4に示す画像形成装置220はタンデム方式によりカラー画像を形成する画像形成装置であり、ハウジング400内において4つの電子写真感光体401a〜401d(例えば、電子写真感光体401aがイエロー、電子写真感光体401bがマゼンタ、電子写真感光体401cがシアン、電子写真感光体401dがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である)が中間転写ベルト409に沿って相互に並列に配置されている。
ここで、画像形成装置220に搭載されている電子写真感光体401a〜401dは、それぞれ本発明の電子写真感光体である。
電子写真感光体401a〜401dのそれぞれは所定の方向(紙面上は反時計回り)に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール402a〜402d、現像装置404a〜404d、1次転写ロール410a〜410d、クリーニングブレード415a〜415dが配置されている。現像装置404a〜404dのそれぞれにはトナーカートリッジ405a〜405dに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの4色のトナーが供給可能であり、また、1次転写ロール410a〜410dはそれぞれ中間転写ベルト409を介して電子写真感光体401a〜401dに当接している。
更に、ハウジング400内の所定の位置にはレーザー光源(露光手段)403が配置されており、レーザー光源403から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体401a〜401dの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体401a〜401dの回転工程において帯電、露光、現像、1次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト409上に重ねて転写される。
中間転写ベルト409は駆動ロール406、バックアップロール408及びテンションロール407により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、2次転写ロール413は、中間転写ベルト409を介してバックアップロール408と当接するように配置されている。バックアップロール408と2次転写ロール413との間を通った中間転写ベルト409は、例えば駆動ロール406の近傍に配置されたクリーニングブレード416により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
また、ハウジング400内の所定の位置にはトレイ(被転写媒体トレイ)411が設けられており、トレイ411内の紙などの被転写媒体500が移送ロール412により中間転写ベルト409と2次転写ロール413との間、さらには相互に当接する2個の定着ロール414の間に順次移送された後、ハウジング400の外部に排紙される。
なお、上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト409を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト409のようにベルト状であってもよく、ドラム状であってもよい。ベルト状とする場合、中間転写体の基材として用いる樹脂材料としては、従来公知の樹脂を用いることができる。例えば、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアルキレンテレフタレート(PAT)、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)/PC、ETFE/PAT、PC/PATのブレンド材料、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド等の樹脂材料及びこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。更に、樹脂材料と弾性材料とをブレンドして用いることができる。
弾性材料としては、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、NBR、クロロピレンゴム、EPDM、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等を1種類、又は2種類以上をブレンドしてなる材料を用いることができる。これらの基材に用いる樹脂材料及び弾性材料に、必要に応じて、電子伝導性を付与する導電剤やイオン伝導性を有する導電剤を1種類又は2種類以上を組み合わせて添加する。この中でも、機械強度に優れる点で、導電剤を分散させたポリイミド樹脂を用いることが好ましい。上記の導電剤としては、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリン等の導電性ポリマーを用いることができる。中間転写体として中間転写ベルト409のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの厚さは50〜500μmであることが好ましく、60〜150μmであることがより好ましいが、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。
例えば、導電剤を分散させたポリイミド樹脂からなるベルトは、特開昭63−311263号公報に記載されているように、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液中に、導電剤として5〜20質量%のカーボンブラックを分散させ、分散液を金属ドラム上に流延して乾燥した後、ドラムから剥離したフィルムを高温下に延伸してポリイミドフィルムを形成し、更に適当な大きさに切り出してエンドレスベルトとすることにより製造することができる。
上記フィルム成形は、一般には、導電剤を分散したポリアミド酸溶液の成膜用原液を円筒金型に注入して、例えば、100〜200℃に加熱しつつ500〜2000rpmの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜し、次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、300℃以上の高温でポリイミド化反応(ポリアミド酸の閉環反応)を進行させて本硬化させることにより行うことができる。また、成膜原液を金属シート上に均一な厚みに流延して、上記と同様に100〜200℃に加熱して溶媒の大半を除去し、その後300℃以上の高温に段階的に昇温してポリイミドフィルムを形成する方法もある。また、中間転写体は表面層を有していてもよい。
また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼(SUS)、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
なお、本発明にかかる被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等の被転写媒体に転写する場合は、紙等が被転写媒体である。また、中間転写体を用いる場合には、中間転写体が被転写媒体である。
更に、図5は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ300は、電子写真感光体7とともに、帯電手段8、現像手段11、クリーニング手段13、露光のための開口部18、及び除電器14を取り付けレール16を用いて組み合せて一体化したものである。そして、このプロセスカートリッジ300は、転写手段12と、定着手段15と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。このようなプロセスカートリッジ300は、例えば図2〜4に示した画像形成装置のいずれにも適用することができる。
以上のような画像形成装置及びプロセスカートリッジに用いられる電子写真感光体は、感光層が本発明の電荷輸送性化合物を含む構成を有しているため、画質欠陥を生じることなく長期にわたって安定した画像品質を得ることができる。
