JP2619565B2 - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造のために用いられるのに適した電
子ビーム描画装置に関する。
子ビーム描画装置に関する。
電磁ビーム描画装置にあつては、試料に所定のパター
ンを形成するように試料をＸおよびＹ方向に移動させる
ことが必要である。そのような例はたとえば特開昭52−
6084号公報に記載されている。
ンを形成するように試料をＸおよびＹ方向に移動させる
ことが必要である。そのような例はたとえば特開昭52−
6084号公報に記載されている。
試料をＸおよびＹ方向に移動する装置はそのクリーニ
ングを行つたり、給油を行つたりといつたいわゆるメン
テナンスのために１年に１度程度真空試料窓から取り出
し、その後試料案内に再び装着することが実際上必要で
ある。
ングを行つたり、給油を行つたりといつたいわゆるメン
テナンスのために１年に１度程度真空試料窓から取り出
し、その後試料案内に再び装着することが実際上必要で
ある。
しかし、通常の電子ビーム描画装置にあつては、メン
テナンスの容易化および再組立時の容易な装置精度再現
化といつた点については特別な配慮が払われていないの
が現状である。
テナンスの容易化および再組立時の容易な装置精度再現
化といつた点については特別な配慮が払われていないの
が現状である。
したがつて、本発明の目的はメンテナンスの容易化お
よび再組立時の装置精度再調整の実質的な不要化を達成
することができる電子ビーム描画装置を提供することに
ある。
よび再組立時の装置精度再調整の実質的な不要化を達成
することができる電子ビーム描画装置を提供することに
ある。
本発明によれば、電子ビームを発生し、試料に向ける
手段と、その試料に所定のパターンを形成するように前
記電子ビームの偏向とオン−オフを行う手段と、前記電
子ビームを真空にさらすように配置された真空鏡筒と、
前記試料を支持する第１のテーブルおよびこの第１のテ
ーブルを支持する第２のテーブルを含む試料ステージ
と、前記第１のテーブルをＸおよびＹ方向のうちの一方
に、前記第２のテーブルを他方に移動する手段と、前記
真空鏡筒と真空的に連通し、かつ前記試料および試料ス
テージを収容するように配置された真空試料室と、前記
試料ステージおよび移動手段を支持する手段とを備え、
前記真空試料室の一部は開口され、前記支持手段は前記
真空試料室の開口された部分に着脱自在に取り付けられ
ている電子ビーム描画装置が提供される。
手段と、その試料に所定のパターンを形成するように前
記電子ビームの偏向とオン−オフを行う手段と、前記電
子ビームを真空にさらすように配置された真空鏡筒と、
前記試料を支持する第１のテーブルおよびこの第１のテ
ーブルを支持する第２のテーブルを含む試料ステージ
と、前記第１のテーブルをＸおよびＹ方向のうちの一方
に、前記第２のテーブルを他方に移動する手段と、前記
真空鏡筒と真空的に連通し、かつ前記試料および試料ス
テージを収容するように配置された真空試料室と、前記
試料ステージおよび移動手段を支持する手段とを備え、
前記真空試料室の一部は開口され、前記支持手段は前記
真空試料室の開口された部分に着脱自在に取り付けられ
ている電子ビーム描画装置が提供される。
このような本発明によれば、試料ステージおよび試料
移動手段が支持手段によつて支持され、そしてこの支持
手段は真空試料室の開口された部分に着脱可能に取り付
けられているので、試料ステージのメンテナンスのため
にそれを真空試料室に対して出し入れするときは移動手
段もそれと一体となつて出し入れされることになる。こ
のため、メンテナンス作業が容易となり、また装置精度
再調整の実質的な不要化図られる。
移動手段が支持手段によつて支持され、そしてこの支持
手段は真空試料室の開口された部分に着脱可能に取り付
けられているので、試料ステージのメンテナンスのため
にそれを真空試料室に対して出し入れするときは移動手
段もそれと一体となつて出し入れされることになる。こ
のため、メンテナンス作業が容易となり、また装置精度
再調整の実質的な不要化図られる。
以下、本発明の一実施例を第１図，第２図，第３図お
よび第４図により説明する。
よび第４図により説明する。
第２図は装置の全体構成を示す。電子銃1aより放出さ
れた電子ビームは絞り1e,1fにより所望の形状に成形さ
れ、縮小レンズ1bと対物レンズ1cとによつて試料13上に
照射される。１は真空鏡筒で、電子ビームが真空にさら
されるように配置される。電子ビームの照射位置は試料
ステージ２と偏向器1dによつて位置決めされ、試料ステ
ージ２の正確な位置はレーザ干渉システム６によつて計
測される。電子レンズ及び偏向器は真空鏡筒１内に設置
され、試料ステージ２は真空試料室５内に設置されてい
る。また、試料の交換を行う試料交換装置（ローダ）３
が試料室５に隣接して設置されている。それぞれの真空
容器は真空排気装置４によつて高真空に排気される。
