JP4776291B2 - 液晶パネル及びそのリペア方法 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶パネル及びそのリペア方法に関し、より詳細には、赤(R)、緑(G)、青(B)などのような色画素を有する液晶パネル及びそのリペア方法に関する。
テレビ、パソコン、携帯電話をはじめとする各種の家電機器や情報端末機器の画面デバイスとして液晶パネルが普及しつつある。拡大しているユーザのニーズに応えるためには、大画面化や高精細化を進めるとともに、製造コストを下げることが重要である。
アクティブマトリックス型の液晶パネルのコストを下げるために、レーザ光を照射して欠陥画素を修復するリペア方法がある。例えば、TFT(Thin Film Transistor)の動作不良や、画素電極あるいは配向膜の不良などにより透過光を遮断できないと、「輝点欠陥」が生ずる。輝点欠陥が生じた画素の配向膜にレーザ光を照射し、配向を乱すことで透過率を低下させ、輝点欠陥コントラストを低下させて製品として用いることが可能である(例えば、特許文献1および2)。
特開平5−313167号公報 特開平8−15660号公報
本発明は、レーザ光を照射して欠陥画素を効果的かつ安定的に修復できる構造を有する液晶パネル及びそのリペア方法を提供するものである。
本発明の一態様によれば、
複数の色の画素を並置した第1の基板と、
第2の基板と、
前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、
を備え、
前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面において、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみ、その画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる凹部が形成されてなることを特徴とする液晶パネルが提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、
複数の色の画素を並置した第1の基板と、
第2の基板と、
前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、
を備え、
前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面に、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみの輪郭に対応しその画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる突部が形成されてなることを特徴とする液晶パネルが提供される。
また、本発明のさらに他の一態様によれば、複数の色の画素を並置した第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、を有し、前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面において、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみ、その画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる凹部が形成されてなる液晶パネルの前記比視感度が最も高い色の画素にレーザ光を照射することにより液晶の配向を乱すことを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。
また、本発明のさらに他の一態様によれば、複数の色の画素を並置した第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、を有し、前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面に、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみの輪郭に対応しその画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる突部が形成されてなる液晶パネルの前記比視感度が最も高い色の画素にレーザ光を照射することにより液晶の配向を乱すことを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。

本発明によれば、レーザ光を照射して欠陥画素を効果的かつ安定的に修復できる構造を有する液晶パネル及びそのリペア方法を提供することができ、産業上のメリットは多大である。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本実施形態にかかる液晶パネルの断面図を例示する模式図である。
また、図2及び図3は、その画素の配列を説明するための概念図である。
