JP4827520B2 - 樹脂ペレット貯蔵装置及びその清掃方法 - Google Patents

Description

本発明は、樹脂ペレットが貯蔵されるサイロを備えた樹脂ペレット貯蔵装置及びその清掃方法に関し、特に、低異物を要求されるポリカーボネート系樹脂ペレット、シクロヘキサン系樹脂ペレットなどの貯蔵に好適な樹脂ペレット貯蔵装置及びその清掃方法に関する。

低異物を要求される樹脂ペレットが知られている。例えば、光ディスク基板の材料として用いられる低異物ポリカーボネート系樹脂ペレットや低異物シクロヘキサン系樹脂ペレットにあっては、サイロ、配管などの装置側から派生した金属粉、樹脂のペレット化工程（押出機から出たストランドを切断して粒状にする工程）で発生した樹脂切粉、樹脂ペレットを空送する際に配管壁との接触などにより発生する樹脂屑などの含有量を低減することが要求される。これは、当該樹脂ペレットで成形された光ディスク基板を有する光ディスクにおいて、レーザーが光ディスク上に記録された情報を読み出す際、又は光ディスク上に情報を書き込む際に、レーザーの透過を異物が阻害し、エラーを増加させるからである。特に、近年においては、光ディスクにおける記憶容量（記録密度）の増加に伴い、含有異物の低減に対する要求が益々厳しくなっており、樹脂ペレットに同伴する異物を除去する除去装置（例えば、特許文献１参照）、微粉末の発生が少ない光学用成形材料も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特開平６−２７０１４５号公報 特開平１１−３４２５１０号公報

光ディスク基板等に用いられるポリカーボネート系樹脂やシクロヘキサン系樹脂に代表される低異物樹脂ペレットは、光ディスクの世界的需要の増加に伴って生産量が増加し、その生産設備も大型化してきている。例えば、樹脂ペレットを貯蔵するサイロも大型化しているが、この様なサイロでは、最初に排出（払い出し）される樹脂ペレットや、最後に排出される樹脂ペレットの異物含有量が増加する傾向がある。

図６は、従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置の概略断面図、図７は、従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置から排出した樹脂ペレットの異物含有量を示すグラフ、図８は、従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置において樹脂ペレットが排出される様子を時系列的に示す説明図である。
図６に示すように、樹脂ペレット貯蔵装置として使用される一般的なサイロ１００は、樹脂ペレットが投入される投入口１０１と、樹脂ペレットを貯溜する胴部１０２と、サイロ１００の下部を中心に向けて絞り込むコーン部１０３と、サイロ１００の最下部から樹脂ペレットを排出する排出口１０４と、サイロ１００の最下部よりも上方に溜った樹脂ペレットをサンプルとして抽出するサンプル抽出口１０５、レベル計１０６とを備えて構成されている。

図７は、上記のようなサイロ１００に樹脂ペレットを充填した後、空になるまで樹脂ペレットを排出しながら測定した異物含有量の変化を示しており、サイロ１００から最初に排出される樹脂ペレットや、最後に排出される樹脂ペレットにおいて、異物の含有量が増加する傾向がある。
これは静電気によりサイロ１００の内壁に付着した切粉や樹脂屑の影響と考えられる。例えば、図８に示すように、サイロ１００内の樹脂ペレットは、所謂、砂時計の砂の様に中心部から崩れて先に排出され、最後に外周部が崩れて排出されるため、最後に排出される樹脂ペレットは、サイロ１００の内壁に付着した切粉や樹脂屑を伴い易くなる。特に、最後に排出される樹脂ペレットは、コーン部１０３の内壁を擦りながら落ちてくるので、最下部に溜まった金属粉、切粉、樹脂屑等の異物を多く伴って排出される。

大型生産施設では、サイロの下流に、充填設備の様な別の設備が設けられており、サイロから最後に排出された樹脂ペレットが、含有する異物で下流の設備を汚染し、次のロットにおいて最初に排出される樹脂ペレットの異物含有量を増加させる可能性もある。
したがって、最後に排出される樹脂ペレットは、規格外品として別経路で処理されるべきである。規格外品として処理される樹脂ペレットの量は、サイロの大きさ、樹脂ペレットの規格、ロットの定義などにもよるが、ロットの区切りの境で特定バッチ数量（フレキシブルコンテナ、ローリー等の輸送容器容量）に満たないものを、他のロットと混合することなく、所謂、山欠け品として処理することができる。