れた電子ビームは絞り1e,1fにより所望の形状に成形さ
れ、縮小レンズ1bと対物レンズ1cとによつて試料13上に
照射される。１は真空鏡筒で、電子ビームが真空にさら
されるように配置される。電子ビームの照射位置は試料
ステージ２と偏向器1dによつて位置決めされ、試料ステ
ージ２の正確な位置はレーザ干渉システム６によつて計
測される。電子レンズ及び偏向器は真空鏡筒１内に設置
され、試料ステージ２は真空試料室５内に設置されてい
る。また、試料の交換を行う試料交換装置（ローダ）３
が試料室５に隣接して設置されている。それぞれの真空
容器は真空排気装置４によつて高真空に排気される。
上記各要素の制御は高圧電源7,レンズ電源8,偏向制御
系9,ステージ，ローダ制御系10および排気制御系11によ
り行い、全体の制御はCPU12によつて行う。描画、すな
わち試料13への所望のパターンの形成は電子ビームの偏
向とオン−オフによつて行われ、またその過程では電子
ビームサイズの制御も行われる。もちろん、これはCPU1
2により実行される。
系9,ステージ，ローダ制御系10および排気制御系11によ
り行い、全体の制御はCPU12によつて行う。描画、すな
わち試料13への所望のパターンの形成は電子ビームの偏
向とオン−オフによつて行われ、またその過程では電子
ビームサイズの制御も行われる。もちろん、これはCPU1
2により実行される。
第１図に試料ステージ部の詳細図を示す。試料ステー
ジはＸテーブル15,Yテーブル（トツプテーブル）14から
なり、これらはベース16により支持される。
ジはＸテーブル15,Yテーブル（トツプテーブル）14から
なり、これらはベース16により支持される。
試料13のＸ方向移動の場合には、Ｘテーブル15とＹテ
ーブル14が一体となつて、クロスローラーガイド26Xに
よつて案内されてＸ方向に動く。Ｙ方向移動の場合は、
Ｙテーブル14だけがクロスローラーガイド26Yによつて
案内されてＹ方向に動く。もちろんXY同時移動もでき
る。
ーブル14が一体となつて、クロスローラーガイド26Xに
よつて案内されてＸ方向に動く。Ｙ方向移動の場合は、
Ｙテーブル14だけがクロスローラーガイド26Yによつて
案内されてＹ方向に動く。もちろんXY同時移動もでき
る。
Ｘ方向の駆動は一端がＸテーブル15に固定された固定
ロツド23Xを、Ｘ駆動機構19によつて直線運動すること
によつて行い、この駆動機構19はベース16に固定されて
いる。ベース16は側壁27に固定されている。
ロツド23Xを、Ｘ駆動機構19によつて直線運動すること
によつて行い、この駆動機構19はベース16に固定されて
いる。ベース16は側壁27に固定されている。
Ｙ方向の駆動はＹテーブル14と連結器22によつて接続
された駆動ロツド23YをＹ駆動機構20で直線運動するこ
とによつて行う。Ｙ駆動機構20は、側壁27に固定されて
いる。真空試料室５の一部は開口され、この開口された
部分に側壁27が耐真空的に着脱自在に取り付けられる。
なお、側壁27は蓋状の支持体を形成する。
された駆動ロツド23YをＹ駆動機構20で直線運動するこ
とによつて行う。Ｙ駆動機構20は、側壁27に固定されて
いる。真空試料室５の一部は開口され、この開口された
部分に側壁27が耐真空的に着脱自在に取り付けられる。
なお、側壁27は蓋状の支持体を形成する。
ここで、Ｘ方向移動時には、Ｙテーブル14がＹ方向に
移動しないで、しかもＸ方向にスムーズに移動しなけれ
ばならない。そこで、第３図に連結器22の詳細図を示
す。Ｙテーブル14には、Ｘ方向の案内、クロスローラー
ガイド26Xに平行なガイド棒24が固定されていて、この
ガイド棒24は、円柱状で片面が平面に加工されている。
ガイド棒24をある一定の予圧をかけたベアリング22bと
Ｖ溝プーリー22aではさみ込んでいる。予圧はコイルス
プリング25で行つている。この構造によつて、Ｘ方向の
移動をスムーズに行うことができる。また、Ｖ溝プーリ
ー22aによつて駆動ロツド23Yの上下変動を押えている。
移動しないで、しかもＸ方向にスムーズに移動しなけれ
ばならない。そこで、第３図に連結器22の詳細図を示
す。Ｙテーブル14には、Ｘ方向の案内、クロスローラー
ガイド26Xに平行なガイド棒24が固定されていて、この
ガイド棒24は、円柱状で片面が平面に加工されている。
ガイド棒24をある一定の予圧をかけたベアリング22bと
Ｖ溝プーリー22aではさみ込んでいる。予圧はコイルス
プリング25で行つている。この構造によつて、Ｘ方向の
移動をスムーズに行うことができる。また、Ｖ溝プーリ
ー22aによつて駆動ロツド23Yの上下変動を押えている。
第４図に駆動機構19の詳細図を示す。Ｖ溝プーリー29
と、モータ21に結合されたＶ溝ローラー30とで一定の荷
重で駆動ロツド23Xをはさみ込んでいる。モータ21は真
空試料室側壁27に固定されており、真空側とはパツキン
28と磁気流体シール31とで分離されている。駆動機構19
はベース16に固定されていて、ベース16は側壁27に固定