すなわち、本具体例の液晶パネルの場合、背後からバックライトを当て、その透過光を制御して所定の画像を表示する。ただし、本発明はこれには限定されず、例えば、表面側から入射した光を反射させて画像を表示する形式のものでもよい。
この液晶パネルは、一対のガラス基板35、70を有する。これらガラス基板35、70の外側の主面上には、偏光板(図示せず)がそれぞれ貼り付けられている。また、ガラス基板35の内側の主面上には、アレイ領域40が形成され、その上に配向膜45が形成されている。アレイ領域40は液晶に対して画素毎に電圧を印加するために設けられ、例えば、図示しない配線層、TFTなどのスイッチング素子、層間絶縁膜、樹脂などからなる平坦化領域、画素電極などを含む。
一方、これに対向するガラス基板70の内側の主面上には、カラーフィルタ65、対向電極60、配向膜55などがこの順に積層されている。カラーフィルタ65は、典型的には、光の3原色に対応させて65R(赤)、65G(緑)、65B(青)の3色からなる。ただし、本発明はこの組合せには限定されず、他のいかなる色の組合せであってもよい。なお、カラーフィルタ65は、アレイ領域40の上に設けもよい。これらカラーフィルタを有する画素の配置としては、図2に例示した如く、いわゆる「ストライブ状」や、図3に例示した如く、いわゆる「千鳥格子状」などの各種の配置を採ることができる。
これら配向膜45、55の間に、液晶50が充填されている。
そして、本具体例においては、R、G、Bの3種類の画素のうちで、G(緑)の画素に凹部Cが設けられている。すなわち、カラーフィルタ65Gの膜厚みを他色65R、65Bよりも薄くし、このカラーフィルタ65Gの上に対向電極60と配向膜55が形成されている。なお、図2及び図3においては、各画素の領域を破線で表し、凹部Cを実線により表した。このような凹部Cを設けることにより、レーザによるリペアを実施した時に、「輝点欠陥」などの欠陥を確実に補修することが可能となる。
すなわち、このような液晶パネルは、その製造工程において不良が発生することがある。例えば、アレイ領域40に設けているTFTなどのスイッチング素子が動作不良を起こしたり、画素電極あるいは配向膜などが正常に形成されていないと、画素において透過光を遮断することができなくなり、その部分が常に明るい「輝点欠陥」となることがある。
このような輝点欠陥は、液晶パネルの画質を低下させるため、液晶パネルの製造工程においては不良を発生させないように注意を要する。しかし、輝点欠陥などの不良が全くない液晶パネルを100パーセントの歩留まりで製造することは容易でない。一方、わずかひとつでも輝点欠陥などの不良がある液晶パネルを不良品として廃棄することは、製造コストを引き上げ、資源やエネルギーの有効活用の点からも改良すべきである。
これに対して、本実施形態の液晶パネルは、いずれかの色に対応した画素に、凹部Cが設けられた構造を有する。特に、カラーフィルタ65のうちで、比視感度の高い色に対応した画素に凹部Cを形成することが望ましい。例えば、カラーフィルタがR(赤)、G(緑)、B(青)の3色からなる時には、比視感度が最も高いG(緑)の画素について凹部Cを設ける。このようにすると、肉眼で最も目立ちやすい画素について、「輝点欠陥」などをレーザでリペアした時に、気泡をその画素に滞留させて確実に暗化させ修復することができる。
図4は、本実施形態の液晶パネルのリペア方法の手順を例示するフローチャートである。
また、図5及び図6は、本実施形態の液晶パネルがリペアされる様子を説明するための模式断面図である。
また、図7及び図8は、比較例の液晶パネルに対して同様のリペア方法を実行した様子を説明するための模式断面図である。
すなわち、レーザによるリペアを実施する時には、液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する(ステップS100)。ここでは、緑色の画素Pnに輝点欠陥があるものとする。
画素Pnは、例えば、一辺が数10〜数100マイクロメータ程度の矩形状である。そして、レーザ光100のスポット径は、例えば1〜10マイクロメータ程度とし、そのエネルギーは0.1〜10マイクロジュール程度とすることができる。その波形は、パルス状あるいは連続状のいずれでもよい。また、その繰り返し周波数は100〜50000ヘルツ程度で、走査速度は0.1mm/秒から10mm/分程度とすることができる。レーザ光100の光源としては、例えば、波長1064ナノメータのYAGレーザを用い、その出力は、例えば1マイクロジュール程度とすることができる。
このようなレーザ光100を照射すると、そのエネルギーにより照射部分の液晶50の温度が局所的に増加し、気化することによって、図5及び図7(b)に表したように、欠陥画素Pnの液晶に気泡120が形成される(ステップS110)。さらに、その気泡120の周辺には、液晶50の温度が上昇し、粘度が低下した低粘度化領域110が形成される。
ここで、液晶50の粘度の温度依存性について説明する。
図9は、液晶の粘度の温度依存性を例示するグラフ図である。