しかしながら、現実的には、規格品と規格外品の区分けが難しいため、規格外品として処理すべき樹脂ペレットが規格品に混入し、規格品の異物含有量を増加させる可能性がある。また、最後に排出される樹脂ペレットを、規格品とは別の経路で処理する場合、経路の切換え等が必要になり、設備管理が煩雑になるという問題がある。
なお、最後に排出される樹脂ペレットを規格外品としないために、アフターブレンドと呼ばれるサイロ内均一化装置を用いて、サイロ内の樹脂ペレットを均一化する場合があるが、アフターブレンドは、折角、静電気によりサイロの内壁に付着した切粉や樹脂屑を再び樹脂ペレットに混入させ、異物含有量を増加させる可能性があるので、光ディスク基板等の材料として用いられる低異物樹脂ペレットにおいては、相応しい解決手段とは言えない。

ちなみに、特許文献１には、樹脂ペレットに同伴する微粉体を除去する除去装置が示されている。この除去装置は、樹脂ペレットが貯溜されるサイロからローリなどの輸送用容器に至る樹脂ペレット供給経路に介在し、除去装置内部に吹き込まれるイオン化気体によって、樹脂ペレットと微粉体の分離を促すとともに、分離された微粉体を排気口から排出させるものであるが、サイロに関する詳細な記述はない。
また、特許文献２には、微粉末の発生が少ない光学用成形材料が示されている。この光学用成形材料は、直径１．０ｍｍ以下の微粉体を２５０ｐｐｍ以下、更に１５０ｐｐｍ以下としているが、例えば、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＡＭのようなＤＶＤ用途向け低異物樹脂ペレットでは、５０ｐｐｍ以下、好ましくは３０ｐｐｍ以下でなければ、ディスクメーカーの要求は満たせない。
また、特許文献２は、押出機から吐出されたストランドのカッティング条件を定めたものであって、樹脂ペレットの貯蔵するサイロについては具体的な記述がない。

本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、規格外品として処理すべき高異物樹脂ペレットをサイロ内で明確に区分けし、規格品の異物含有量を低減させることができるだけでなく、規格外品を別経路から排出し、下流設備の汚染を回避できる樹脂ペレット貯蔵装置及びその清掃方法の提供を目的とする。

上記目的を達成するため本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、樹脂ペレットを貯蔵するサイロと、前記サイロ内の最下部よりも上方に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の少ない低異物樹脂ペレットを規格品として前記サイロ外に排出する規格品排出経路と、前記サイロ内の最下部に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の多い高異物樹脂ペレットを規格外品として前記サイロ外に排出する規格外品排出経路とを備える構成としてある。

このようにすると、規格外品として処理すべき高異物樹脂ペレットがサイロ内で明確に区分けされるので、規格品に対する高異物樹脂ペレットの混入を避け、規格品の異物含有量を低減させることができる。
また、規格品の排出経路と、規格外品の排出経路が別々に確保されているので、規格外品による下流設備の汚染を回避できるだけでなく、管理の簡略化も図れる。

また、本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、前記サイロ内の前記規格品排出経路の樹脂ペレット流入口よりも上方に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の少ない低異物樹脂ペレットを、サンプルとして前記サイロから抽出するサンプル抽出経路を備える構成としてある。
このようにすると、サイロ内の最下部よりも上方に溜った規格品と同等の低異物樹脂ペレットを、例えば、分析評価用サンプルとして抽出することができる。

また、本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、前記規格品排出経路の樹脂ペレット流入口を、複数に分割されている多重管構造としてある。
このようにすると、規格品排出経路にブレンド機能を付与し、規格品における異物含有量の均一化が図れる。

また、本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、前記サイロのペレット投入口に近接して配置され、前記ペレット投入口から投入されたペレットの一部を前記サイロの内壁に沿って落下させる、中心部に孔を有する傘状の誘導部材を備える構成としてある。
このようにすると、サイロに対する樹脂ペレットの投入開始時に、樹脂ペレットがサイロの内壁に当たり、ここに付着した切粉や樹脂屑を落下させるので、これらの切粉や樹脂屑をサイロの最下部近傍に溜め、規格品と区分けできる。これにより、前回のロットでサイロの内壁に付着残留した切粉や樹脂屑による異物含有量の増加を回避できる。