さらに、本発明の電子写真感光体は高い機械的強度を有しているため、電子写真感光体へのストレスが大きい接触帯電方式を採用した場合、特に優れた耐久性を示す。また、本発明の画像形成装置は、電子写真感光体を200000サイクル以上、さらに、250000サイクル以上、あるいは、300000サイクル以上も使用可能であることから、トナー、現像剤のみを単独に補給できる機構を有するものが好ましい。このような機構を有することにより、プリント1枚当たりの単価を安価にすることができる。
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
下記式(13)で表される化合物20g(42.3mmol)を三口フラスコに入れ、そこへ更にDMF(ジメチルホルムアミド)100g、炭酸カリウム6.5g、3−ヨードプロピルメチルジイソプロポキシシラン15.6g(47.2mmol)を入れた。これらをよく攪拌して混合しながら、徐々に90℃まで昇温し、5時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、酢酸エチル250gを加えた。これにより生成した塩を、シリカゲル40gを敷き詰めたヌッチェを用いてろ過し、次いで水洗して、油層を硫酸ナトリウムにて乾燥した。その後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにて精製し、淡黄色油状物として表1に示した化合物(5−2)を15g得た。得られた化合物(5−2)のIRスペクトルを図6に示す。
[実施例2]
下記式(14)で表される化合物20g(68.6mmol)を三口フラスコに入れ、そこへ更にDMF(ジメチルホルムアミド)100g、炭酸カリウム10.4g、3−ヨードプロピルメチルジイソプロポキシシラン20.4g(61.7mmol)を入れた。これらをよく攪拌して混合しながら、徐々に90℃まで昇温し、5時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、トルエン250gを加えた。これにより生成した塩を、シリカゲル40gを敷き詰めたヌッチェを用いてろ過し、次いで水洗して、油層を硫酸ナトリウムにて乾燥した。その後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにて精製し、淡黄色油状物として表1に示した化合物(5−6)を31g得た。得られた化合物(5−6)のIRスペクトルを図7に示す。
[実施例3]
先ず、円筒状アルミニウム基材を準備した。このアルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをRz=0.6μmとした。このセンタレス研磨処理が施されたアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、2質量%水酸化ナトリウム溶液で1分間エッチング処理、中和処理及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、10質量%硫酸溶液によりその表面に陽極酸化膜(電流密度1.0A/dm2)を形成した。水洗後、80℃の1質量%酢酸ニッケル溶液に20分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、表面に7μmの陽極酸化膜を形成されたアルミニウム基材を得た。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンを1質量部、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)を1質量部、及び酢酸n−ブチルを100質量部混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散させ、ガラスビーズを取り除いて電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を、得られたアルミニウム基材上に浸漬コートして100℃で10分間加熱乾燥し、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記式(15−1)で示されるベンジジン化合物を2質量部、下記式(15−2)で示される構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量39,000)を3.5質量部及びクロロベンゼンを20質量部混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、110℃で40分の加熱を行ない、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
次に、実施例1で得られた化合物(5−2)を10質量部、Me(MeO)2−Si−(CH2)6−Si−Me(OMe)2を5質量部、メチルアルコールを20質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.7質量部混合し、室温で撹拌することにより3時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール15質量部、蒸留水0.5質量部を添加し、20分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(レヂトップPL−4852、群栄化学社製)5質量部を加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体1」とする。
[実施例4]
先ず、ホーニング処理を施した円筒状アルミニウム基材を準備した。次に、ジルコニウム化合物(商品名:オルガチックスZC540、マツモト製薬社製)を100質量部、シラン化合物(商品名:A1100、日本ユニカー社製)を10質量部、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)を3質量部、イソプロパノールを400質量部、及びブタノールを200質量部混合し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液をアルミニウム基材上に浸漬塗布し、150℃で10分間加熱乾燥し、膜厚0.15μmの下引層を形成した。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、27.2°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニンを1質量部、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)を1質量部、及び酢酸n−ブチルを100質量部混合し、さらにガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散し、ガラスビーズを取り除いて電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を下引層上に浸漬塗布し100℃で10分間加熱乾燥し、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、上記式(15−1)で示されるベンジジン化合物を2質量部、上記式(15−2)で示される構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量79,000)を2.5質量部及びクロロベンゼンを25質量部混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布して110℃で40分加熱し、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