液晶の粘度は、図9に例示したように、温度の上昇に伴って漸近的にゼロへ向けて低下する性質を有することから、レーザ光100の照射エネルギーにより低粘度化領域110が形成されることが理解できる。
このようにして低粘度化領域110が形成されると、気泡120は、その周辺の低粘度化領域110へと移動し易くなる。特に、図8に表した比較例の場合、液晶50を挟持する両側の配向膜45、55の表面は平坦であるので、気泡120が低粘度化領域110の中を移動しやすくなる。このように、気泡120が移動してしまうと、レーザ光100の照射部分155は、再び液体状の液晶により覆われる。
すると、レーザ光100のエネルギーは液晶50に吸収されやすくなる。また、レーザ光100の照射部分155において配向膜45、55に発生した熱は液晶50に吸収されやすくなり、効率的に加熱されにくくなる。その結果として、配向膜45、55が除去されにくくなる。また、仮に、レーザ光100の照射部分Pにおいて、配向膜45、55や、その下層のアレイ領域40、対向電極60、カラーフィルタ65などが十分に加熱されたとしても、液晶50により覆われているために、周囲に飛散しにくく、欠陥画素Pnの配向膜45、55の上に堆積物を形成することができない。つまり、図8(b)に表したように、欠陥画素Pnの液晶の配向を効率的に乱すことができず、輝点欠陥を修復することが困難となる。
これに対して、本実施形態に従って画素に凹部Cが設けられていると、気泡120の移動が抑制され、その画素に気泡が固定される(ステップS120)。つまり、形成された気泡120は、凹部Cの端部の段差によって移動が抑制されるため、その段差間に留まる。すると、レーザ光100のエネルギーは液晶50には吸収されず、その上下に設けられた配向膜45、55などに効率的に供給される。その結果として、図6(a)に表したように、配向膜45、55が急速に加熱され飛散し、その周囲に堆積する(ステップS130)。また、この時、気泡120により空間が形成されているので、加熱された配向膜45、55を気泡120の空間内に飛散させ、確実に除去することができる。また、同様に、配向膜45、55の下層のアレイ領域40、対向電極60、カラーフィルタ65なども効率的に加熱され、飛散させることができる。この時にも、気泡120により空間が形成されているので、加熱されたこれら各要素を気泡120の空間内に飛散させ、周囲の配向膜45、55の上に確実に堆積させることができる。その結果として、配向膜45、55の配向作用を抑制し、欠陥画素Pnにおいて液晶の配向を乱して、図6(b)に表したように、光透過率を確実に低下させることができる。つまり、輝点欠陥を確実に暗化140させ修復できる。
本発明者の実験の結果、輝点欠陥にレーザ光100を照射してうまく暗化できた画素を詳細に観察すると、0.1マイクロメータ程度あるいはそれ以下のサイズの微細粒子がアレイ基板及び対向基板の表面(液晶50に接触する面)に一様に堆積している場合が多かった。これに対して、図7及び図8に前述した比較例の場合、レーザ光100を照射しても暗化できない画素を観察すると、このような微細粒子の堆積物は確認できなかった。
また、凹部Cの深さについては、0.01マイクロメータ〜1マイクロメータの範囲とすることが望ましい。凹部Cが0.01マイクロメータよりも浅いと気泡120の移動を抑制する効果が十分ではなく、一方、凹部Cが1マイクロメータよりも深いと、セルのギャップ(液晶50の厚み)に与える影響が無視できないからである。
なお、レーザ光100の照射により生じた気泡120は、その後、レーザ光100の照射を停止し液晶の温度が低下すると消失する。
ここで、比視感度の高い画素に凹部Cを設ける理由について説明する。
図10は、光の波長に対する比視感度の関係を例示するグラフ図である。ここで、「比視感度」は、光に対する肉眼の感度をいい、感度が最も高い波長550nmでの感度に対して相対的に表した感度である。
図10に表したように、波長が550nm付近、すなわち、緑色において比視感度が最大となる。ちなみに、波長が700nm付近のときは赤色、440nmのときは青色として視聴覚的に認識される。つまり、輝点欠陥は、緑色の画素において生じた時に、最も目立ちやすくなる。また、緑色が最も認識されやすいため、緑色の画素における輝点欠陥のリペアは、できるだけ完全に実施することが望ましい。
これに対して、本実施形態によれば、比視感度が最も高い緑色の画素に凹部を設けることにより、レーザ光の照射により形成される気泡を固定させ、その上下の配向膜を確実に加熱して飛散・堆積させることができる。その結果として、輝点欠陥を有する液晶パネルを視覚的にもっとも効果的に修復でき、高精細の液晶パネルの製造歩留まりを上げてコストを下げるとともに、不良品としての廃棄を減らすことにより、資源や環境に対する負荷も低減することができる。