されている。
と、モータ21に結合されたＶ溝ローラー30とで一定の荷
重で駆動ロツド23Xをはさみ込んでいる。モータ21は真
空試料室側壁27に固定されており、真空側とはパツキン
28と磁気流体シール31とで分離されている。駆動機構19
はベース16に固定されていて、ベース16は側壁27に固定
されている。
以上のように、ベース16,駆動機構19,20は全て真空試
料室５の一つの側壁27に取り付けられており、ベース16
に付けられたローラー17が真空試料室５の底板に固定さ
れた引き出し用レール18上をころがり、試料ステージ全
体を駆動機構ごとに試料室外へ引き出すことができる。
料室５の一つの側壁27に取り付けられており、ベース16
に付けられたローラー17が真空試料室５の底板に固定さ
れた引き出し用レール18上をころがり、試料ステージ全
体を駆動機構ごとに試料室外へ引き出すことができる。
本実施例の制御方法を第６図に示す。レシーバ35で受
けたレーザ信号を計測回路36で演算する。その信号の一
つは位置判定回路37とシーケンス回路38を通り、制御信
号作成回路39へ送られ、前の計測回路36からの信号とと
もに制御信号がつくられる。その制御信号はD/Aコンバ
ータによりアナログ信号となり、パワーアンプ42で増幅
されてモータに送られる。一方計測回路36からの信号を
F/Vコンバータ41によりステージの速度に変換して、ス
テージの振動を抑制するため、制御信号に加算し、タコ
ジエネ34により、計測されたモータの回転数は、モータ
の速度を安定に保つために、制御信号にフイードバツク
される。この制御回路により、安定したステージの制御
が行なえる。
けたレーザ信号を計測回路36で演算する。その信号の一
つは位置判定回路37とシーケンス回路38を通り、制御信
号作成回路39へ送られ、前の計測回路36からの信号とと
もに制御信号がつくられる。その制御信号はD/Aコンバ
ータによりアナログ信号となり、パワーアンプ42で増幅
されてモータに送られる。一方計測回路36からの信号を
F/Vコンバータ41によりステージの速度に変換して、ス
テージの振動を抑制するため、制御信号に加算し、タコ
ジエネ34により、計測されたモータの回転数は、モータ
の速度を安定に保つために、制御信号にフイードバツク
される。この制御回路により、安定したステージの制御
が行なえる。
また、第５図に示すように、Ｙテーブル14にガイドレ
ール33を取付け、Ｘテーブル15には、非磁性材料で構成
された、超音波モータ32を取付ける。同様にＸテーブル
15にガイドレール33を取付け、ベース16には超音波モー
タ32を取付ける。Ｘテーブル15上に取付けられた超音波
モータは、Ｘテーブル15の移動に伴い、移動するが、磁
場の乱れを生じさせないため、電子ビームに悪影響を与
えない。以上の構成において、ベース16を側面27に取付
ければ、前記実施例と同様の効果が得られる。なお、逆
に、超音波モータはガイドレールが取り付けられる部材
に、ガイドレールは超音波モータが取り付けられる部材
にそれぞれ取り付けてもよい。
ール33を取付け、Ｘテーブル15には、非磁性材料で構成
された、超音波モータ32を取付ける。同様にＸテーブル
15にガイドレール33を取付け、ベース16には超音波モー
タ32を取付ける。Ｘテーブル15上に取付けられた超音波
モータは、Ｘテーブル15の移動に伴い、移動するが、磁
場の乱れを生じさせないため、電子ビームに悪影響を与
えない。以上の構成において、ベース16を側面27に取付
ければ、前記実施例と同様の効果が得られる。なお、逆
に、超音波モータはガイドレールが取り付けられる部材
に、ガイドレールは超音波モータが取り付けられる部材
にそれぞれ取り付けてもよい。
以上の実施例のすべて摩擦駆動される駆動機構を有す
るステージとステージの位置のフイードバツク制御を行
う装置により64Mビツト用ウエハの直描接描画およびマ
スク・レチクルの製作が可能となる。
るステージとステージの位置のフイードバツク制御を行
う装置により64Mビツト用ウエハの直描接描画およびマ
スク・レチクルの製作が可能となる。
本発明によれば、真空鏡筒を解体することなく試料ス
テージをその移動手段とともに真空試料室へ引き出すこ
とができるので、試料ステージのメンテナンスが、容易
になる。
テージをその移動手段とともに真空試料室へ引き出すこ
とができるので、試料ステージのメンテナンスが、容易
になる。
また、試料ステージとその移動手段を分離することな
く、試料ステージを引き出すことができることから、再
組立て時の調整が必要なく、引き出す前の精度をそのま
ま維持できるので、メンテナンス時間の大幅な短縮が可
能である。
く、試料ステージを引き出すことができることから、再
組立て時の調整が必要なく、引き出す前の精度をそのま
ま維持できるので、メンテナンス時間の大幅な短縮が可
能である。
第１図は本発明にもとづく一実施例を示す電子ビーム描
画装置の試料ステージの斜視図、第２図は本発明の一実
