JP4872802B2 - 液相レーザーアブレーション装置及びそれを用いた液相レーザーアブレーション方法 - Google Patents
液相レーザーアブレーション装置及びそれを用いた液相レーザーアブレーション方法 Download PDFInfo
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Description
レーザー光を発生させるためのレーザー発振器と、
前記レーザー光を導入するための窓を備える密封容器と、
前記密封容器内に配置されるターゲットと、
前記密封容器に接続された真空引き装置と、
前記密封容器に接続された不活性ガス又は窒素ガスを導入するためのガス導入装置と、
を備えることを特徴とするものである。
前記密封容器内を真空引きした後に、前記密封容器内に不活性ガス又は窒素ガスを導入し、不活性ガス又は窒素ガス雰囲気下において、ターゲットに対してレーザー光を照射して液相中でレーザーアブレーションすることを特徴とする方法である。
上述の図1に示す液相レーザーアブレーション装置を用いて、液相中でレーザーアブレーションを行った。なお、レーザー発振器10としては、Nd−YAGレーザー装置を用い、集光レンズ12としては、焦点距離100mmのレンズを用いた。また、密封容器13としては、株式会社トヨタマックス製の容積12000ccの容器を用い、前記容器の側面にレーザー入射窓(直径50mm、厚さ5mmの石英板)を接着した。更に、処理容器14としては、ポリプロピレンで製造した容積1000ccの容器を用い、前記容器の開放された端面にレーザー入射窓(直径50mm、厚さ5mmの石英板)を接着した。また、ターゲット駆動装置18としてはパルスモータを用い、ターゲット16としては厚さ3mm、直径40mmのNiTi合金を用いた。また、このような液相レーザーアブレーション装置においては、処理容器14の側面に取り付けたパルスモータの軸を接続器(ターゲット支持体17)によって伸ばしてターゲット16とパルスモータとを接続し、ターゲット16を処理容器14内で回転することが可能な状態とした。また、ターゲット16は、その一部が溶媒15内に浸漬されるようにして保持した。また、レーザー照射時においては、前記パルスモータにより、回転速度を1回転/分としてターゲット16を回転させた。また、不活性ガスとしては、アルゴンガスを用い、溶媒15としては350ccのエタノール(20℃での蒸気圧43.9Torr)を用いた。
図2に示す比較のための液相レーザーアブレーション装置を用いて、比較のための液相中でレーザーアブレーションを行った。なお、装置構成は以下の通りである。すなわち、レーザー発振器10及び集光レンズ12としては、実施例1と同様のものを用いた。また、処理容器14としては、容積1000ccのフラスコを用い、前記フラスコ内に、溶媒15として600ccのエタノールを入れた。また、ターゲット16としては、厚さ3mm、直径40mmのNiTi合金のターゲットを用い、前記フラスコの底に固定した。また、前記フラスコは回転台30の上に設置し、回転台30は、実施例1と同様のターゲット駆動装置18(パルスモータ)に接続させた。なお、レーザー照射時には、前記フラスコの回転速度が1回転/分となるようにして回転させた。
実施例1で用いられた装置を用い、アルゴンガスを導入せずに圧力10−3Torrの真空条件下でレーザー光Lを照射した以外は実施例1と同様にして、比較のための液相レーザーアブレーションを行った。
実施例1で用いられた装置を用い、真空引きを行わず、アルゴンガスを導入して密封容器内の気体を全てアルゴンガスと置換し、大気圧(1気圧)下、アルゴンガス雰囲気下でレーザー光Lを照射した以外は実施例1と同様にして、比較のための液相レーザーアブレーションを行った。
Claims (5)
- 溶媒中に保持されたターゲットに対してレーザー光を照射して液相中でレーザーアブレーションを行うための液相レーザーアブレーション装置であって、
レーザー光を発生させるためのレーザー発振器と、
前記レーザー光を導入するための窓を備える密封容器と、
前記密封容器内に配置されるターゲットと、
前記密封容器に接続された真空引き装置と、
前記密封容器に接続された不活性ガス又は窒素ガスを導入するためのガス導入装置と、
を備えることを特徴とする液相レーザーアブレーション装置。 - 前記密封容器内に、溶媒を保持するための処理容器が収容されていることを特徴とする請求項1に記載の液相レーザーアブレーション装置。
- レーザー光を発生させるためのレーザー発振器と、前記レーザー光を導入するための窓を備える密封容器と、溶媒と、前記密封容器内に配置されるターゲットと、前記密封容器に接続された真空引き装置と、前記密封容器に接続された不活性ガス又は窒素ガスを導入するためのガス導入装置とを備える液相レーザーアブレーション装置を用い、
前記密封容器内を真空引きした後に、前記密封容器内に不活性ガス又は窒素ガスを導入し、不活性ガス又は窒素ガス雰囲気下において、ターゲットに対してレーザー光を照射して液相中でレーザーアブレーションすることを特徴とする液相レーザーアブレーション方法。 - 前記密封容器内に、溶媒を保持するための処理容器が収容されていることを特徴とする請求項3に記載の液相レーザーアブレーション方法。
- 前記密封容器内の圧力を、前記溶媒の25℃における蒸気圧の0.1〜10倍に制御してレーザーアブレーションすることを特徴とする請求項3又は4に記載の液相レーザーアブレーション方法。
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