JP4778504B2 - シリコンの製造方法 - Google Patents
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Description
MS: SiH4 -> Si+2H2 (1)
DCS:SiH2Cl2 -> Si+2HCl (2)
TCS:SiHCl3+H2 -> Si+3HCl (3)
さらに、CVDにおいてシラン含有の混合物を使用することが、未公開のドイツ連邦共和国特許出願10243022.5に開示されている。
本発明では、熱分解を行う際に上記の気体混合物に、それ自体に公知の析出プロセスを施すことができる。たとえば、分解または析出を流動床、管またはロッドで行うことができる。これらに限定されることはない。
第1の利点は、塩化水素と不純物との有利な反応により、上記の精製効果が得られること。
第2の利点は、非常に小さい粉末粒子がさらに増加する前に、この微細な粉末粒子の表面積が大きいために、塩化水素によって有利に攻撃および溶解されること。このことにより、微細な粉末の形成が格段に低減され、ひいては、使用可能であるコンパクトなシリコンの収率が上昇する。
加熱された管形反応器で、58%のSiH4と40%のMCSと2%のより高級のクロロシランとの混合物を、1.2バールの圧力かつ900℃の温度で分解し、シリコンを析出する。この実験を5時間続行する間に、2.8mmの厚さの層が得られる。このことから、析出速度は約10μm/秒であると計算される。
Claims (15)
- モノシランおよびモノクロロシランを含む気相混合物を熱分解し、シリコンを析出することによる、高純度のシリコンの製造方法において、
熱分解および析出を、600〜1250℃の範囲内にある温度で、および1.2バール(絶対圧)〜5バール(絶対圧)の圧力で行い、
気相混合物は、10〜60質量%のモノシランと、10〜60質量%のモノクロロシランと、0〜15質量%の別のシランとを含み、該混合物中に存在するシランの合計は、100質量%であることを特徴とする製造方法。 - 気相混合物はさらに、1つまたはそれ以上の付加的なシランを含む、請求項1記載の方法。
- 気相混合物はモノシランおよびモノクロロシランを含み、さらに、ジクロロシランおよびトリクロロシランから成る群のうち少なくとも1つのシランも含む、請求項1記載の方法。
- 気相混合物が、トリクロロシランの不均化後に部分的な凝縮で得られる、請求項1記載の方法。
- 該方法を連続的に行う、請求項1記載の方法。
- 該方法を分解/析出装置中で行う、請求項1記載の方法。
- シラン含有供給混合物を液体または気体として、一時的な貯蔵部に貯蔵し、該貯蔵部から分解/析出装置へ供給する、請求項6記載の方法。
- 気体混合物を分解/析出装置へ供給する前に、水素と窒素と希ガスとから成る群から選択される少なくとも1つの付加的なガスを、シラン含有供給混合物に添加する、請求項7記載の方法。
- 分解/析出装置からの廃ガスの少なくとも一部を、シラン含有供給混合物に添加する、請求項7記載の方法。
- 管形反応器または流動床反応器を分解/析出装置として使用し、
熱分解および析出を固体のシリコン上で行う、請求項6記載の方法。 - トリクロロシランの不均化から気相混合物を生成し、ついで気相混合物を熱分解し、シリコンを析出させる、請求項1記載の方法。
- 気相混合物が反応性の精留カラムの頂部に生じる、請求項11記載の方法。
- 気相混合物は、10〜50質量%のモノシランと、10〜50質量%のモノクロロシランと、0〜15質量%の別のシランとを含み、該混合物中に存在するシランの合計は、100質量%である、請求項1記載の方法。
- 熱分解および析出を、シリコンのワイヤ、ロッド、管またはカップ上で行う、請求項1記載の方法。
- 少ない量の塩化水素を生成し、ならびに非常に小さい粉末粒子を生成し、微細な粉末が塩化水素によって溶解する、請求項1記載の方法。
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