JP4860966B2 - Exposure pattern transfer method and exposure apparatus - Google Patents

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタ等を製造する場合に用いられる露光パターンの転写方法及び露光装置に関する。   The present invention relates to an exposure pattern transfer method and an exposure apparatus that are used, for example, when manufacturing a color filter or the like of a liquid crystal display panel.

液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタを製造する場合に用いられる露光パターンの転写方法として、マスクと基板とを近接させた状態で基板に露光パターンを転写する方法が知られている。この方法によると、マスクに形成された露光パターンを高精度に転写することができるが、基板の大型化に伴ってマスクのサイズが大きくなると、マスクに撓みが生じ、露光パターンの転写精度を低下させる原因となる。そこで、基板よりサイズの小さいマスクを用いると共に基板の露光領域を複数に分割し、マスクを露光領域毎に相対移動させて露光パターンを基板に転写する方法が提案されている（特許文献１参照）。
特開２００２−２６４８１０号公報 As an exposure pattern transfer method used when manufacturing a color filter of a liquid crystal display panel, a method of transferring an exposure pattern to a substrate in a state where a mask and the substrate are in close proximity is known. According to this method, the exposure pattern formed on the mask can be transferred with high accuracy. However, as the size of the mask increases with the increase in the size of the substrate, the mask is bent and the transfer accuracy of the exposure pattern is reduced. Cause it. Accordingly, a method has been proposed in which a mask having a size smaller than that of the substrate is used, the exposure region of the substrate is divided into a plurality of portions, and the exposure pattern is transferred to the substrate by relatively moving the mask for each exposure region (see Patent Document 1). .
JP 2002-264810 A

しかしながら、露光パターンを基板に転写する装置として、一つの基板ステージと一つのマスクステージとを有する露光装置を用いると、露光装置が露光運転状態にある時は次の基板を基板ステージ上にセットすることができないため、連続して基板に露光パターンを効率的に転写することが困難であった。
本発明は、このような問題点に着目してなされたものであり、露光パターンを高効率で基板に転写することのできる露光パターンの転写方法及び露光装置を提供することを目的とするものである。 However, when an exposure apparatus having one substrate stage and one mask stage is used as an apparatus for transferring the exposure pattern to the substrate, the next substrate is set on the substrate stage when the exposure apparatus is in the exposure operation state. Therefore, it has been difficult to efficiently transfer the exposure pattern to the substrate continuously.
The present invention has been made paying attention to such problems, and an object of the present invention is to provide an exposure pattern transfer method and exposure apparatus capable of transferring an exposure pattern to a substrate with high efficiency. is there.

上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、マスクと基板とを近接させた状態で基板に露光パターンを転写する方法であって、二つの基板ステージと一つのマスクステージとを有し、かつ前記二つの基板ステージが前記マスクステージの下方位置から前記マスクステージの両側に移動可能な露光装置を用いて前記基板に露光パターンを転写するに際し、マスクに形成された露光パターンが一方の基板ステージ上にセットされた基板に転写された後に、当該一方の基板ステージをマスクステージの下方位置からマスクステージの前後方向または左右方向にある元の位置に復帰させ、次に、未露光の基板がセットされてマスクステージの前後方向または左右方向にある位置にある他方の基板ステージをマスクステージの下方位置に移動させるとともに、未露光の基板を元の位置にある前記一方の基板ステージ上にセットさせることを特徴とする。
請求項２の発明は、請求項１記載の露光パターンの転写方法に用いられる露光装置であって、前記マスクステージの下方に位置する中央ベース部と、この中央ベース部の両側に位置する二つのサイドベース部とからなり、これら三つのベース部を分割可能にしたベースを有することを特徴とする。 In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is a method for transferring an exposure pattern to a substrate in a state where the mask and the substrate are close to each other, and has two substrate stages and one mask stage. When the exposure pattern is transferred to the substrate using an exposure apparatus in which the two substrate stages can move from the lower position of the mask stage to both sides of the mask stage, the exposure pattern formed on the mask is one of the two. After being transferred to the substrate set on the substrate stage, the one substrate stage is returned from the lower position of the mask stage to the original position in the front-rear direction or the left-right direction of the mask stage, and then the unexposed substrate Is set and the other substrate stage at the position in the front-rear direction or left-right direction of the mask stage is moved to a position below the mask stage. Together, characterized in that to set on the one substrate stage with the substrate of unexposed to the original position.
According to a second aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for use in the exposure pattern transfer method according to the first aspect, wherein a central base portion located below the mask stage and two portions located on both sides of the central base portion. Ri Do and a side base portion, and having a base that enables separate these three base portion.

