JP4830224B2 - Gravure ink composition for UV curable resist - Google Patents

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JP4830224B2 JP2001215127A JP2001215127A JP4830224B2 JP 4830224 B2 JP4830224 B2 JP 4830224B2 JP 2001215127 A JP2001215127 A JP 2001215127A JP 2001215127 A JP2001215127 A JP 2001215127A JP 4830224 B2 JP4830224 B2 JP 4830224B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エッチング用金属箔又はその積層体に高解像度でレジストパターン印刷が可能な紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
金属箔のみで回路パターンを作る手段は、一般的にまずエッチングレジスト部分を形成させ、残りの部分をエッチング液に浸漬させ腐食溶解した後レジスト部分を脱離する方法がある。回路パターンに相当するレジスト部分の画素を形成する方法として、特開昭57−85869号公報には紫外線硬化型レジストインキを用いたスクリーン印刷方式が開示されている。他にも加熱架橋型のレジストインキを用いたグラビア印刷方式、光学的写真法等が知られている。しかしながら、スクリーン印刷は版の解像度の限界により、100μm以下の細線の再現が不可能である。従来の加熱架橋型のレジストインキを用いたグラビア印刷では、架橋したレジスト部分の除去に特定の有機溶剤が必要となる。光学的写真法は細線形成が可能で、レジスト部分を容易に取り除けるが、工程が多く、生産性に劣る。いずれも微細電子回路の連続パターンが形成し難く大量生産性に劣る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、エッチング用金属箔への印刷が可能であって、量産性に適し、細線部の再現性に優れた印刷物を得る紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、グラビア印刷適性を有するエッチングレジストインキで且つレジスト部を容易に除去できる紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物を完成した。
【0005】
すなわち、本発明は、(a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー及び又はオリゴマーを、被膜形成成分中に10〜75質量%、(b)酸価が100以上であるアルカリ可溶型樹脂を被膜形成成分中に10〜75質量%、(c)チキソトロピック性付与剤を、(a)成分と(b)成分の合計に対して5〜30質量%含有し、全体の酸価が50以上であり、チキソトロピック係数が1.4以上である紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物は、(a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー及び又はオリゴマーを、被膜形成成分中に10〜75質量%、(b)酸価が100以上であるアルカリ可溶型樹脂を被膜形成成分中に10〜75質量%、(c)チキソトロピック性付与剤を必須成分として含有する。
【0007】
(a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー、オリゴマーとしては、以下のモノマー又はオリゴマーを例示することが出来る。
【0008】
モノマー成分としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等の単量体、フタル酸無水物やジカルボン酸無水物類とヒドロキシル基含有アクリレート又はヒドロキシル基含有メタクリレートとの反応で生成するハーフエステル化した化合物等が挙げられる。
【0009】
オリゴマー成分としては、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリレート、ポリエーテルウレタンアクリレート、ブタジエンウレタンアクリレート、特殊ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、アミノ樹脂アクリレート、アクリル樹脂アクリレート、不飽和ポリエステル等のオリゴマー成分をカルボキシル基で変性した、カルボキシル基変性オリゴマーが挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基を有するポリエステルアクリレートや不飽和ポリエステルが好ましく用いられる。
【0010】
これらのモノマー又はオリゴマーの配合量は被膜形成成分中で10〜75質量%であり、好ましくは20〜60質量%である。
【0011】
(b)酸価が100以上のアルカリ可溶性樹脂としては、スチレン−マレイン酸樹脂、スチレン−アクリル酸樹脂、ロジン−マレイン酸樹脂等が挙げられる。その配合量は被膜形成成分中で、10〜75質量%、好ましくは20〜60質量%である。
【0012】
アルカリ水溶液によるレジスト部分の除去工程で金属箔の回路パターンを保護し、充分な電気特性を得るために、(a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー及び又はオリゴマーと、(b)酸価が100以上のアルカリ可溶性樹脂の質量比は5/1〜1/5が好ましい。より好ましくは3/1〜1/3である。5/1以上では耐エッチング性に優れるがアルカリ液による被膜除去は時間を要する傾向がある。1/5以下では耐エッチング性が弱まり被膜にピンホールが発生する傾向がある。
【0013】
(c)チキソトロピック性付与剤としては、ケイ酸塩物質、シリカ又はその化合物、ステアリン酸の金属塩硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、クレー等の体質顔料が挙げられる。その配合量は、(a)成分と(b)成分の合計に対し5.0〜30質量%であり、好ましくは10〜20質量%である。
【0014】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキは、チキソトロピック係数が1.4以上であることを特徴としている。この係数はチキソトロピックの性質を示す係数であり、例えばB型粘度計で6rpm値/60rpm値の比を測定することで得ることが出来る。チキソトロピック係数が1.4未満であると、インキが金属箔上を流れ易く且つ、滲みやすくなり、細線再現性に欠ける傾向がある。(c)チキソトロピック付与剤として、前記した素材が好ましく用いられるが、インキ中で粒子状であることが好ましく、平均粒子径、0.1〜6ミクロンが好ましい。
【0015】
平均粒径の測定は、大塚電子(株)製粒子径測定装置LAP3000/3100にて測定を行い、数平均で表現する。