施例を示す電子ビーム描画装置の概念図、第３図は第１
図の連結部の拡大斜視図、第４図は駆動機構の拡大斜視
図、第５図は第１図に対応するもう一つの実施例の斜視
図、第６図は第１図において用いられる制御ブロツク図
である。 １……真空鏡筒、1a……電子銃、1b……縮小レンズ、1c
……対物レンズ、1d……偏向器、1e……絞り、1f……絞
り、２……XYステージ、３……試料交換装置、４……真
空排気装置、５……真空試料室、６……レーザ干渉シス
テム、７……高圧電源、８……レンズ電源、９……偏向
制御系、10……ステージ，ローダ制御系、11……排気制
御系、12……CPU、13……試料、14……Ｙテーブル、15
……Ｘテーブル、16……ベース、17……ローラー、18…
…レール、19……Ｘ駆動機構、20……Ｙ駆動機構、21…
…モータ、22……連結器、22a……Ｖ溝プーリー、22b…
…ベアリング、23X……駆動ロツド、23Y……駆動ロツ
ド、24……ガイド棒、25……コイルスプリング、26……
クロスローラーガイド、27……側壁、28……パツキン、
29……Ｖ溝プーリー、30……Ｖ溝ローラー、31……磁気
流体シール、32……超音波モータ、33……駆動レール、
34……タコジエネ、35……レシーバ、36……計測回路、
37……位置判定回路、38……シーケンス回路、39……制
御信号作製回路、40……D/Aコンバータ、41……F/Vコン
バータ、42……パワーアンプ。
画装置の試料ステージの斜視図、第２図は本発明の一実
施例を示す電子ビーム描画装置の概念図、第３図は第１
図の連結部の拡大斜視図、第４図は駆動機構の拡大斜視
図、第５図は第１図に対応するもう一つの実施例の斜視
図、第６図は第１図において用いられる制御ブロツク図
である。 １……真空鏡筒、1a……電子銃、1b……縮小レンズ、1c
……対物レンズ、1d……偏向器、1e……絞り、1f……絞
り、２……XYステージ、３……試料交換装置、４……真
空排気装置、５……真空試料室、６……レーザ干渉シス
テム、７……高圧電源、８……レンズ電源、９……偏向
制御系、10……ステージ，ローダ制御系、11……排気制
御系、12……CPU、13……試料、14……Ｙテーブル、15
……Ｘテーブル、16……ベース、17……ローラー、18…
…レール、19……Ｘ駆動機構、20……Ｙ駆動機構、21…
…モータ、22……連結器、22a……Ｖ溝プーリー、22b…
…ベアリング、23X……駆動ロツド、23Y……駆動ロツ
ド、24……ガイド棒、25……コイルスプリング、26……
クロスローラーガイド、27……側壁、28……パツキン、
29……Ｖ溝プーリー、30……Ｖ溝ローラー、31……磁気
流体シール、32……超音波モータ、33……駆動レール、
34……タコジエネ、35……レシーバ、36……計測回路、
37……位置判定回路、38……シーケンス回路、39……制
御信号作製回路、40……D/Aコンバータ、41……F/Vコン
バータ、42……パワーアンプ。
Claims (12)
- 【請求項１】電子ビームを発生し、試料に向ける手段
と、その試料に所定のパターンを形成するように前記電
子ビームの偏向とオン−オフを行う手段と、前記電子ビ
ームを真空にさらすように配置された真空鏡筒と、前記
試料を支持する第１のテーブルおよびこの第１のテーブ
ルを支持する第２のテーブルを含む試料ステージと、前
記第１のテーブルをＸおよびＹ方向のうちの一方に、前
記第２のテーブルを他方に移動する手段と、前記真空鏡
筒と真空的に連通し、かつ前記試料および試料ステージ
を収容するように配置された真空試料室と、前記試料ス
テージおよび移動手段を支持する手段とを備え、前記真
空試料室の一部は開口され、前記支持手段は前記真空試
料室の開口された部分に着脱自在に取り付けられている
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 【請求項２】前記支持手段は前記第２のテーブルを前記
ＸおよびＹ方向のうちの他方に移動するように支持する
支持体を含んでいる請求項１に記載された電子ビーム描
画装置。 - 【請求項３】前記支持体の移動用案内レールを備え、前
記支持体は前記案内レール上をころがり接触移動するよ
うに構成されている請求項２に記載された電子ビーム描
画装置。 - 【請求項４】前記移動手段は前記第１のテーブルの移動
方向には移動するがその直角方向における移動は阻止さ
れるように前記第１のテーブルに結合された第１の移動
軸と、第１のモータと、この第１のモータの回転を前記
第１の移動軸の軸方向移動に変換する手段とを備え、更
に前記第１の移動軸と直交するように前記第２のテーブ
ルに連結された第２の移動軸と、第２のモータと、この
第２のモータの回転を前記第２の移動軸の軸方向移動に
変換する手段とを備えている請求項３に記載された電子
ビーム描画装置。 - 【請求項５】前記支持手段は前記開口を開閉する蓋状支
持体を含み、前記第１の移動軸および第２のモータの軸