請求項１の発明によれば、二つの基板ステージと一つのマスクステージとを有し、かつ二つの基板ステージがマスクステージの下方位置からマスクステージの前後方向または左右方向に移動可能な露光装置を用いて露光パターンを基板に転写することにより、二つの基板ステージをマスクステージの下方位置に交互に移動させて露光パターンを基板に転写することができる。これにより、一つの基板ステージが露光動作中であっても、もう片方の露光パターンが転写された基板を基板ステージから取り出すときに露光装置を運転停止状態とする必要がないので、露光パターンを高効率で基板に転写することができる。
請求項２の発明によれば、露光装置のベースを三つに分割して輸送できるため、輸送コストの低減等を図ることができる。 According to the first aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus having two substrate stages and one mask stage, the two substrate stages being movable in the front-rear direction or the left-right direction of the mask stage from a position below the mask stage. By using and transferring the exposure pattern to the substrate, the exposure pattern can be transferred to the substrate by alternately moving the two substrate stages to positions below the mask stage. As a result, even when one substrate stage is in an exposure operation, the exposure apparatus does not need to be shut down when the substrate with the other exposure pattern transferred is taken out of the substrate stage. It can be efficiently transferred to the substrate.
According to the second aspect of the present invention, since the base of the exposure apparatus can be divided and transported, the transportation cost can be reduced.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本発明に係る露光パターンの転写方法に用いられる露光装置の一例を図１〜図６に示す。図１及び図２において、符号１０は露光装置であって、この露光装置１０はベース１２、基板ステージ搬送台１４，１６、第１の基板ステージ２２、第２の基板ステージ２４及びマスクステージ３４を備えている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
An example of an exposure apparatus used in the exposure pattern transfer method according to the present invention is shown in FIGS. 1 and 2, reference numeral 10 denotes an exposure apparatus. The exposure apparatus 10 includes a base 12, substrate stage transport bases 14 and 16, a first substrate stage 22, a second substrate stage 24, and a mask stage 34. I have.

ベース１２はその上面部が略長方形状になしており、このベース１２の上面部には、基板ステージ搬送台１４，１６をベース１２の長手方向に案内する複数のリニアガイド３８（図３及び図４参照）が互いに平行に設けられている。また、ベース１２は中央ベース部１２１（図２参照）と、この中央ベース部１２１の両側に配置されたサイドベース部１２２，１２３とからなり、中央ベース部１２１の上面部には、マスクステージ３４を水平に支持する複数の支柱４０が設けられている。   The upper surface of the base 12 has a substantially rectangular shape, and a plurality of linear guides 38 (FIGS. 3 and FIG. 4) are provided in parallel to each other. The base 12 includes a central base 121 (see FIG. 2) and side bases 122 and 123 disposed on both sides of the central base 121. A mask stage 34 is provided on the upper surface of the central base 121. A plurality of support columns 40 are provided for horizontally supporting the two.

基板ステージ搬送台１４，１６はベース１２の上方に設けられており、ベース１２には、基板ステージ搬送台１４をベース１２の長手方向（図中Ｙ方向）に送り駆動する第１の搬送台送り機構１８（図１参照）が設けられているとともに、基板ステージ搬送台１６をベース１２の長手方向（図中Ｙ方向）に送り駆動する第２の搬送台送り機構２０（図１参照）が設けられている。   The substrate stage transport bases 14 and 16 are provided above the base 12, and a first transport base feed for driving the substrate stage transport base 14 in the longitudinal direction (Y direction in the figure) of the base 12 is supplied to the base 12. A mechanism 18 (see FIG. 1) is provided, and a second transport table feed mechanism 20 (see FIG. 1) for feeding the substrate stage transport table 16 in the longitudinal direction of the base 12 (Y direction in the figure) is provided. It has been.