なお、図1に例示したような凹部Cを形成する方法としては、例えば、緑色のカラーフィルタ65Gを形成するに際して、他の色のカラーフィルタ65R、65Bよりも厚みを薄く形成する方法を挙げることができる。または、緑色のカラーフィルタ65Gのみを選択的にエッチングしたり、カラーフィルタ65R、65G、65Bの形成後に、突部を有するスタンパを圧着させることにより、緑色のカラーフィルタ65Gのみを凹ませる方法を用いてもよい。
ところで、本実施形態によれば、例えば、アレイ領域40などの表面を略平坦化した場合などにも顕著な効果が得られる。すなわち、近年の液晶パネルの高性能化手法のひとつに、平坦化樹脂を用いて画素領域を拡大化する手法がある。これは、配線層やスイッチング素子などの上に平坦化樹脂を塗布することにより、その表面を略平坦化させ、その上に画素電極を大面積に形成することにより、有効開口領域を拡大する方法である。
ところが、この手法により作製した液晶パネルにおいては、アレイ領域40の表面が平坦であるため、レーザ光100の照射により形成される気泡120が移動しやすくなる。つまり、気泡120の移動を妨げる凹部がないために、気泡120が容易に移動してしまう。このため、図7及び図8に関して前述したように、気泡120がレーザ光100の照射部分から逃げてしまい、配向膜やその他の要素をうまく加熱、飛散、堆積できない。その結果として、欠陥画素をうまく修復できないという問題が顕著となる。
これに対して、本実施形態によれば、平坦化樹脂の表面を完全に平坦とはせず、比視感度の高い色の画素に対応させて、図1に例示したような凹部Cを設けることにより、気泡120の移動を抑制できる。その結果として、平坦化処理を施した高精細液晶パネルなどの場合でも、確実に輝点欠陥を補修することが可能となる。
以下、本実施形態の液晶パネルについて、各種の具体例を挙げつつ、さらに詳細に説明する。
図11は、本実施形態の液晶パネルの第2の具体例を表す模式断面図である。図11以降の図面については、既出の図面に関して説明したものと同様の要素には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
本具体例においては、緑色の画素Pnと接する赤色の画素Pn−1と青色の画素Pn+1との各接触部において、画素65の厚みを増し、緑色の画素Pnの両端に対となる突部Tが形成されている。その平面的な構成については、図2及び図3に関して前述したものと同様とすることができる。このように画素Pnの輪郭に対応して突部Tを形成した構造においても、画素Pnに形成された気泡の移動を停止させることができ、液晶パネルのリペアを確実に行うことが可能である。
また、突部Tの高さについては、第1具体例に関して前述したものと同様に、0.01マイクロメータ〜1マイクロメータの範囲とすることが望ましい。突部Tが0.01マイクロメータよりも低いと気泡120の移動を抑制する効果が十分ではなく、一方、突部Tが1マイクロメータよりも高いと、セルのギャップ(液晶50の厚み)に与える影響が無視できないからである。
図12は、本実施形態の液晶パネルの第3の具体例を表す模式断面図である。
すなわち、本具体例においては、緑色の画素Pnよりも平面寸法が小さい凹部Cが設けられている。このように、画素よりも小さな凹部Cを設けることによっても、レーザ光の照射により形成される気泡の移動を抑制する効果が得られる。その結果として、リペアを確実に実施することが可能となる。また、本具体例の場合、凹部Cを画素Pnよりも小さくすることで、その形成位置のマージンを拡大できる。つまり、凹部Cを形成する際の位置精度が低く、凹部Cの位置が多少ずれた場合でも、目的とする画素Pnの中に収めることが可能となり、製造が容易となる。
図13は、本実施形態の液晶パネルの第4の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、ガラス基板70を局所的に薄くすることにより、緑色の画素Pnに凹部Cが設けられている。このように、ガラス基板70の厚みを制御することによっても、凹部Cを形成し、レーザ光によるリペアを確実に実施することが可能となる。本具体例の場合、カラーフィルタ65などの厚みについては、画素間で同一とすることができるので、設計や製造が容易となる場合がある。
図14は、本実施形態の液晶パネルの第5の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、ガラス基板70を局所的に薄くすることにより、緑色の画素Pnの平面寸法よりも小さな凹部Cが設けられている。このように、ガラス基板70の厚みを制御することによっても、凹部Cを形成し、レーザ光によるリペアを確実に実施することが可能となる。本具体例の場合も、凹部Cを画素Pnよりも小さくすることで、その形成位置のマージンを拡大できる。つまり、凹部Cを形成する際の位置精度が低く、凹部Cの位置が多少ずれた場合でも、目的とする画素Pnの中に収めることが可能となり、製造が容易となる。また、カラーフィルタ65などの厚みについては、画素間で同一とすることができるので、設計や製造が容易となる場合がある。
