JP4828948B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1の構成を示した図である。この基板処理装置1は、処理槽10に貯留された処理液に複数枚の基板(以下、単に基板という。)Wを浸漬することにより、基板Wを処理するための装置である。基板処理装置1は、主として、処理槽10と、配管部20と、制御部40とを備えている。本実施形態では、処理液として燐酸(H3PO4)溶液を使用し、基板Wの表面にエッチング処理を行う場合について説明する。
続いて、上記構成を有する基板処理装置1の動作について説明する。まず、処理槽10において基板Wを処理しつつ、処理液中の不純物を連続的に除去する場合について、図3のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、以下に説明する基板処理装置1の動作は、制御部40が、ヒータ13、リフタ、バルブV1〜V15、循環ポンプ22、ヒータ24、冷却機構25a、汲み上げポンプ26、ヒータ28a、冷却機構29a、汲み上げポンプ30、冷却機構32a等の動作を制御することにより進行する。
続いて、上記の基板処理装置1において、基板Wを処理した後、一度に処理液中の不純物を除去する場合について、図5のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、以下に説明する基板処理装置1の動作も、制御部40が、ヒータ13、リフタ、バルブV1〜V15、循環ポンプ22、ヒータ24、冷却機構25a、汲み上げポンプ26、ヒータ28a、冷却機構29a、汲み上げポンプ30、冷却機構32a等の動作を制御することにより進行する。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、上記の例では、処理液を再利用する場合のみについて説明したが、循環の途中で処理液の一部を積極的に排液し、新しい処理液を補充してもよい。具体的には、冷却タンク25,29に処理液を回収した後、バルブV9,V10を所定時間開放する。これにより、冷却タンク25,29から配管21j,21k,21lを通って排液タンク32へ、所定量の処理液を排液する。そして、バルブV11,V12を開放し、処理液供給源33から配管21m,21n,21oを通って冷却タンク25,29へ、処理液を補充する。これにより、不純物以外の要因による処理液の劣化を防止し、処理液の処理性能を維持できる。
10 処理槽
11 内槽
12 外槽
13 ヒータ
20 配管部
21a〜21r 配管
22 循環ポンプ
23 フィルタ
24 ヒータ
25,29 冷却タンク
25a,29a 冷却機構
26,30 汲み上げポンプ
27,31 フィルタ
28 予備温調タンク
28a ヒータ
32 排液タンク
33 処理液供給源
40 制御部
V1〜V15 バルブ
W 基板
Claims (8)
- 基板を処理液により処理する基板処理装置であって、
基板を収納するとともに、処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽から排出された処理液を再度前記処理槽へ供給する循環経路と、
前記循環経路途中において処理液を貯留するとともに、処理液を冷却する冷却槽と、
前記冷却槽に沈殿した不純物を前記冷却槽から排出する排出手段と、
前記循環経路途中の前記冷却槽よりも上流側及び下流側に連結され、新たな処理液の供給先を前記上流側と前記下流側とで切り替えて、当該供給先に前記新たな処理液を供給する処理液供給手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記冷却槽に貯留された処理液の上澄み液を汲み上げて、下流側の循環経路へ処理液を供給させる循環機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記循環経路途中の前記冷却槽よりも下流側において、処理液を加熱する加熱手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記処理槽は、基板を収容するとともに、基板を処理する内槽と、前記内槽の上部外側に前記内槽からオーバーフローした処理液を受ける外槽とを備え、
前記循環経路は、前記外槽から排出された処理液を再度前記内槽へ供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記循環経路は、前記処理槽の底部から処理液を再度前記処理槽へ供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記循環経路は、第1の循環経路と第2の循環経路とを備え、
前記第1の循環経路と前記第2の循環経路のそれぞれに、前記冷却槽が設けられ、
前記第1の循環経路と前記第2の循環経路とを切り替える循環経路切替手段を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項6までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記循環経路の前記冷却槽よりも下流側において、処理液中の不純物を濾し取るフィルタをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置であって、
前記循環経路途中の前記冷却槽よりも下流側において、処理液を貯留する処理液貯留槽をさらに備え、
前記加熱手段は、前記処理液貯留槽に貯留された処理液を加熱することを特徴とする基板処理装置。
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