第１の搬送台送り機構１８はボールねじ１８１を有しており、このボールねじ１８１のナット（図示せず）は第１の基板ステージ搬送台１４に固定されている。また、第１の搬送台送り機構１８はボールねじ１８１のねじ軸を回転駆動する駆動モータ１８２を有しており、この駆動モータ１８２はベース１２に固定されている。
第２の搬送台送り機構２０はボールねじ２０１を有しており、このボールねじ２０１のナット（図示せず）は第２の基板ステージ搬送台１６に固定されている。また、第２の搬送台送り機構２０はボールねじ２０１のねじ軸を回転駆動する駆動モータ２０２を有しており、この駆動モータ２０２はベース１２に固定されている。 The first transport table feeding mechanism 18 has a ball screw 181, and a nut (not shown) of the ball screw 181 is fixed to the first substrate stage transport table 14. Further, the first transport table feed mechanism 18 has a drive motor 182 that rotationally drives the screw shaft of the ball screw 181, and this drive motor 182 is fixed to the base 12.
The second transport table feeding mechanism 20 has a ball screw 201, and a nut (not shown) of the ball screw 201 is fixed to the second substrate stage transport table 16. The second carrier feed mechanism 20 has a drive motor 202 that rotationally drives the screw shaft of the ball screw 201, and this drive motor 202 is fixed to the base 12.

第１の基板ステージ２２は平板状に形成されており、この第１の基板ステージ２２の上面部には複数の基板吸引穴（図示せず）が所定位置に設けられている。また、第１の基板ステージ２２は第１の基板ステージ搬送台１４の上方に配置されており、第１の基板ステージ搬送台１４の上面部には、第１の基板ステージ２２を図中Ｘ方向に送り駆動する第１の基板ステージ送り機構２６（図２参照）が設けられている。   The first substrate stage 22 is formed in a flat plate shape, and a plurality of substrate suction holes (not shown) are provided at predetermined positions on the upper surface portion of the first substrate stage 22. Further, the first substrate stage 22 is disposed above the first substrate stage transport table 14, and the first substrate stage 22 is placed on the top surface of the first substrate stage transport table 14 in the X direction in the figure. A first substrate stage feed mechanism 26 (see FIG. 2) is provided to drive the feed.

第２の基板ステージ２４は第１の基板ステージ２２と同様に平板状に形成されており、この第２の基板ステージ２４の上面部には複数の基板吸引穴（図示せず）が所定位置に設けられている。また、第２の基板ステージ２４は第２の基板ステージ搬送台１６の上方に配置されており、第２の基板ステージ搬送台１６の上面部には、第２の基板ステージ２４を図中Ｘ方向に送り駆動する第２の基板ステージ送り機構２８（図２参照）が設けられている。   The second substrate stage 24 is formed in a flat plate shape like the first substrate stage 22, and a plurality of substrate suction holes (not shown) are provided at predetermined positions on the upper surface of the second substrate stage 24. Is provided. Further, the second substrate stage 24 is disposed above the second substrate stage transfer table 16, and the second substrate stage 24 is placed on the upper surface of the second substrate stage transfer table 16 in the X direction in the figure. A second substrate stage feed mechanism 28 (see FIG. 2) is provided to drive the feed.

第１の基板ステージ送り機構２６はＸ方向スライドテーブル２６２（図３参照）を有しており、このＸ方向スライドテーブル２６２には、第１の基板ステージ２２を昇降駆動する複数の基板ステージ昇降機構３０が設けられているとともに、マスクＭに対する第１の基板ステージ２２の平行度を調整する平行度調整機構４２が設けられている。   The first substrate stage feed mechanism 26 has an X-direction slide table 262 (see FIG. 3). The X-direction slide table 262 includes a plurality of substrate stage lifting mechanisms that drive the first substrate stage 22 up and down. 30 and a parallelism adjustment mechanism 42 that adjusts the parallelism of the first substrate stage 22 with respect to the mask M is provided.