次に、実施例1で得られた化合物(5−2)を10質量部、上記化合物(7−10)を5質量部、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)メチルジメトキシシランを0.1質量部、n−プロピルアルコールを20質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール15質量部、蒸留水0.3質量部を添加し、15分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート(Al(aqaq)3)を0.5質量部、アセチルアセトンを0.5質量部、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、ブチラール樹脂(エスレックBX−L、積水化学社製)2質量部を加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体2」とする。
[実施例5]
実施例4と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、実施例1で得られた化合物(5−2)を10質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを1質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール25質量部、蒸留水0.3質量部を添加し、15分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(PR−53123、住友ベークライト社製)を5質量部、エポキシ樹脂(エピコート828、ジャパンエポキシレジン社製)を4質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、170℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体3」とする。
[実施例6]
実施例4と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、実施例1で得られた化合物(5−2)を10質量部、メチルトリメトキシランを5質量部、メタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール25質量部、蒸留水0.3質量部を添加し、15分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(フェノライト5010、大日本インキ工業社製)を5質量部、エポキシ樹脂(アデカレジンEP4088S、旭電化工業社製)を4質量部、ルブロンL2(ダイキン工業化学社製)を0.5質量部加え、さらに2mmφのガラスビーズとともにペイントシェーカーで30分間処理して分散し、ガラスビーズを取り除いて保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、160℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体4」とする。
[実施例7]
先ず、酸化亜鉛(SMZ−017N、テイカ社製)を100質量部及びトルエンを500質量部攪拌混合し、シランカップリング剤(A1100、日本ユニカー社製)を2質量部添加し、5時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で2時間焼き付けを行った。得られた表面処理酸化亜鉛を蛍光X線により分析した結果、Si元素強度は亜鉛元素強度の1.8×10−4であった。
表面処理を施した酸化亜鉛を35質量部、硬化剤としてブロック化イソシアネート(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)を15質量部、ブチラール樹脂(BM−1、積水化学社製)を6質量部、及びメチルエチルケトンを44質量部混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレートを0.005質量部、及びトスパール130(GE東芝シリコン社製)を17質量部添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、160℃で100分の乾燥硬化を行い、膜厚20μmの下引層を形成した。表面粗さは、東京精密社製表面粗さ形状測定器サーフコム570Aを使用し、測定距離2.5mm、走査速度0.3mm/secで測定し、Rz値0.24であった。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンを1質量部、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)を1質量部、及び酢酸n−ブチルを100質量部混合し、さらにガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散し、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を下引層上に浸漬塗布し100℃で10分間加熱乾燥し、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記式(15−3)で示される電荷輸送材料を2質量部、下記式(15−4)で示される構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量42,000)を3質量部及びクロロベンゼンを20質量部混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、120℃で40分の加熱を行ない、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
次に、実施例2で得られた化合物(5−6)を10質量部、メチルトリメトキシランを5質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール20質量部、蒸留水0.7質量部を添加し、15分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(レヂトップPL−4852、群栄化学社製)5質量部を加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、160℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体5」とする。
[実施例8]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、実施例2で得られた化合物(5−6)を10質量部、上記化合物(8−1)を5質量部、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)メチルジメトキシシランを0.2質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール20質量部、蒸留水0.7質量部を添加し、15分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート(Al(aqaq)3)を0.5質量部、アセチルアセトンを0.5質量部、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、ブチラール樹脂(エスレックBX−L、積水化学社製)を2質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体6」とする。
[実施例9]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、実施例2で得られた化合物(5−6)を10質量部、Me(MeO)2−Si−(CH2)6−Si−Me(OMe)2を5質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール20質量部、蒸留水1質量部を添加し、5分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(レヂトップPL−2211、群栄化学社製)を3質量部、エポキシ樹脂(エピコート154、ジャパンエポキシレジン社製)を2質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、170℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体7」とする。
