JP4807040B2 - 測定システム、初期化、振動補償、低伝播性、及び軽量精密ステージを有するステージ装置 - Google Patents
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Description
(iii)Y駆動機754Fは、EIコアアクチュエータであり、(iv)第2ペアの各Y駆動機755F,755Sは、ボイスコイルモータである。この構成により、例えば、(i)X駆動機752Fの第1ペアをX軸に沿った第2ステージ740の素早い粗動に用いることができ、(ii)X駆動機753Fの第2ペアをX軸に沿った第2ステージ740の精密移動に用いることができ、(iii)Y駆動機754FをY軸に沿った第2ステージ740の素早い粗動に用いることができ、(iv)Y駆動機755F,755Sの第2ペアを、Y軸に沿った、また、Z軸周りに関する第2ステージ740の精密な移動に用いることができる。
Ma+Cv+Kd=F …式(1)
If F=Cv+Kd+u …式(2)
Ma=u …式(3)
Ma−Ma=0 …式(4)
そこで、dをrとする。
[M]qa−[C]qv+[K]qd=F …式(5)
F=[C]qv+[K]qd+u …式(6)
Claims (22)
- 第1軸周りにワークピースを位置決めするステージ装置であって、
第1ステージと;
前記ワークピースを保持する第2ステージと;
前記第1ステージと相対的に前記第2ステージを前記第1軸周りに移動させる第2移動装置と;
前記第1軸周りに関する第1の作動範囲を有し、該第1の作動範囲内に前記第2ステージが位置する際に、前記第2ステージの前記第1軸周りの位置をモニターする測定システムと;
前記第1軸周りに関して前記第2ステージが前記第1の作動範囲外に回転した際に、前記第1軸周りに関する前記第2ステージの動きを促す初期化システムと;
を備え、
前記第2ステージが、前記第2軸周りに関して、前記測定システムの前記第2軸周りに関する第2の作動範囲内に位置する際に、前記測定システムが前記第2ステージの前記第2軸周りの位置をモニターし、
前記第2軸周りに関して、前記第2ステージが、前記第2の作動範囲外に回転した際に、前記第2ステージの前記第1軸及び前記第2軸周りの位置を、前記初期化システムがモニターするステージ装置。 - 前記第1軸周りに関して前記第2ステージが前記第1の作動範囲外に回転した際に、前記第1軸周りの前記第2ステージの位置を、前記初期化システムがモニターする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記第2ステージが、第3軸周りに関して、前記測定システムの前記第3軸周りに関する第3の作動範囲内に位置する際に、前記測定システムが前記第2ステージの前記第3軸周りの位置をモニターし、
前記第3軸周りに関して、前記第2ステージが、前記第3の作動範囲外に回転した際に、前記第2ステージの前記第3軸周りの位置を、前記初期化システムがモニターする請求項1または請求項2に記載のステージ装置。 - 前記初期化システムは、第1アライナーを有し、
前記第2移動装置は、前記第2ステージを前記第1アライナーに寄せて、前記第2ステージを前記測定システムの前記第1軸周りに関する第1の作動範囲内に位置付ける請求項1から3のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。 - 前記初期化システムは、第2アライナーを有し、
前記第2移動装置は、前記第2ステージを前記第2アライナーに寄せて、前記第2ステージを前記測定システムの前記第2軸周りに関する第2の作動範囲内に位置付ける請求項4に記載のステージ装置。 - 前記初期化システムは、第3アライナーを有し、
前記第2移動装置は、前記第2ステージを前記第3アライナーに寄せて、前記第2ステージを前記測定システムの前記第3軸周りに関する第3の作動範囲内に位置付ける請求項5に記載のステージ装置。 - 前記第1アライナーは、前記第2ステージが前記第1アライナーに係わっている間の、前記第1アライナーに対する前記第2ステージの相対移動を許容する接触領域を有する請求項4に記載のステージ装置。
- 前記初期化システムは、前記第2ステージ及び第1アライナーの位置をモニターする第1センサーを有し、
前記第2移動装置は、前記第2ステージを前記第1アライナーに寄せて、前記第2ステージを前記測定システムの前記第1軸周りに関する第1の作動範囲内に位置付ける請求項1に記載のステージ装置。 - 3自由度に前記第1ステージを移動させる第1移動装置をさらに備える請求項1から8のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記第2移動装置は、駆動機と、前記第1ステージから前記第2ステージへの振動の伝達を低減する減衰器とを有し、
前記第1ステージからの振動を補償する出力を、前記駆動機に与える制御システムをさらに備える請求項1から9のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。 - 照明系と請求項1から10のうちのいずれか一項に記載のステージ装置とを有する露光装置。
- 基板を用意する工程と、請求項11に記載の露光装置を用いて前記基板上に像を形成する工程とを有するデバイス製造方法。
- 基板を用意する工程と、請求項11に記載の露光装置を用いて前記ウエハ上に像を形成する工程とを有するウエハ製造方法。
- 前記第2移動装置は、前記第1ステージから前記第2ステージへの振動の伝達を低減する減衰器と、前記第1軸に沿った前記減衰機の動きに関する位置情報を検出する検出器とを有し、
前記検出器で検出された情報を用いて前記第1ステージからの振動を補償する制御システムをさらに備え、
前記初期化システムは、前記検出器を利用して前記第2ステージの位置をモニターする請求項1から10のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。 - 第1軸周りにワークピースを位置決めする方法であって、
第1ステージを用意する工程と;
前記ワークピースを保持する第2ステージを用意する工程と;
第2移動装置によって前記第1ステージと相対的に前記第2ステージを前記第1軸周りに移動させる移動工程と;
測定システムの前記第1軸周りに関する第1の作動範囲内に前記第2ステージが位置する際に、前記第2ステージの前記第1軸周りの位置を前記測定システムによってモニターする位置モニター工程と;
前記第1軸周りに関して、前記第2ステージが、前記第1の作動範囲外に回転した際に、前記第1軸周りに関する前記第2ステージの動きを促す初期化システムによって、前記測定システムを初期化する初期化工程と;
を備え、
前記位置モニター工程は、前記第2ステージが、前記測定システムの前記第2軸周りに関する第2の作動範囲内に位置する際に、前記第2ステージの前記第2軸周りの位置を前記測定システムがモニターする工程を有し、