また、第１の基板ステージ送り機構２６はＸ方向スライドテーブル２６２を図中Ｘ軸方向にスライドさせるボールねじ２６３（図５参照）を有しており、このボールねじ２６３のねじ軸を回転駆動する駆動モータ２６４は第１の基板ステージ搬送台１４に取り付けられている。なお、第１の基板ステージ搬送台１４の上面部には、第１の基板ステージ送り機構２６のＸ方向スライドテーブル２６２を図中Ｘ軸方向に案内する複数のリニアガイド４４（図２参照）が設けられている。 Also has a first substrate stage moving mechanism 26 is a ball screw 26 3 for sliding the X-direction slide table 262 in the X-axis direction (see FIG. 5), rotating the screw shaft of the ball screw 26 3 drive motor 26 4 for driving is mounted on the first substrate stage conveying table 14. Note that a plurality of linear guides 44 (see FIG. 2) for guiding the X-direction slide table 262 of the first substrate stage feed mechanism 26 in the X-axis direction in the drawing are provided on the upper surface portion of the first substrate stage carrier 14. Is provided.

第２の基板ステージ送り機構２８はＸ方向スライドテーブル２８２（図４参照）を有しており、このＸ方向スライドテーブル２８２には、第２の基板ステージ２４を昇降駆動する複数の基板ステージ昇降機構３２が設けられているとともに、マスクＭに対する第１の基板ステージ２２の平行度を調整する平行度調整機構４６が設けられている。   The second substrate stage feed mechanism 28 has an X-direction slide table 282 (see FIG. 4), and the X-direction slide table 282 includes a plurality of substrate stage lifting mechanisms that drive the second substrate stage 24 up and down. 32 and a parallelism adjusting mechanism 46 that adjusts the parallelism of the first substrate stage 22 with respect to the mask M is provided.

また、第２の基板ステージ送り機構２８はＸ方向スライドテーブル２８２を図中Ｘ軸方向にスライドさせるボールねじ２８５（図６参照）を有しており、このボールねじ２８５のねじ軸を回転駆動する駆動モータ２８６は第２の基板ステージ搬送台１６に取り付けられている。なお、第２の基板ステージ搬送台１６の上面部には、第２の基板ステージ送り機構２８のＸ方向スライドテーブル２８２を図中Ｘ軸方向に案内する複数のリニアガイド４８（図２参照）が設けられている。
マスクステージ３４は矩形状の開口窓３４１（図１参照）を中央部に有しており、この開口窓３４１には、マスクＭを保持するマスクホルダ３６が取り付けられている。開口窓上方には露光光源が配置されており、露光用の光が照射される。 The second substrate stage feed mechanism 28 has a ball screw 285 (see FIG. 6) that slides the X-direction slide table 282 in the X-axis direction in the drawing, and rotationally drives the screw shaft of the ball screw 285. The drive motor 286 is attached to the second substrate stage carrier 16. A plurality of linear guides 48 (see FIG. 2) for guiding the X-direction slide table 282 of the second substrate stage feed mechanism 28 in the X-axis direction in the drawing are provided on the upper surface portion of the second substrate stage transport table 16. Is provided.
The mask stage 34 has a rectangular opening window 341 (see FIG. 1) in the center, and a mask holder 36 that holds the mask M is attached to the opening window 341. An exposure light source is disposed above the aperture window and is irradiated with exposure light.

このような露光装置１０を用いてマスクＭに形成された露光パターンを基板Ｗに転写する場合は、表面にフォトレジストが塗布された基板Ｗを例えば第１の基板ステージ２２上にセットする。次に、第１の搬送台送り機構１８を作動させ、図７（ａ）に示すように、第１の基板ステージ搬送台１４をマスクステージ３４の下方位置に移動させるとともに、表面にフォトレジストが塗布された基板Ｗを第２の基板ステージ２４上にセットする。そして、第１の基板ステージ搬送台１４がマスクステージ３４の下方位置に移動したならば、基板ステージ昇降機構３０を作動させ、第１の基板ステージ２２上にセットされた基板Ｗがマスクホルダ３６に保持されたマスクＭに近接するまで第１の基板ステージ２２を上昇させる。その後、マスクＭに露光用の光を上方から照射し、マスクＭに形成された露光パターンを第１の基板ステージ２２上にセットされた基板Ｗに転写する。   When the exposure pattern formed on the mask M is transferred to the substrate W using such an exposure apparatus 10, the substrate W having a photoresist applied on the surface is set on the first substrate stage 22, for example. Next, as shown in FIG. 7A, the first transport stage feed mechanism 18 is operated to move the first substrate stage transport stage 14 to a position below the mask stage 34, and the photoresist is applied to the surface. The coated substrate W is set on the second substrate stage 24. When the first substrate stage carrier 14 moves to a position below the mask stage 34, the substrate stage lifting mechanism 30 is operated, and the substrate W set on the first substrate stage 22 is transferred to the mask holder 36. The first substrate stage 22 is raised until it is close to the held mask M. Thereafter, the exposure light is irradiated onto the mask M from above, and the exposure pattern formed on the mask M is transferred to the substrate W set on the first substrate stage 22.