は前記蓋状支持体を貫通していることを特徴とする請求
項４に記載された電子ビーム描画装置。 - 【請求項６】前記移動手段は前記第１のテーブルの移動
手段と前記第２のテーブルの移動手段とを備え、前記第
１のテーブルの移動手段は前記第１のテーブルおよび第
２のテーブルの一方に設けられた非磁性体製の超音波モ
ータと、他方にその超音波モータを案内するように設け
られた案内レールとを備え、前記第２のテーブルの移動
手段は前記第２のテーブルおよび支持体の一方に設けら
れた非磁性超音モータと、他方にその超音波モータを案
内するように設けられた案内レールとを備えていること
を特徴とする請求項２に記載された電子ビーム描画装
置。 - 【請求項７】試料を支持する第１のテーブルおよび該第
１のテーブルを支持する第２のテーブルを含む、真空試
料案内に配置された試料ステージと、前記第１のテーブ
ルをＸおよびＹ方向のうちの一方に、前記第２のテーブ
ルを他方に移動する手段と、前記試料ステージおよび移
動手段を支持する手段とを備え、前記真空試料室の一部
は開口され、前記支持手段は前記真空試料室の開口され
た部分に着脱可能に取り付けられていることを特徴とす
る試料支持装置。 - 【請求項８】前記支持手段は前記第２のテーブルを前記
ＸおよびＹ方向のうちの他方に移動するように支持する
支持体を含んでいる請求項７に記載された試料支持装
置。 - 【請求項９】前記支持体の移動用案内レールを備え、前
記支持体は前記案内レール上をころがり接触移動するよ
うに構成されている請求項８に記載された試料支持装
置。 - 【請求項１０】前記移動手段は前記第１のテーブルの移
動方向には移動するがその直角方向における移動は阻止
されるように前記第１のテーブルに結合された第１の移
動軸と、第１のモータと、この第１のモータの回転を前
記第１の移動軸の軸方向移動に変換する手段とを備え、
更に前記第１の移動軸と直交するように前記第２のテー
ブルに連結された第２の移動軸と、第２のモータと、こ
の第２のモータの回転を前記第２の移動軸の軸方向移動
に変換する手段とを備えている請求項９に記載された試
料支持装置。 - 【請求項１１】前記支持手段は前記開口を開閉する蓋状
支持体を含み、前記第１の移動軸および第２のモータの
軸は前記蓋状支持体を貫通していることを特徴とする請
求項10に記載された試料支持装置。 - 【請求項１２】前記移動手段は前記第１のテーブルの移
動手段と前記第２のテーブルの移動手段とを備え、前記
第１のテーブルの移動手段は前記第１のテーブルおよび
第２のテーブルの一方に設けられた非磁性体製の超音波
モータと、他方にその超音波モータを案内するように設
けられた案内レールとを備え、前記第２のテーブルの移
動手段は前記第２のテーブルおよび支持体の一方に設け
られた非磁性体製の超音波モータと、他方にその超音波
モータを案内するように設けられた案内レールとを備え
ていることを特徴とする請求項８に記載された試料支持
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29731390A JP2619565B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 電子ビーム描画装置 |
| US07/788,318 US5214290A (en) | 1990-11-05 | 1992-11-05 | Electron beam lithography and workpiece supporting apparatus having supporting means for workpiece stage and moving means detachably mounted to cover opening in vacuum chamber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29731390A JP2619565B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04171715A JPH04171715A (ja) | 1992-06-18 |
| JP2619565B2 true JP2619565B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=17844897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29731390A Expired - Fee Related JP2619565B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5214290A (ja) |
| JP (1) | JP2619565B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07115056A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Canon Inc | 縦型基板ステージ装置 |
