JP4877916B2 - 表示装置用素子基板とその製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents
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Description
図1〜図4は本発明の第1実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図、図5は同じく表示装置用素子基板を示す断面図である。
図7及び図8は本発明の第2実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図である。第2実施形態では、本発明の表示装置用素子基板を有機ELディスプレイに適用する形態を説明する。第2実施形態では、第1実施形態と同一工程の説明は省略すると共に、同一要素には同一符号を付してその説明を省略する。
Claims (14)
- プラスチックフィルムと、
前記プラスチックフィルムの上に形成された接着層と、
前記接着層の上に形成された保護層と、
前記保護層に埋設された電極と、
前記保護層に埋設された状態で前記電極の下面側の一端部に選択的に形成された非晶質の無電解金属めっき層よりなる補助配線部とを有し、
前記接着層と前記補助配線部との間に前記保護層が介在していることを特徴とする表示装置用素子基板。 - 前記電極の上に形成された無機絶縁層をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置用素子基板。
- 前記接着層と前記保護層の間に形成されたカラーフィルタ層をさらに有することを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置用素子基板。
- 前記電極は、単純マトリクス駆動用のストライプ状の配線であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板。
- 前記電極はITOからなり、前記補助配線部はニッケル又は銀からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板。
- 前記電極は陽極であって、
前記陽極の上に形成された有機EL層と、
前記有機EL層の上に形成された陰極とをさらに有し、
前記表示装置用素子基板は有機ELディスプレイに適用されることを特徴とする請求項1、3乃至5のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板。 - 第1の表示装置用素子基板と、第2の表示装置用素子基板と、それらの間に封入された液晶層とを備えた液晶表示装置であって、
前記第1の表示装置用素子基板と前記第2の表示装置用素子基板のうち、少なくとも一方が請求項1乃至5のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板から構成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 仮基板の上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層の上に無機絶縁層を形成する工程と、
前記無機絶縁層の上に電極を形成する工程と、
無電解めっきを利用して、前記電極の上面の一端部に非晶質の金属めっき層からなる補助配線部を選択的に形成する工程と、
前記電極及び前記補助配線部の上に保護層を形成する工程と、
前記保護層の上に接着層によってプラスチックフィルムを接着する工程と、
前記仮基板を前記剥離層との界面から剥離することにより、前記プラスチックフィルムの上に、前記接着層を介して、前記保護層、前記補助配線部と前記電極、前記無機絶縁層、及び前記剥離層を転写・形成する工程と、
前記剥離層を除去する工程とを有することを特徴とする表示装置用素子基板の製造方法。 - 前記補助配線部を形成する工程は、
前記電極及び前記無機絶縁層の上に、前記電極の上面の一端部に開口部が設けられたレジスト膜を形成する工程と、
前記無電解めっきにより、前記レジスト膜の開口部内の前記電極上に前記金属めっき層を選択的に形成する工程と、
前記レジスト膜を除去する工程とを含むことを特徴とする請求項8に記載の表示装置用素子基板の製造方法。 - 前記補助配線部を形成する工程は、
前記無電解めっきにより、前記電極の上面に前記金属めっき層を選択的に形成する工程と、
前記電極の上面の一端部に前記補助配線部が残るように、前記金属めっき層をパターニングする工程とを有することを特徴とする請求項8に記載の表示装置用素子基板の製造方法。 - 前記保護層を形成する工程の後であって、前記プラスチックフィルムを接着する工程の前に、前記保護層の上にカラーフィルタ層を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に表示装置用素子基板の製造方法。
- 前記剥離層を除去した後に、
前記無機絶縁層を除去することにより、前記電極を露出させて陽極とする工程と、
前記陽極の上に有機EL層を形成する工程と、
前記有機EL層の上に陰極を形成する工程とをさらに有することを特徴とする請求項8乃至11のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板の製造方法。 - 前記電極は、単純マトリクス駆動用のストライプ状の配線であることを特徴とする請求項8乃至12のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
- 前記電極はITOからなり、前記金属めっき層はニッケル又は銀からなることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
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