マスクＭに形成された露光パターンが第１の基板ステージ２２上にセットされた基板Ｗに転写されたならば、基板ステージ昇降機構３０を再び作動させ、第１の基板ステージ２２を所定位置まで下降させた後、第１の搬送台送り機構１８を作動させて第１の基板ステージ搬送台１４をマスクステージ３４の下方位置から元の位置に復帰させる。次に、第２の搬送台送り機構２０を作動させ、図７（ｂ）に示すように、第２の基板ステージ搬送台１６をマスクステージ３４の下方位置に移動させるとともに、未露光の基板Ｗを第１の基板ステージ２２上にセットする。そして、第２の基板ステージ搬送台１６がマスクステージ３４の下方位置に移動したならば、基板ステージ昇降機構３２を作動させ、第２の基板ステージ２４上にセットされた基板Ｗがマスクホルダ３６に保持されたマスクＭに近接するまで第２の基板ステージ２４を上昇させる。その後、マスクＭに露光用の光を上方から照射し、マスクＭに形成された露光パターンを第２の基板ステージ２４上にセットされた基板Ｗに転写する。   If the exposure pattern formed on the mask M is transferred to the substrate W set on the first substrate stage 22, the substrate stage lifting mechanism 30 is actuated again to lower the first substrate stage 22 to a predetermined position. Then, the first carrier stage feed mechanism 18 is operated to return the first substrate stage carrier 14 from the lower position of the mask stage 34 to the original position. Next, the second transport table feed mechanism 20 is operated to move the second substrate stage transport table 16 to a position below the mask stage 34 as shown in FIG. Is set on the first substrate stage 22. Then, when the second substrate stage carrier 16 moves to a position below the mask stage 34, the substrate stage lifting mechanism 32 is operated, and the substrate W set on the second substrate stage 24 is transferred to the mask holder 36. The second substrate stage 24 is raised until it approaches the held mask M. Thereafter, the mask M is irradiated with exposure light from above, and the exposure pattern formed on the mask M is transferred to the substrate W set on the second substrate stage 24.

このように、二つの基板ステージ２２，２４と一つのマスクステージ３４とを有し、かつ基板ステージ２２，２４がマスクステージ３４の前後方向または左右方向に移動可能な露光装置を用いて基板Ｗに露光パターンを転写することにより、二つの基板ステージ２２，２４をマスクステージ３４の下方位置に交互に移動させて露光パターンを基板Ｗに転写することができる。これにより、露光パターンが転写された基板を基板ステージから取り出すときに露光装置を運転停止状態とする必要がないので、露光パターンを高効率で基板に転写することができる。   As described above, the substrate W is formed on the substrate W using the exposure apparatus that has the two substrate stages 22 and 24 and the one mask stage 34 and is movable in the front-rear direction or the left-right direction of the mask stage 34. By transferring the exposure pattern, the two substrate stages 22 and 24 can be alternately moved to positions below the mask stage 34 to transfer the exposure pattern to the substrate W. This eliminates the need to put the exposure apparatus in a stopped state when the substrate on which the exposure pattern has been transferred is taken out of the substrate stage, so that the exposure pattern can be transferred to the substrate with high efficiency.