また、本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、前記サイロの内圧を外気の圧力と均一化させる差圧調整用通気経路を備えるとともに、この差圧調整用通気経路に、外気からの異物混入を防止するフィルタを備える構成としてある。
このようにすると、樹脂ペレットの排出に伴ってサイロ内が負圧となっても、フィルタで濾過されたクリーンエアーによって差圧調整されるので、外気の吸入によるサイロ内の汚染を防止することができる。

また、本発明の樹脂ペレット貯蔵装置は、前記サイロ内の圧力を正圧に保つための気体を供給する気体供給経路を備えるとともに、この気体供給経路に、異物混入を防止するフィルタを備える構成としてある。
このようにすると、クリーンな気体によってサイロ内を常に正圧に保ち、サイロ内が負圧になって外気が吸入されることによるサイロ内の汚染を防止することができる。

また、本発明に係る樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法は、上記の樹脂ペレット貯蔵装置を清掃する方法であって、前記規格外品排出経路を開け、前記サイロ内の最下部に溜った高異物樹脂ペレットを前記サイロ外に排出した後、前記規格外品排出経路を開けたまま、前記サイロの内壁に付着した付着物の除去処理を行う方法としてある。
このようにすると、サイロの内壁に付着した切粉や樹脂屑を除去し、規格外品排出経路から排出することができる。これにより、前回のロットでサイロの内壁に付着残留した切粉や樹脂屑の混入による異物含有量の増加を回避できる。

また、本発明に係る樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法は、前記除去処理が、前記サイロに樹脂ペレットを投入するための空送エアーを用いて、前記サイロ内をブローする処理、及び／又は、前記サイロの外壁に機械的な衝撃や振動を与える処理としてある。
このようにすると、既存設備の利用や比較的簡単な装置の追加により、サイロ内の清掃が可能となる。

以上のように、本発明によれば、規格外品として処理すべき高異物樹脂ペレットがサイロ内で明確に区分けされるので、規格品に対する高異物樹脂ペレットの混入を避け、規格品の異物含有量を低減させることができる。
また、規格品の排出経路と、規格外品の排出経路が別々に確保されているので、規格外品による下流設備の汚染を回避できるだけでなく、管理の簡略化も図れる。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。

［樹脂ペレット貯蔵装置］
まず、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置について、図１〜図５を参照して説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の全体正面断面図、図２の（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の下部平面断面図、下部正面断面図、図３の（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の上部平面断面図、上部正面断面図、図４の（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置のスライドゲートバルブを示す説明図、（ｃ）は、従来例に係るスライドゲートバルブの説明図、図５の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置のロータリバルブを示す斜視図、平面図、側面図である。

図１に示すように、樹脂ペレット貯蔵装置は、サイロ１、規格品排出経路２、規格外品排出経路３、サンプル抽出経路４などを備えて構成されている。
サイロ１は、上部に投入口５を有する胴部６と、サイロ１の下部を中心に向けて絞り込むコーン部７とを備え、投入口５から投入された樹脂ペレットを貯溜する。樹脂ペレットには、切粉、樹脂屑などの異物が含まれる。異物の一部は、静電気でサイロ１の内壁に付着したり、ここから落下してサイロ１の最下部に溜りやすい。
規格品排出経路２は、サイロ１内の最下部近傍よりも上方に保有される低異物樹脂ペレットを、規格品としてサイロ１外に排出する経路であり、本実施形態では、サイロ１の底部を上下方向に貫通する配管で構成される。
規格外品排出経路３は、サイロ１内の最下部近傍に溜った高異物樹脂ペレットを、規格外品としてサイロ１外に排出する経路であり、本実施形態では、コーン部７の最下部に連通する配管で構成される。
サンプル抽出経路４は、サイロ１内の最下部近傍よりも上方に保有される低異物樹脂ペレットを、サンプルとしてサイロ１外に抽出する経路であり、本実施形態では、コーン部７を斜め方向に貫通する配管で構成される。

樹脂ペレット貯蔵装置をこのように構成すると、規格外品として処理すべき高異物樹脂ペレットがサイロ１内で明確に区分けされるので、規格品に対する高異物樹脂ペレットの混入を避け、規格品の異物含有量を低減できる。
また、規格品排出経路２と規格外品排出経路３が別々に確保されているので、規格外品による下流設備の汚染を回避できるだけでなく、管理の簡略化も図れる。
また、サンプル抽出経路４は、サイロ１内の最下部近傍よりも上方から樹脂ペレットを抽出するので、規格品と同等の低異物樹脂ペレットをサンプルとして抽出できる。