前記初期化工程は、前記第2軸周りに関して、前記第2ステージが前記第2の作動範囲外に回転した際に、前記第2ステージの前記第1軸及び前記第2軸周りの位置を前記初期化システムがモニターする工程を有する位置決め方法。 - 前記第1軸周りに関して前記第2ステージが、前記第1の作動範囲外に回転した際に、前記第1軸周りの前記第2ステージの位置を、前記初期化システムがモニターする請求項15に記載の位置決め方法。
- 前記初期化システムは、第1アライナーを有し、
前記移動工程は、前記第2ステージを、前記測定システムの前記第1軸周りに関する前記第1の作動範囲内に位置付けるために、前記第2ステージを前記第1アライナーに寄せる工程を有する請求項15または請求項16に記載の位置決め方法。 - 前記初期化システムは、第2アライナーを有し、
前記移動工程は、前記第2ステージを、前記測定システムの前記第2軸周りに関する前記第2の作動範囲内に位置付けるために、前記第2ステージを前記第2アライナーに寄せる工程を有する請求項17に記載の位置決め方法。 - 前記第1アライナーは、前記第2ステージが第1アライナーに係わっている間の前記第1アライナーに対する前記第2ステージの相対移動を許容する接触領域を有する請求項17に記載の位置決め方法。
- 前記初期化システムは、前記第2ステージの位置をモニターする第1センサーと第1アライナーとを有し、
前記移動工程は、前記第2ステージを、前記測定システムの前記第1軸周りに関する前記第1の作動範囲内に位置付けるために、前記第2ステージを前記第1アライナーに寄せる工程を有する請求項15に記載の位置決め方法。 - 第1移動装置によって3自由度に前記第1ステージを移動させる工程をさらに備える請求項15から20のうちのいずれか一項に記載の位置決め方法。
- ワークピースを露光する方法であって、
ビームを発生させる工程と、請求項15に記載の方法により前記ビームの光路に前記ワークピースを位置決めする工程と、を有する露光方法。
Applications Claiming Priority (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US62438504P | 2004-11-02 | 2004-11-02 | |
US60/624,385 | 2004-11-02 | ||
US62569904P | 2004-11-04 | 2004-11-04 | |
US60/625,699 | 2004-11-04 | ||
US64790105P | 2005-01-28 | 2005-01-28 | |
US60/647,901 | 2005-01-28 | ||
US11/048,405 US7869000B2 (en) | 2004-11-02 | 2005-01-31 | Stage assembly with lightweight fine stage and low transmissibility |
US11/048,405 | 2005-01-31 | ||
US11/258,249 US7417714B2 (en) | 2004-11-02 | 2005-10-24 | Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage |
US11/258,249 | 2005-10-24 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011142126A Division JP2011199317A (ja) | 2004-11-02 | 2011-06-27 | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006165523A JP2006165523A (ja) | 2006-06-22 |
JP4807040B2 true JP4807040B2 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=36667136
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005318689A Expired - Fee Related JP4807040B2 (ja) | 2004-11-02 | 2005-11-01 | 測定システム、初期化、振動補償、低伝播性、及び軽量精密ステージを有するステージ装置 |
JP2014054205A Expired - Fee Related JP5817873B2 (ja) | 2004-11-02 | 2014-03-17 | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014054205A Expired - Fee Related JP5817873B2 (ja) | 2004-11-02 | 2014-03-17 | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7417714B2 (ja) |
JP (2) | JP4807040B2 (ja) |
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- 2005-11-01 JP JP2005318689A patent/JP4807040B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-07-23 US US12/178,240 patent/US8582080B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-03-17 JP JP2014054205A patent/JP5817873B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014160832A (ja) | 2014-09-04 |
JP2006165523A (ja) | 2006-06-22 |
US20080278705A1 (en) | 2008-11-13 |
US7417714B2 (en) | 2008-08-26 |
US8582080B2 (en) | 2013-11-12 |
US20060101928A1 (en) | 2006-05-18 |
JP5817873B2 (ja) | 2015-11-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081002 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110426 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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