また、上述した実施形態のように、露光装置のベース１２を、マスクステージ３４の下方に位置する中央ベース１２１部と、この中央ベース部１２１の両側に位置するサイドベース部１２２、１２３とから構成し、これら三つのベース部を分割可能にしたベースを有することにより、ベース１２を三つに分割して輸送できるため、輸送コストの低減等を図ることができる。
なお、上述したプロキシミティ露光装置において、テーブル駆動用のサーボモータ＋ボールねじ＋ブラケットは、リニアモータ駆動に置き換えることも可能である。 Further, as in the above-described embodiment, the base 12 of the exposure apparatus includes a central base 121 part located below the mask stage 34 and side base parts 122 and 123 located on both sides of the central base part 121. and, by have a base that enables separate these three base portion, it is possible to transport by dividing the base 12 into three, it is possible to reduce in transportation costs.
In the proximity exposure apparatus described above, the table driving servo motor + ball screw + bracket can be replaced with linear motor driving.

本発明に係る露光パターンの転写方法に用いられる露光装置の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the exposure apparatus used for the transfer method of the exposure pattern which concerns on this invention. 図１に示す露光装置の正面図である。It is a front view of the exposure apparatus shown in FIG. 図２のIII−III断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG. 2. 図２のIV−IV断面図である。It is IV-IV sectional drawing of FIG. 図３のV−V断面図である。It is VV sectional drawing of FIG. 図４のVI−VI断面図である。It is VI-VI sectional drawing of FIG. 本発明に係る露光パターンの転写方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the transfer method of the exposure pattern which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 露光装置
１２ ベース
１２１ 中央ベース部
１２２，１２３ サイドベース部
１４，１６ 基板ステージ搬送台
１８ 第１の搬送台送り機構
２０ 第２の搬送台送り機構
２２ 第１の基板ステージ
２４ 第２の基板ステージ
２６ 第１の基板ステージ送り機構
２８ 第２の基板ステージ送り機構
３０，３２ 基板ステージ昇降機構
３４ マスクステージ
３６ マスクホルダ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Exposure apparatus 12 Base 121 Central base part 122,123 Side base part 14,16 Substrate stage conveyance stand 18 First conveyance stand feed mechanism 20 Second conveyance stand feed mechanism 22 First substrate stage 24 Second substrate stage 26 First substrate stage feed mechanism 28 Second substrate stage feed mechanism 30, 32 Substrate stage lifting mechanism 34 Mask stage 36 Mask holder

Claims (2)

マスクと基板とを近接させた状態で基板に露光パターンを転写する方法であって、二つの基板ステージと一つのマスクステージとを有し、かつ前記二つの基板ステージが前記マスクステージの下方位置から前記マスクステージの前後方向または左右方向に移動可能な露光装置を用いて前記基板に露光パターンを転写するに際し、マスクに形成された露光パターンが一方の基板ステージ上にセットされた基板に転写された後に、当該一方の基板ステージをマスクステージの下方位置からマスクステージの前後方向または左右方向にある元の位置に復帰させ、次に、未露光の基板がセットされてマスクステージの前後方向または左右方向にある位置にある他方の基板ステージをマスクステージの下方位置に移動させるとともに、未露光の基板を元の位置にある前記一方の基板ステージ上にセットさせることを特徴とする露光パターンの転写方法。 A method for transferring an exposure pattern to a substrate in a state where a mask and a substrate are close to each other, comprising two substrate stages and one mask stage, wherein the two substrate stages are located from a position below the mask stage. When an exposure pattern is transferred to the substrate using an exposure apparatus that can move in the front-rear direction or the left-right direction of the mask stage, the exposure pattern formed on the mask is transferred to the substrate set on one substrate stage. Later, the one substrate stage is returned from the lower position of the mask stage to the original position in the front-rear direction or left-right direction of the mask stage, and then the unexposed substrate is set and the front-rear direction or left-right direction of the mask stage is set. Move the other substrate stage located at the position below the mask stage and remove the unexposed substrate from the original stage. Transfer method for an exposure pattern, characterized in that to set on the one substrate stage in position. 請求項１記載の露光パターンの転写方法に用いられる露光装置であって、前記マスクステージの下方に位置する中央ベース部と、この中央ベース部の両側に位置する二つのサイドベース部とからなり、これら三つのベース部を分割可能にしたベースを有することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus used in the transfer method of an exposure pattern according to claim 1, and a central base portion positioned under the mask stage, Ri Do from the two side base portions positioned on both sides of the central base portion An exposure apparatus having a base in which these three base portions can be divided .
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