【0016】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキには、必要に応じて、(d)皮膜強度を調整するためのカルボキシル基を含まない化合物類、(e)重合開始剤、(f)着色剤、(g)有機溶剤、(h)その他添加剤を含むことが出来る。
【0017】
(d)皮膜強度を調整するための、カルボキシル基を有しない単官能単量体としては、スチレン、ビニルトルエン、N−ビニルピロリドン、ヒドロキシル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等を上げられる。
【0018】
また、カルボキシル基を有しない多官能アクリレートとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール、ジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリレート、その他化合物としてウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリルオリゴマー等が挙げられる。
【0019】
(e)重合開始剤としては、塩素化されたアセトフェノン、ベンゾフェノン、その他には、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン及びその誘導体等を挙げられる。重合開始剤の添加量はインキ中で、2.0〜30質量%、好ましくは5.0〜15%質量である。重合開始剤は、単独あるいは数種の混合物として使用できる。
【0020】
(f)着色剤としては、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、カーボンブラック、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、トリフェニルメタン系の酸性染料等をあげることができる。これらの着色剤の添加量はインキに対し、5質量%以下であり、好ましくは3質量%程度である。
【0021】
(g)有機溶剤としては、アルコール類、エステル類、ケトン類、トルエン等が挙げられる。(h)その他添加剤としては、消泡剤、レベリング剤、ワックス等が挙げられる。
【0022】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキは、インキ全体としての酸価が、50以上であることが必要であり、好ましくは80以上である。50未満ではアルカリ剥離に時間がかかり生産性の低下となる。
【0023】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物は従来公知の方法で製造できる。上記着色剤又は体質顔料等を、ウレタン樹脂、硝化綿、ビニル樹脂等と分散剤を使用してボールミル、サンドミル、メディアミル等の通常の練肉機で練肉分散し、着色剤又は体質顔料等のベースを得る。さらに、上記成分を混合し、印刷インキを得ることができる。また、印刷粘度はザーンカップ#3で15〜25秒に調製し印刷することが好ましい。
【0024】
グラビア印刷に使用する刷版は、コンベンショナルグラビア、網グラビア、ヘリオクリッショグラビア等の電子彫刻方式の刷版などいずれでも良い。
【0025】
上記の印刷条件により、本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物を、銅、アルミ等の金属からなる被印刷体に印刷することができる。例えば、金属箔の一面に全面ベタ印刷を施し、他の面に回路パターンを印刷することが出来る。印刷された被膜は、紫外線光源、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライド、キセノン等のランプで照射する。照射量は、被膜表面にタックが残らない条件で硬化させれば良い。硬化が充分行われない場合には、巻き取りの際、ブロッキングを発生させてしまうおそれがある。
【0026】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物を用いて、回路パターンに相当する耐酸被膜を形成し、印刷部以外の表面を酸性エッチング剤によりエッチングする。一般に使用されるエッチング剤としては、塩化第二鉄液、塩化第二銅液等が挙げられる。
【0027】
エッチング後の被膜は希アルカリ水溶液で剥離される。一般に、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの1〜6質量%水溶液を20〜60℃の液温で使用する。通常の剥離時間は10〜90秒間、好ましくは10〜30秒の剥離速度を要求される。
【0028】
本発明の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物は、上記使用条件に於ける全行程をすべて満足することができ、特に、希アルカリ水溶液を用いた剥離時には、不要となった耐酸被膜を容易に溶解除去することができる新規な紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物である。
【0029】
【実施例】
次に、本発明を参考例、実施例及び比較例により、一層、具体的に説明する。以下において、部及び%は特に断りのない限り、すべて質量基準であるものとする。
【0030】
(1)印刷
厚み40μmのアルミニウム箔を用い、レジスト層として以下のそれぞれの組成を有するインキを使用して線幅90μm、ピッチ200μmの格子縞を乾燥塗膜厚3μmで印刷した。アルミニウム箔の反対面は同組成のインキで乾燥塗膜厚3μmのベタ印刷を行った。
【0031】
(2)塗膜の硬化
印刷塗膜の硬化には高圧水銀灯、1灯照射距離10cm、照射線量80W/cmの紫外線照射装置を使用し諸物性の評価を行った。
【0032】
(3)耐酸性試験
耐酸性試験は35%塩化第二鉄液を使用し、温度40〜50℃で4分浸漬させ表面状態を観察した。
【0033】
(4)アルカリ剥離性
アルカリ剥離性は4%水酸化ナトリウム水溶液を液温20℃に調整し、これにエッチング後の印刷物を浸漬させ、スターラーで撹拌しながら剥離時間を測定した。
【0034】
(実施例1)
以下の化合物を混合撹拌し、酸価130、チキソ係数2.2の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキを得た。

Figure 0004830224
【0035】
但し、(注1〜6)は以下を示す。
(注1)ユニディックV−3021(大日本インキ化学社製)
(注2)ベッカミンJ896 (大日本インキ化学社製)
(注3)沈降性硫酸バリウム、ベリファインBF−1(堺化学社製)を硝化綿で通常の方法で練肉分散を行った60%沈降性硫酸バリウムを含有し平均粒子径0.5ミクロンの体質顔料ベース
(注4)ユニディック V−5500(大日本インキ化学社製)
(注5)イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)
(注6)フタロシアニンブルーを硝化綿で通常方法での練肉分散を行った顔料50%含有の着色剤ベース
【0036】
(実施例2,3及び比較例1,2)
表1に示す配合で、上記実施例1と同様の方法で、実施例2,3インキ及び比較例1,2インキを調製した。評価結果も表1に示す。
【0037】
【表1】
Figure 0004830224
【0038】
【発明の効果】