図15は、本実施形態の液晶パネルの第6の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、ガラス基板70を局所的に厚くすることにより、緑色の画素Pnの周囲に突部Tが形成されている。このように、ガラス基板70の厚みを制御することによっても、突部Tを形成し、レーザ光によるリペアを確実に実施することが可能となる。本具体例の場合、カラーフィルタ65などの厚みについては、画素間で同一とすることができるので、設計や製造が容易となる場合がある。
図16は、本実施形態の液晶パネルの第7の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、アレイ基板側に凹部Cが形成されている。すなわち、アレイ領域40の一部を薄く形成することにより、画素Pnに凹部Cを形成することができる。アレイ領域40には、図示しない配線、TFTなどのスイッチング素子、キャパシタ、絶縁層、平坦化層などが含まれる。これら要素のうちで、例えば、絶縁層や平坦化層の厚みを制御することにより、画素Pnに対応させて凹部Cを形成することが可能である。
このように、アレイ基板側に凹部Cを形成することによっても、気泡の移動を抑制し、レーザ光によるリペアを確実に実施することが可能となる。また、本具体例の場合、対向基板側については、従来と同様の構造でよいので、設計や製造が容易となる場合がある。
図17は、本実施形態の液晶パネルの第8の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、アレイ基板側のガラス基板35を局所的に薄くすることにより、緑色の画素Pnに対応させて凹部Cが形成されている。このように、アレイ基板側のガラス基板35の厚みを制御することによっても、凹部Cを形成し、レーザ光によるリペアを確実に実施することが可能となる。本具体例の場合、アレイ基板側においてアレイ領域40や配向膜45などの厚みについては、画素間で同一とすることができるので、設計や製造が容易となる場合がある。
図18は、本実施形態の液晶パネルの第9の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、対向基板側とアレイ基板側のそれぞれに凹部が形成されている。すなわち、ガラス基板70を局所的に薄くすることにより、緑色の画素Pnに凹部C1が形成されている。また、アレイ基板側のガラス基板35を局所的に薄くすることにより、緑色の画素Pnに対応させて凹部C2が形成されている。このように、液晶50を挟む両側の基板に凹部C1、C2を設けることにより、気泡の移動をさらに確実に抑制することができる。その結果として、比視感度の高い画素をさらに確実にレーザ光によりリペアすることができる。
図19は、本実施形態の液晶パネルの第10の具体例を表す模式断面図である。
本具体例においては、対向基板側とアレイ基板側のそれぞれに突部が形成されている。すなわち、カラーフィルタ65を局所的に厚くすることにより、緑色の画素Pnの周囲に突部T1が形成されている。また、アレイ基板側のアレイ領域40を局所的に厚くすることにより、緑色の画素Pnの周囲に突部T2が形成されている。このように、液晶50を挟む両側の基板に突部T1、T2を設けることによっても、気泡の移動をさらに確実に抑制することができる。その結果として、比視感度の高い画素をさらに確実にレーザ光によりリペアすることができる。なお、このような突部T1、T2は、図15に関して前述したように、ガラス基板35、70を局所的に厚くすることよって形成してもよい。
次に、本実施形態の液晶パネルのリペアに用いることができるリペア装置の基本構成について具体例を挙げつつ説明する。
図20は、本実施形態の液晶パネルのリペアに用いることができるリペア装置の基本構成を例示する概念図である。
本具体例のリペア装置は、レーザ発振器200と、XYステージ250と、コントローラ260と、CCDカメラ280と、透過照明290と、を有する。レーザ発振器200から出力されたレーザ光100は、アッテネータ210により調整され、パワーモニタ220でモニタされ、ハーフミラー230で光路が変更され、集光レンズ240により収束されて、XYステージ250の上に載置された液晶パネルWに照射される。この時、XYステージ250を動作させることにより、レーザ光100を液晶パネルWの上で走査させることができる。なお、XYステージ250を移動させる代わりに可動ミラーや可動レンズなどによりレーザ光を走査させてもよい。また、レーザ光100を連続的に照射させず、間欠的に照射しながら照射スポットを順次ずらしていく方法でレーザ光100を照射してもよい。
一方、XYステージ250の下には、透過照明290が設けられ、液晶パネルの透過光学像は、集光レンズ240、ハーフミラー230、リレーレンズ270を伝達し、画像信号103を媒体としてCCD(Charge Coupled Device)カメラ280により観察可能である。これら各要素の動作は、コントローラ260により制御信号105を介して制御される。