| US5557109A (en) * | 1993-11-01 | 1996-09-17 | International Research And Development | Radiation sterilization unit |
| JP3342584B2 (ja) * | 1994-08-18 | 2002-11-11 | 富士通株式会社 | Ｘ−ｙステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置 |
| US5820723A (en) * | 1996-06-05 | 1998-10-13 | Lam Research Corporation | Universal vacuum chamber including equipment modules such as a plasma generating source, vacuum pumping arrangement and/or cantilevered substrate support |
| US5948704A (en) * | 1996-06-05 | 1999-09-07 | Lam Research Corporation | High flow vacuum chamber including equipment modules such as a plasma generating source, vacuum pumping arrangement and/or cantilevered substrate support |
| US6133577A (en) * | 1997-02-04 | 2000-10-17 | Advanced Energy Systems, Inc. | Method and apparatus for producing extreme ultra-violet light for use in photolithography |
| US6509953B1 (en) * | 1998-02-09 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Apparatus for exposing a pattern onto an object with controlled scanning |
| US6065203A (en) * | 1998-04-03 | 2000-05-23 | Advanced Energy Systems, Inc. | Method of manufacturing very small diameter deep passages |
| US6180952B1 (en) | 1998-04-03 | 2001-01-30 | Advanced Energy Systems, Inc. | Holder assembly system and method in an emitted energy system for photolithography |
| US6105885A (en) * | 1998-04-03 | 2000-08-22 | Advanced Energy Systems, Inc. | Fluid nozzle system and method in an emitted energy system for photolithography |
| US6194733B1 (en) | 1998-04-03 | 2001-02-27 | Advanced Energy Systems, Inc. | Method and apparatus for adjustably supporting a light source for use in photolithography |
| US6252705B1 (en) * | 1999-05-25 | 2001-06-26 | Schlumberger Technologies, Inc. | Stage for charged particle microscopy system |
| JP4632569B2 (ja) * | 2001-04-26 | 2011-02-16 | 京セラ株式会社 | ステージ装置 |
| US6529260B2 (en) | 2001-05-03 | 2003-03-04 | Nikon Corporation | Lifting support assembly for an exposure apparatus |
| US6903346B2 (en) * | 2001-07-11 | 2005-06-07 | Nikon Corporation | Stage assembly having a follower assembly |