図２に示すように、例えば、規格品排出経路２の樹脂ペレット流入口は、上方にラッパ状に広がる多重管構造とすることができる。具体的には、径寸法が異なる複数のコーン部材８を組み合せることにより、平面から見て同心円状の流入口を複数形成する。
このようにすると、複数の流入口から流入した樹脂ペレットがその下方で合流することにより、樹脂ペレットがブレンドされるので、規格品排出経路２にブレンダ機能を付加し、規格品における異物含有量の均一化が図れる。
なお、樹脂ペレット流入口は、渦巻状の多重構造にしてもよい。このようにしても、上記効果を得ることができる。

図３に示すように、サイロ１内の上部には、サイロ１の上部から投入された樹脂ペレットをサイロ１の内壁に沿って落下させる誘導部材９を設けることが好ましい。例えば、中心部に孔１０を有する傘状の部材で誘導部材９を構成すれば、投入された樹脂ペレットの８０〜９０％を孔１０から落下させつつ、誘導部材９の斜面に載った１０〜２０％の樹脂ペレットを外方に導き、サイロ１の内壁に沿って落下させることができる。
このようにすると、サイロ１に対する樹脂ペレットの投入開始時に、樹脂ペレットがサイロ１の内壁に当たり、ここに付着した切粉や樹脂屑を落下させるので、これらの切粉や樹脂屑をサイロ１の最下部に溜め、規格品と区分けできる。これにより、前回のロットでサイロ１の内壁に付着残留した切粉や樹脂屑による異物含有量の増加を回避できる。

図１に示すように、サイロ１の上部には、その内外をフィルタ１１（ＨＥＰＡフィルタ、好ましくはＵＬＰＡフィルタ）を介して通気させる差圧調整用通気経路１２を備えることが好ましい。
このようにすると、樹脂ペレットの排出に伴ってサイロ１内が負圧となっても、フィルタ１１で濾過されたクリーンエアーによって差圧調整されるので、外気の吸入によるサイロ１内の汚染を防止できる。

図１に示すように、サイロ１の上部には、サイロ１内にクリーンな気体を供給する気体供給経路１３を備えることが好ましい。例えば、フィルタ１４（ＨＥＰＡフィルタ、好ましくはＵＬＰＡフィルタ）で濾過され、露点−１０℃以下まで乾燥されたクリーンエアーやクリーン窒素をサイロ１内に供給する。
このようにすると、クリーンな気体によってサイロ１内が常に正圧に保つことができるので、外気の吸入によるサイロ１内の汚染を防止できる。

規格品排出経路２を開閉するバルブとしては、一般的に、ボールバルブ、バタフライバルブ、スライドゲートバルブなどが用いられるが、いずれもバルブが閉じる際、バルブ内での樹脂ペレットの噛み込みを避けることが難しく、せっかく低減した異物が再び発生してしまうという問題がある。
特に、一般的なスライドゲートバルブ１５の場合、図４の（ｃ）に示すように、ゲートナイフ１６が収納されるゲートポケット部１７とゲートナイフ１６の先端の間にどうしても樹脂ペレットを噛み込んでしまうため、異物の発生リスクが他のバルブよりも高くなる。

そこで、本実施形態のスライドゲートバルブ１５は、図４の（ａ）に示すように、ゲートナイフ１６を斜め上方から斜め下方に向けて移動させるとともに、斜め下方のゲートポケット部１７を下方が開放した形状とすることにより、樹脂ペレットの噛み込みを最小限に低減する。
また、図４の（ｂ）に示すように、ゲートナイフ１６が斜め上方に格納される際、ゲートナイフ１６の表面に静電気で付着した樹脂ペレットを噛み込まないように、少なくとも、露点−１０℃以下まで乾燥されたクリーンエアーやクリーン窒素をゲートナイフ１６に向けて噴射し、付着した樹脂ペレットを吹き飛ばすことが好ましい。

また、サイロ１の下流に輸送用の設備を備える場合、特に、空送の場合は、エジェクタを具備することが一般的であるが、貯蔵設備が大型化し、１００トンを超えるような樹脂ペレットを貯蔵する場合には、サイロ１の下流にバルブとエジェクタを具備しても、樹脂ペレットの自重による負荷が大きく、十分な空送能力を確保することができないため、ロータリバルブ１８が用いられる。しかしながら、ロータリバルブ１８でも、樹脂ペレットの噛み込みが発生するので、せっかく低減した異物が発生するという問題がある。

