JP4850510B2 - 封止用樹脂組成物および半導体装置 - Google Patents
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Description
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学社製 商品名 ESCN−190;エポキシ当量195)100部、ノボラック型フェノール樹脂(明和化成社製 商品名 H−1;水酸基当量106)55部、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)(融点143℃、窒素含有量21重量%)8部、水酸化アルミニウム(昭和電工社製 商品名 H−42)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(三菱化学社製 商品名 MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)60部、ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製 商品名 YX−4000H;エポキシ当量196)40部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)(融点143℃、窒素含有量21重量%)8部、水酸化アルミニウム(H−42)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)100部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)(融点143℃、窒素含有量21重量%)8部、水酸化マグネシウム(協和化学社製 商品名 キスマ5A)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)100部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)(融点143℃、窒素含有量21重量%)16部、水酸化アルミニウム(H−42)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)100部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、3‐フェニル‐1,1‐ジメチルウレア(融点65℃、窒素含有量17重量%)4部、水酸化アルミニウム(H−42)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)100部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、トリフェニルホスフィン4部、水酸化アルミニウム(H−42)140部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)100部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)(融点143℃、窒素含有量21重量%)8部、球状シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
o‐クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190)70部、臭素化エポキシ樹脂(東都化成社製 商品名 YDB−400;エポキシ当量400)30部、ノボラック型フェノール樹脂(H−1)55部、トリフェニルホスフィン4部、三酸化アンチモン3部、球状溶融シリカ粉末(平均粒径20μm)1000部、カルナバワックス3部、カーボンブラック(MA−600)1部およびγ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン1部を常温で混合し、次いで、90〜95℃で加熱混練した。冷却後、粉砕して封止用樹脂組成物を得た。
なお、封止用樹脂組成物の成形は、トランスファー成形機により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間2分間の条件で行い、その後、175℃で4時間の後硬化を行った。
175℃に保たれた熱盤上で一定量の封止用樹脂組成物を直径4〜5cmの円状に広げ一定速度で練り合わせ、試料が増粘し最終的に粘りがなくなるまでの時間を計測した。
[保存安定性]
封止用樹脂組成物を容器内に密封し、30℃で5日間保管した後、上記と同様の方法でゲルタイムを測定し、初期値に対する保存率を算出した。
[難燃性]
封止用樹脂組成物を用い、上記条件で成形および後硬化を行って、127mm×12.7mm×1.6mmの試験片を作製し、UL−94規格に基づく垂直燃焼試験を行った。
[熱時硬度]
封止用樹脂組成物を用い、上記条件で成形および後硬化を行って、厚さ6.4mmの試験片を作製し、成形後直ちにショアD型硬度計を用いて測定した。
[曲げ強度]
封止用樹脂組成物を用い、上記条件で成形および後硬化を行って、厚さ6.0mmの試験片を作製し、JIS K 6911に準じて測定した。
[耐湿耐熱性]
封止用樹脂組成物を用い、上記条件で成形および後硬化を行ってSOP28pパッケージを作製し、このパッケージに85℃、85%RH、72時間の吸湿処理、および、220℃、90秒間のリフロー処理を行った後、121℃、2気圧の飽和水蒸気中で耐湿試験(PCT)を行い、チップ上のアルミ配線の断線発生率(不良数/試料数)が50%に達するまでの時間を測定した。
[高温放置性]
アルミ配線を有するシリコンチップ(8mm×10mm)を42アロイフレームに接着し、次いで、封止用樹脂組成物を用いて、上記条件で成形および後硬化を行ってQFP80pパッケージ(20mm×14mm×2.0mm)を作製した後、このパッケージを175℃の恒温室内に置き、所定時間毎に取り出して導通試験を行い、導通不良が発生するまでの時間を測定した。
[環境安全性]
封止用樹脂組成物中の有害元素および有害化合物の有無により評価した。
Claims (7)
- (A)ノボラック型エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填剤(但し、以下の(D)成分を除く)、(D)金属水和物および(E)融点が100℃以上で、分子中にウレイド基を2個以上有し、かつ窒素含有量が10重量%以上である尿素化合物を含有することを特徴とする封止用樹脂組成物。
- 前記(E)成分の尿素化合物は、N,N‐(4‐メチル‐1,3‐フェニレン)‐(N′,N′‐ジメチルウレア)および/またはN,N‐フェニレン‐ビス(N′,N′‐ジメチルウレア)であることを特徴とする請求項1記載の封止用樹脂組成物。
- 前記(D)成分の金属水和物は、水酸化アルミニウムおよび/または水酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項1または2記載の封止用樹脂組成物。
- 前記(E)成分の尿素化合物の含有量が、組成物全体の0.1〜10重量%であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物。
- 前記(C)成分の無機充填剤の含有量が、組成物全体の70〜95重量%であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物。
- 前記(D)成分の金属水和物の含有量が、前記(C)成分の無機充填剤の0.1〜30重量%であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物。
- 請求項1乃至6のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物の硬化物によって、半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。
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