本発明により、細線再現性、耐酸性、アルカリ剥離除去性に優れた紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物が得られる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an ultraviolet curable resist gravure ink composition capable of printing a resist pattern with high resolution on a metal foil for etching or a laminate thereof.
[0002]
[Prior art]
As a means for forming a circuit pattern using only a metal foil, there is generally a method in which an etching resist portion is first formed, and the remaining portion is immersed in an etching solution to be dissolved by corrosion and then removed. As a method for forming a pixel of a resist portion corresponding to a circuit pattern, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-85869 discloses a screen printing method using an ultraviolet curable resist ink. In addition, a gravure printing method using a heat-crosslinking type resist ink, an optical photographic method, and the like are known. However, screen printing cannot reproduce fine lines of 100 μm or less due to the limitation of plate resolution. In gravure printing using a conventional heat-crosslinking resist ink, a specific organic solvent is required to remove the crosslinked resist portion. The optical photographic method can form fine lines and can easily remove the resist portion, but has many steps and is inferior in productivity. In either case, it is difficult to form a continuous pattern of fine electronic circuits, and the mass productivity is inferior.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a gravure ink composition for an ultraviolet curable resist that can be printed on a metal foil for etching, is suitable for mass production, and obtains a printed matter excellent in reproducibility of a fine line portion. .
[0004]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed a gravure ink composition for an ultraviolet curable resist, which is an etching resist ink having gravure printing suitability and can easily remove the resist portion.
[0005]
That is, the present invention provides (a) an ultraviolet-polymerizable monomer and / or oligomer having one or more carboxyl groups and ethylenically unsaturated groups in the molecule and an acid value of 30 or more in the film-forming component. ~ 75 mass%, (b) 10 to 75 mass% of an alkali-soluble resin having an acid value of 100 or more in the film-forming component, (c) a thixotropic agent, (a) component and (b) Provided is a gravure ink composition for an ultraviolet curable resist, which is contained in an amount of 5 to 30% by mass based on the total of the components, has an overall acid value of 50 or more, and a thixotropic coefficient of 1.4 or more.
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The gravure ink composition for ultraviolet curable resist of the present invention comprises (a) an ultraviolet polymerizable monomer and / or oligomer having at least one carboxyl group and ethylenically unsaturated group in the molecule and an acid value of 30 or more. 10 to 75% by mass in the film-forming component, (b) an alkali-soluble resin having an acid value of 100 or more, 10 to 75% by mass in the film-forming component, and (c) a thixotropic agent is essential. Contains as a component.