そこで、本実施形態のロータリバルブ１８は、図５に示すように、ロータリバルブ１８の樹脂ペレット投入口側に、ローターブレード１９と筐体２０による樹脂ペレット噛み込位置２１の上方にガイド部２２を設け、該ガイド部２２で樹脂ペレットを後続のローターブレード１９側へ導くことにより、噛み込みを防止する。
この例は、ロータリバルブ１８の筐体側に加工を施したものであるが、「く」の字状に加工したローターブレード１９でも同様な効果が期待できる。
なお、サイロ１の内部については、ペレット接触面のすべての溶接ビードを除去し、少なくともIIＢ板相当の表面粗さとしなければならない。好ましくは#３００、更に好ましくは#４００以上のバフ研磨を施すことが好ましい。
また、スライドゲートバルブ、ロータリバルブの内部についても、ペレット接触面のすべての溶接ビードを除去し、少なくとも#３００以上、好ましくは#４００以上のバフ研磨を施さなければならない。

［樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法］
つぎに、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法について、図１を参照して説明する。
本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法は、規格外品排出経路３を開け、サイロ１内の最下部に溜った高異物樹脂ペレットをサイロ１外に排出した後、規格外品排出経路３を開けたまま、サイロ１の内壁に付着した付着物の除去処理を行う点に特徴がある。
このようにすると、サイロ１の内壁に付着した切粉や樹脂屑を除去し、規格外品排出経路３から排出することができるので、前回のロットでサイロ１の内壁に付着残留した切粉や樹脂屑による異物含有量の増加を回避できる。

除去処理としては、サイロ１に樹脂ペレットを投入するための空送エアーを用いてサイロ１内をブローする処理や、サイロ１の外壁にハンマリング等の機械的な衝撃や振動を与える処理があり、いずれか一方の処理や両方の処理を行うことができる。
このようにすると、既存設備の利用や比較的簡単な装置の追加により、サイロ１内の清掃が可能なる。

つぎに、本発明の実施例及び比較例について説明する。

［実施例１］
図１に示すサイロ１（内容積：２６０ｍ^３、約１８０ＭＴのペレットが貯蔵可能）を使用した。サイロ１は、底部から内部に突き出した樹脂配管からなる規格品排出経路２（内径１２インチ、底部から内部に突き出した長さ６００ｍｍ）と、サイロ１の最下部に溜まった樹脂ペレットを抜き出すための規格外品排出経路３（内径８インチ）と、サイロ１の内部中央部から樹脂ペレットをサンプリングするサンプル抽出経路４を備える構造とした。
樹脂ペレットの投入前に、サイロ１の内部をエアーブローし、また、サイロ１の外壁をハンマリングし、サイロ１の内壁に静電気で付着していたポリカーボネート微粉体を可能な限り除去した。このサイロ１にポリカーボネート樹脂ペレット（１６メッシュ・アンダーのポリカーボネート微粉体を８０ｐｐｍ含有）を１５０ＭＴ投入し、規格品排出経路２から約１４９．３ＭＴの樹脂ペレットを抜き出した。抜き出されたポリカーボネート樹脂ペレット中の１６メッシュ・アンダーの微粉体含有量を測定したところ、その含有率は３０ｐｐｍであった。１６メッシュ・アンダーの微粉体除去率は、６８％であった。
これは、１５０ＭＴに含まれる８０ｐｐｍの微粉体１２ｋｇの内７．５ｋｇが、サイロ１の内壁に付着したと考えられる。また、サイロ１の最下部に溜まった樹脂ペレット７００ｋｇの微粉体量を調べたところ、２２０ｐｐｍに増加していた。

［実施例２］
実施例１において、１６メッシュパスの微粉体を２００ｐｐｍ含有するポリカーボネート樹脂ペレットに変更した以外は同様にして実施した結果、規格品排出経路２から抜き出されたポリカーボネート樹脂ペレット中の１６メッシュパスの微粉体量は１１０ｐｐｍであった。１６メッシュパスの微粉体除去率は、４５％であった。