[実施例10]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、実施例2で得られた化合物(5−6)を10質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを1質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール20質量部、蒸留水1質量部を添加し、25分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、ノボラック型フェノール樹脂(CMK−2400、昭和高分子社製)を3質量部、ヘキサメチレンテトラミンを2質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、170℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体8」とする。
[比較例1]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、上記化合物(8−19)を10質量部、レゾール型フェノール樹脂(PL4852、群栄化学社製)を3質量部、n−ブタノールを35質量部混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体9」とする。
[比較例2]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、上記化合物(7−8)を10質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを1質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール17質量部、蒸留水1質量部を添加し、20分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(PL4852、群栄化学社製)を3質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体10」とする。
[比較例3]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、上記化合物(7−8)を5質量部、上記化合物(8−19)を5質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを1質量部、n−ブタノールを15質量部、イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)を0.5質量部混合し、室温で撹拌することにより24時間保護基の交換反応を行った。その後、n−ブタノール17質量部、蒸留水1質量部を添加し、20分間加水分解を行なった。
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)を0.4質量部、レゾール型フェノール樹脂(PL4852、群栄化学社製)を3質量部加えて混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体11」とする。
[比較例4]
実施例7と同様にして、アルミニウム基材上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
次に、上記化合物(8−19)を10質量部、シリコーン樹脂(KP854、信越化学社製)を3質量部、n−ブタノールを35質量部混合し、保護層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で30分間風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化し、膜厚約3μmの保護層を形成した。これにより電子写真感光体の作製を完了した。なお、得られた感光体を「感光体12」とする。
[実施例11〜26及び比較例5〜8]
先ず、富士ゼロックス社製のDocuCentre color 500用現像剤を「現像剤1」として、富士ゼロックス社製のDocuCentre color 400CP用現像剤を「現像剤2」として用意した。
次に、実施例3〜10及び比較例1〜4で作製した感光体1〜12と、上記現像剤1〜2とを、下記表29に示した組み合わせで富士ゼロックス社製のDocu color 1255CPに搭載し、実施例11〜26及び比較例5〜8の画像形成装置を作製した。
得られた画像形成装置を用いて、ノーペーパー単色モードにて高温高湿(28℃、80%RH)の環境下で5000枚分の画像形成テスト(画像濃度約10%)を行い、更に低温低湿(10℃、20%RH)の環境下にて5000枚分(高温高湿環境下と合わせて1万枚)の画像形成テスト(画像濃度約10%)を行い、以下の品質評価を行った。それらの評価結果を表29に示す。
(画質の評価)
画像形成テストの1枚目の画像、及び1万枚目の画像について、1dotライン細線の再現性を、拡大鏡を用いて目視にて判断し、A:良好、B:部分的に欠陥有り(実用上は問題ないレベル)、C:欠陥有り(細線が再現できていないレベル)、の3段階で評価した。
(クリーニング性の評価)
低温低湿環境下での画像形成テストにおけるトナーのクリーニング性(クリーニング不良による帯電器の汚れや画質劣化の有無等)を目視にて判断し、A:良好、B:部分的にスジ等の画質欠陥あり(実用上は問題なし)、C:広範に画質欠陥あり(実用上の問題あり)、の3段階で評価した。
(感光体の傷の有無の評価)
合計1万枚の画像形成テストを行った後の感光体の傷の有無を目視にて判断し、S:傷無し、A:顕微鏡で部分的に傷があることが確認できる(画質上は問題なし)、B:顕微鏡を用いずに目視で部分的に傷があることが確認できる(画質上は問題なし)、C:顕微鏡を用いずに目視で傷があることが確認できる(画質上の問題あり)、の4段階で評価した。
(感光体への付着物の有無の評価)
合計1万枚の画像形成テストを行った後の感光体への汚染物等の付着物の有無を目視にて判断し、A:付着物無し、B:部分的に付着物あり(画質上は問題なし)、C:付着物あり(画質上の問題あり)、の3段階で評価した。
(感光体に対する水の接触角変化の評価)
合計1万枚の画像形成テストを行う前と後の感光体に対する水の接触角を測定し、その低下率を求めた。この接触角の低下率が小さいほど、長期間使用した場合に感光体の劣化や汚染が生じにくいことを示している。水の接触角の低下率に応じて、S:低下率5%未満、A:低下率5%以上10%未満、B:低下率10%以上15%未満、C:低下率15%以上、の4段階で評価した。
(感光体の残留電位変化の評価)
1枚目の画像形成テストを行った際の感光体表面の残留電位と、1万枚目の画像形成テストを行った際の感光体表面の残留電位とを、画像形成装置内に内蔵された表面電位計を用いて測定し、その増加量を求めた。残留電位の増加量に応じて、A:10V未満、B:10V以上50V未満、C:50V以上、の段階で評価した。
表29に示した結果から明らかなように、本発明の電子写真感光体によれば、繰り返し使用時に感光体に傷が生じにくく、摩擦特性が改善されていることが確認された。また、本発明の電子写真感光体によれば、繰り返し使用時における残留電位の上昇が十分に抑制されていることが確認された。更に、本発明の電子写真感光体によれば、繰り返し使用時に感光体に対する水の接触角の低下が十分に抑制され、感光体表面の撥水性が十分に維持されていることが確認された。また、本発明の電子写真感光体によれば、クリーニング性が良好であり、且つ、感光体への汚染物等の付着が十分に抑制されていることが確認された。そして、このような本発明の電子写真感光体を備える画像形成装置によれば、画質欠陥を生じることなく長期にわたって安定した画像品質が得られることが確認された。
1…電荷発生層、2…電荷輸送層、3…導電性支持体、4…下引層、5…保護層、6…感光層、7…電子写真感光体、8…帯電手段、9…電源、10…露光手段、11…現像手段、12…転写手段、13…クリーニング手段、14…除電器、15…定着手段、16…取り付けレール、18…露光のための開口部、20…被転写体、100…電子写真感光体、200,210,220…画像形成装置、300…プロセスカートリッジ、500・・・被転写媒体。