[0007]
(A) The following monomers or oligomers can be exemplified as the ultraviolet polymerizable monomer and oligomer having one or more carboxyl groups and ethylenically unsaturated groups in the molecule and an acid value of 30 or more.
[0008]
As monomer components, half-esterified compounds produced by reaction of monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, phthalic anhydrides and dicarboxylic anhydrides with hydroxyl group-containing acrylates or hydroxyl group-containing methacrylates Etc.
[0009]
As the oligomer component, polyester acrylate, polyether acrylate, polyester urethane acrylate, polyether urethane acrylate, butadiene urethane acrylate, special urethane acrylate, epoxy acrylate, amino resin acrylate, acrylic resin acrylate, unsaturated polyester, etc. And carboxyl group-modified oligomers modified with Among these, a polyester acrylate having a carboxyl group and an unsaturated polyester are preferably used.
[0010]
The compounding amount of these monomers or oligomers is 10 to 75% by mass, preferably 20 to 60% by mass, in the film forming component.
[0011]
(B) Examples of the alkali-soluble resin having an acid value of 100 or more include styrene-maleic acid resin, styrene-acrylic acid resin, and rosin-maleic acid resin. The compounding quantity is 10-75 mass% in a film formation component, Preferably it is 20-60 mass%.
[0012]
In order to protect the circuit pattern of the metal foil in the step of removing the resist portion with an alkaline aqueous solution and obtain sufficient electrical characteristics, (a) the molecule has at least one carboxyl group and one ethylenically unsaturated group, and an acid. The mass ratio of the ultraviolet-polymerizable monomer and / or oligomer having a value of 30 or more and the alkali-soluble resin (b) having an acid value of 100 or more is preferably from 5/1 to 1/5. More preferably, it is 3/1 to 1/3. When it is 5/1 or more, etching resistance is excellent, but removal of the film with an alkaline solution tends to require time. If it is 1/5 or less, the etching resistance is weakened, and pinholes tend to occur in the film.
[0013]
(C) Examples of the thixotropic agent include extender pigments such as a silicate substance, silica or a compound thereof, stearic acid metal salt barium sulfate, calcium carbonate, talc, clay and the like. The compounding quantity is 5.0-30 mass% with respect to the sum total of (a) component and (b) component, Preferably it is 10-20 mass%.
[0014]
The gravure ink for ultraviolet curable resist of the present invention is characterized by having a thixotropic coefficient of 1.4 or more. This coefficient is a coefficient indicating thixotropic properties, and can be obtained, for example, by measuring a ratio of 6 rpm value / 60 rpm value with a B-type viscometer. When the thixotropic coefficient is less than 1.4, the ink tends to flow on the metal foil and easily spread, and the thin line reproducibility tends to be lacking. (C) As the thixotropic imparting agent, the above-described materials are preferably used, but are preferably particulate in the ink, and preferably have an average particle diameter of 0.1 to 6 microns.
[0015]
The average particle size is measured with a particle size measuring device LAP3000 / 3100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. and expressed as a number average.
[0016]
In the gravure ink for ultraviolet curable resist of the present invention, if necessary, (d) compounds not containing a carboxyl group for adjusting the film strength, (e) a polymerization initiator, (f) a colorant, ( g) Organic solvents, (h) Other additives may be included.
[0017]
(D) Monofunctional monomers having no carboxyl group for adjusting the film strength include styrene, vinyl toluene, N-vinyl pyrrolidone, hydroxyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, acrylamide, dye Acetone acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylate, etc. can be raised.
[0018]
In addition, polyfunctional acrylates having no carboxyl group include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol, di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and other compounds such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, etc. Is mentioned.
[0019]
(E) As a polymerization initiator, chlorinated acetophenone, benzophenone, and others include benzoin, benzoin alkyl ether, benzophenone and derivatives thereof. The addition amount of a polymerization initiator is 2.0-30 mass% in an ink, Preferably it is 5.0-15 mass%. The polymerization initiator can be used alone or as a mixture of several kinds.
[0020]
(F) Examples of the colorant include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, carbon black, crystal violet, methyl violet, and triphenylmethane acid dyes. The addition amount of these colorants is 5% by mass or less, and preferably about 3% by mass with respect to the ink.