| JP4061044B2 (ja) | 2001-10-05 | 2008-03-12 | 住友重機械工業株式会社 | 基板移動装置 |
| US6860417B1 (en) * | 2002-02-19 | 2005-03-01 | Sierratherm Production Furnaces, Inc. | Low shock work transport system for pressure vessels |
| US7060990B2 (en) | 2003-06-16 | 2006-06-13 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Stage base, substrate processing apparatus, and maintenance method for stage |
| US7869000B2 (en) * | 2004-11-02 | 2011-01-11 | Nikon Corporation | Stage assembly with lightweight fine stage and low transmissibility |
| US7417714B2 (en) * | 2004-11-02 | 2008-08-26 | Nikon Corporation | Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage |
| JP4621097B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2011-01-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置およびその制御方法 |
| JP6108674B2 (ja) * | 2012-03-16 | 2017-04-05 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置及び試料搬送装置 |
| CN109681738A (zh) * | 2017-10-19 | 2019-04-26 | 北京君和信达科技有限公司 | 调节滑台及探测器臂架 |
| DE102018212511B4 (de) * | 2018-07-26 | 2020-02-06 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Aufnahmevorrichtung, Probenhalter-System und Verfahren zur Präparation mikroskopischer Proben |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2860251A (en) * | 1953-10-15 | 1958-11-11 | Rauland Corp | Apparatus for manufacturing semi-conductor devices |
| GB1237019A (en) * | 1969-04-02 | 1971-06-30 | Ass Elect Ind | Improvements in or relating to charged particle beam apparatus |
| JPS52151568A (en) * | 1976-06-11 | 1977-12-16 | Jeol Ltd | Electron beam exposure apparatus |
| US4718019A (en) * | 1985-06-28 | 1988-01-05 | Control Data Corporation | Election beam exposure system and an apparatus for carrying out a pattern unwinder |
| JPH01125932A (ja) * | 1987-11-11 | 1989-05-18 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
-
1990
- 1990-11-05 JP JP29731390A patent/JP2619565B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-11-05 US US07/788,318 patent/US5214290A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04171715A (ja) | 1992-06-18 |
| US5214290A (en) | 1993-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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