［比較例１］
内部には、底部から内部に突き出した樹脂排出配管（規格品排出経路）を具備しないサイロ（内容積：２６０ｍ^３、約１８０ＭＴのペレットが貯蔵可能）を使用し、同じく樹脂ペレットの投入前に、サイロの内部をエアーブローし、また、サイロの外壁をハンマリングし、サイロの内壁に静電気で付着していたポリカーボネート微粉体を可能な限り除去した。
このサイロにポリカーボネート樹脂ペレット（１６メッシュパスの微粉体を８０ｐｐｍ含有）を１５０ＭＴ投入した。樹脂排出配管（規格品排出経路）がないので、約１５０ＭＴの樹脂ペレットが抜き出される。抜き出し最中のポリカーボネート樹脂ペレット中の16メッシュパスの微粉体含有量を測定したところ、その含有率は同じく３０ｐｐｍであったが、抜き出し直後の０．５トン、並びにサイロが空になる前の１４７トンを抜き出した辺りから１６メッシュパスの微粉体が増加し、始めの０．５トン、最後の１トンの微粉体量は最大で１１０ｐｐｍ、１８０ｐｐｍと急増した。
これらを考慮すると、サイロを１ロットと見れば、この１ロットの樹脂ペレットの品質を一定に保つためには、特に、微粉体の多い抜き出し直後、最後を合わせた最低２〜３トン程度を山欠け品（規格外品）とし、規格品と区分けして管理する必要がある。

本発明は、樹脂ペレットが貯蔵されるサイロを備えた樹脂ペレット貯蔵装置に適用でき、特に、低異物を要求されるポリカーボネート系樹脂ペレット、シクロヘキサン系樹脂ペレットなどの貯蔵に好適な樹脂ペレット貯蔵装置に好適である。

本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の全体正面断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の下部平面断面図、下部正面断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置の上部平面断面図、上部正面断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置のスライドゲートバルブを示す説明図、（ｃ）は、従来例に係るスライドゲートバルブの説明図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施形態に係る樹脂ペレット貯蔵装置のロータリバルブを示す斜視図、平面図、側面図である。 従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置の概略断面図である。 従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置から排出した樹脂ペレットの異物含有量を示すグラフである。 従来例に係る樹脂ペレット貯蔵装置において樹脂ペレットが排出される様子を時系列的に示す説明図である。

符号の説明

１ サイロ
２ 規格品排出経路
３ 規格外品排出経路
４ サンプル抽出経路
５ 投入口
９ 誘導部材
１２ 差圧調整用通気経路
１３ 気体供給経路

Claims (8)

1. 樹脂ペレットを貯蔵するサイロと、
   前記サイロ内の最下部よりも上方に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の少ない低異物樹脂ペレットを規格品として前記サイロ外に排出する規格品排出経路と、
   前記サイロ内の最下部に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の多い高異物樹脂ペレットを規格外品として前記サイロ外に排出する規格外品排出経路と
   を有することを特徴とする樹脂ペレット貯蔵装置。
2. 前記サイロ内の前記規格品排出経路の樹脂ペレット流入口よりも上方に樹脂ペレット流入口を配置し、異物含有量の少ない低異物樹脂ペレットを、サンプルとして前記サイロから抽出するサンプル抽出経路を備えることを特徴とする請求項１記載の樹脂ペレット貯蔵装置。
3. 前記規格品排出経路の樹脂ペレット流入口が、複数に分割されている多重管構造であることを特徴とする請求項１又は２記載の樹脂ペレット貯蔵装置。
4. 前記サイロのペレット投入口に近接して配置され、前記ペレット投入口から投入されたペレットの一部を前記サイロの内壁に沿って落下させる、中心部に孔を有する傘状の誘導部材を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂ペレット貯蔵装置。
5. 前記サイロの内圧を外気の圧力と均一化させる差圧調整用通気経路を備えるとともに、この差圧調整用通気経路に、外気からの異物混入を防止するフィルタを備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂ペレット貯蔵装置。
6. 前記サイロ内の圧力を正圧に保つための気体を供給する気体供給経路を備えるとともに、この気体供給経路に、異物混入を防止するフィルタを備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂ペレット貯蔵装置。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂ペレット貯蔵装置を清掃する方法であって、
   前記規格外品排出経路を開け、前記サイロ内の最下部近傍に溜った高異物樹脂ペレットを前記サイロ外に排出した後、
   前記規格外品排出経路を開けたまま、前記サイロの内壁に付着した付着物の除去処理を行う
   ことを特徴とする樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法。
8. 前記除去処理が、前記サイロに樹脂ペレットを投入するための空送エアーを用いて、前記サイロ内をブローする処理、及び／又は、前記サイロの外壁に機械的な衝撃や振動を与える処理であることを特徴とする請求項７記載の樹脂ペレット貯蔵装置の清掃方法。

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