[0021]
(G) Examples of the organic solvent include alcohols, esters, ketones, and toluene. (H) Examples of other additives include antifoaming agents, leveling agents, and waxes.
[0022]
The gravure ink for an ultraviolet curable resist of the present invention needs to have an acid value of 50 or more as a whole, and preferably 80 or more. If it is less than 50, it takes time to remove the alkali, resulting in a decrease in productivity.
[0023]
The gravure ink composition for ultraviolet curable resist of the present invention can be produced by a conventionally known method. The above colorant or extender pigment, etc., is kneaded and dispersed with a normal kneader such as a ball mill, sand mill, media mill using a urethane resin, nitrified cotton, vinyl resin or the like and a dispersant, and the colorant or extender pigment, etc. Get the base of. Furthermore, a printing ink can be obtained by mixing the above components. The printing viscosity is preferably adjusted to 15 to 25 seconds with Zahn cup # 3 and printed.
[0024]
The printing plate used for gravure printing may be any plate such as a conventional gravure printing plate, a net gravure printing plate or a helicopter gravure printing plate.
[0025]
Under the above printing conditions, the gravure ink composition for ultraviolet curable resist of the present invention can be printed on a printing medium made of a metal such as copper or aluminum. For example, the entire surface can be solid-printed on one surface of the metal foil, and the circuit pattern can be printed on the other surface. The printed film is irradiated with an ultraviolet light source, for example, a lamp such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide, or xenon. The irradiation amount may be cured under the condition that no tack remains on the coating surface. If the curing is not sufficiently performed, blocking may occur during winding.
[0026]
Using the gravure ink composition for ultraviolet curable resist of the present invention, an acid-resistant film corresponding to a circuit pattern is formed, and the surface other than the printed part is etched with an acidic etchant. Commonly used etching agents include ferric chloride solution and cupric chloride solution.
[0027]
The film after the etching is peeled off with a dilute alkaline aqueous solution. Generally, 1-6 mass% aqueous solution of sodium hydroxide or potassium hydroxide is used at a liquid temperature of 20-60 ° C. The normal peeling time is required to be 10 to 90 seconds, preferably 10 to 30 seconds.
[0028]
The gravure ink composition for ultraviolet curable resists of the present invention can satisfy all the processes under the above-mentioned use conditions, and can easily form an acid-resistant film that is no longer necessary particularly when stripping with dilute alkaline aqueous solution. It is a novel gravure ink composition for ultraviolet curable resist that can be dissolved and removed.
[0029]
【Example】
Next, the present invention will be described more specifically with reference examples, examples and comparative examples. In the following, all parts and% are based on mass unless otherwise specified.
[0030]
(1) An aluminum foil having a printing thickness of 40 μm was used, and a checkered pattern having a line width of 90 μm and a pitch of 200 μm was printed at a dry coating thickness of 3 μm using inks having the following respective compositions as a resist layer. The opposite surface of the aluminum foil was solid-printed with an ink having the same composition and a dry coating thickness of 3 μm.
[0031]
(2) Curing of the coating The cured coating film was evaluated for various physical properties by using an ultraviolet irradiation device with a high pressure mercury lamp, one lamp irradiation distance of 10 cm, and an irradiation dose of 80 W / cm.
[0032]
(3) Acid resistance test In the acid resistance test, a 35% ferric chloride solution was used and immersed for 4 minutes at a temperature of 40 to 50 ° C to observe the surface state.
[0033]
(4) Alkali releasability Alkali releasability was measured by adjusting a 4% sodium hydroxide aqueous solution to a liquid temperature of 20 ° C., immersing the printed material after etching in this solution, and stirring with a stirrer.
[0034]
Example 1
The following compounds were mixed and stirred to obtain a gravure ink for an ultraviolet curable resist having an acid value of 130 and a thixotropic coefficient of 2.2.
Figure 0004830224
[0035]
However, (Notes 1 to 6) indicate the following.
(Note 1) Unidic V-3021 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
(Note 2) Becamine J896 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
(Note 3) Precipitated barium sulfate, Verifine BF-1 (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) contains 60% precipitated barium sulfate obtained by kneading with nitrified cotton in the usual manner, and has an average particle size of 0.5 microns. Extender base (Note 4) Unidic V-5500 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
(Note 5) Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
(Note 6) Colorant base containing 50% pigment obtained by subjecting phthalocyanine blue to nitrified cotton and kneaded meat dispersion in the usual manner.
(Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2)
Examples 2, 3 and Comparative Examples 1, 2 were prepared in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table 1. The evaluation results are also shown in Table 1.
[0037]
[Table 1]
Figure 0004830224
[0038]
【The invention's effect】
According to the present invention, a gravure ink composition for an ultraviolet curable resist excellent in fine line reproducibility, acid resistance, and alkali stripping removal property can be obtained.

Claims (3)

(a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー及び又はオリゴマーを被膜形成成分中に10〜75質量%、(b)酸価が100以上であるアルカリ可溶型樹脂を被膜形成成分中に10〜75質量%、(c)チキソトロピック性付与剤を(a)成分と(b)成分の合計に対して5〜30質量%含有し、全体の酸価が50以上であり、チキソトロピック係数が1.4以上であることを特徴とする紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物。(A) 10 to 75% by mass of a UV-polymerizable monomer and / or oligomer having at least one carboxyl group and ethylenically unsaturated group in the molecule and an acid value of 30 or more in the film-forming component, (b 10) to 75% by mass of an alkali-soluble resin having an acid value of 100 or more in the film-forming component, and 5 to 5% of the total of (a) component and (b) component. A gravure ink composition for an ultraviolet curable resist, containing 30% by mass, having an overall acid value of 50 or more and a thixotropic coefficient of 1.4 or more. (a)分子中にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を各1個以上有し、酸価が30以上である紫外線重合性モノマー及び又はオリゴマーと、(b)酸価が100以上であるアルカリ可溶型樹脂の質量比(a)/(b)が、5/1〜1/5である請求項1に記載の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物。(A) a UV-polymerizable monomer and / or oligomer having at least one carboxyl group and ethylenically unsaturated group in the molecule and an acid value of 30 or more; and (b) an alkali capable having an acid value of 100 or more. The gravure ink composition for an ultraviolet curable resist according to claim 1, wherein the mass ratio (a) / (b) of the molten resin is 5/1 to 1/5. (c)チキソトロピック性付与剤が、インキ中で平均粒径が0.1〜6ミクロンの粒子である請求項1又は2に記載の紫外線硬化型レジスト用グラビアインキ組成物。The gravure ink composition for ultraviolet curable resist according to claim 1 or 2, wherein the thixotropic agent is a particle having an average particle diameter of 0.1 to 6 microns in the ink.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103073952A (en) * 2013-02-03 2013-05-01 云南彩丰油墨有限公司 Alcohol ester-soluble ink for cast coating cardboard intaglio printing and preparation method of alcohol ester-soluble ink

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4736308B2 (en) * 2003-02-25 2011-07-27 大日本印刷株式会社 UV curable overprint varnish composition
KR100898518B1 (en) * 2006-04-25 2009-05-20 주식회사 동진쎄미켐 Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter
WO2009118976A1 (en) 2008-03-27 2009-10-01 日新製鋼株式会社 Ink-jet ink composition for etching resist
JP6109896B2 (en) 2015-09-03 2017-04-05 日新製鋼株式会社 Method for removing resist film from metal plate and method for producing etched metal plate
US10429733B2 (en) * 2015-10-27 2019-10-01 Dic Graphics Corporation Low temperature baking adapted resist ink

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5785869A (en) * 1980-11-15 1982-05-28 Yoshikawa Kako Kk Ultraviolet-curing ink
JPS6123666A (en) * 1984-07-13 1986-02-01 Hitachi Ltd Plating-resistant solder resist ink composition
JPH01210479A (en) * 1988-02-18 1989-08-24 Nippon Soda Co Ltd Printing ink composition
JPH0841146A (en) * 1994-07-27 1996-02-13 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition, resist ink composition, and its cured item
JPH1135885A (en) * 1997-07-17 1999-02-09 Hitachi Chem Co Ltd Modified polyamide-imide resin paste and electronic part using the same
JPH1160659A (en) * 1997-08-18 1999-03-02 Toagosei Co Ltd Preparation of aqueous dispersion of reactive resin
JP3808999B2 (en) * 1997-12-08 2006-08-16 互応化学工業株式会社 Photoresist ink and printed wiring board manufacturing ink
JP3808997B2 (en) * 1997-12-08 2006-08-16 互応化学工業株式会社 Photo-curable printing ink and printed wiring board manufacturing ink

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103073952A (en) * 2013-02-03 2013-05-01 云南彩丰油墨有限公司 Alcohol ester-soluble ink for cast coating cardboard intaglio printing and preparation method of alcohol ester-soluble ink

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