本実施形態によれば、このようなリペア装置を用いて輝点欠陥などをリペアした時に、比視感度の高い画素について確実に暗化させることができる。その結果として、高精細液晶パネルの製造歩留まりを向上させ、コストを下げて、環境に与える負荷も減らすことができる。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明はこれらの具体例には限定されない。例えば、凹部や突部を設ける画素は、緑色の画素には限定されず、RGBの3色以外の組合せのカラーフィルタが用いられている場合には、そのカラーフィルタのうちで比視感度が最も高い画素に対応させて凹部や突部を形成すればよい。
また、液晶パネルを構成する各要素について当業者が各種の変更や追加を加えたものであっても、本発明の要旨を含む限りにおいて本発明の範囲に包含される。
本発明の実施の形態にかかる液晶パネルの断面図を例示する模式図である。 本発明の実施の形態にかかる液晶パネルの画素の配列を説明するための概念図である。 本発明の実施の形態にかかる液晶パネルの画素の配列を説明するための概念図である。 本発明の実施形態の液晶パネルのリペア方法の手順を例示するフローチャートである。 本実施形態の液晶パネルがリペアされる様子を説明するための模式断面図である。 本実施形態の液晶パネルがリペアされる様子を説明するための模式断面図である。 比較例の液晶パネルに対して同様のリペア方法を実行した様子を説明するための模式断面図である。 比較例の液晶パネルに対して同様のリペア方法を実行した様子を説明するための模式断面図である。 液晶の粘度の温度依存性を例示するグラフ図である。 光の波長に対する比視感度の関係を例示するグラフ図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第2の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第3の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第4の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第5の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第6の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第7の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第8の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第9の具体例を表す模式断面図である。 本発明の実施形態の液晶パネルの第10の具体例を表す模式断面図である。 本実施形態の液晶パネルのリペアに用いることができるリペア装置の基本構成を例示する概念図である。
符号の説明
10 バックライト
20 透過光
30 偏光板
35 ガラス基板
40 アレイ領域
45 配向膜
50 液晶
55 配向膜
60 対向電極
65 カラーフィルタ
70 ガラス基板
100 レーザ光
103 画像信号
105 制御信号
110 低粘度化領域
120 気泡
140 暗化部分
155 照射部分
200 レーザ発振器
210 アッテネータ
220 パワーモニタ
230 ハーフミラー
232 ガルバノミラー
234 モータ
240 集光レンズ
244 モータ
250 ステージ
250 温度
260 コントローラ
270 リレーレンズ
280 カメラ
290 透過照明

Claims (13)

  1. 複数の色の画素を並置した第1の基板と、
    第2の基板と、
    前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、
    を備え、
    前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面において、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみ、その画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる凹部が形成されてなることを特徴とする液晶パネル。
  2. 前記凹部は、比視感度が最も高い色の画素のカラーフィルタをそれ以外の画素のカラーフィルタよりも薄くすることにより形成されてなることを特徴とする請求項1記載の液晶パネル。
  3. 前記凹部は、比視感度が最も高い色の画素の部分において前記第1及び第2の基板の前記いずれかに含まれるガラス基板の厚みを薄くすることにより形成されてなることを特徴とする請求項1記載の液晶パネル。
  4. 前記第1及び第2の基板の前記いずれかは、前記画素毎に電圧の印加を制御するためのアレイ領域を有し、
    前記凹部は、比視感度が最も高い色の画素の部分において前記アレイ領域の厚みを薄くすることにより形成されてなることを特徴とする請求項1記載の液晶パネル。
  5. 複数の色の画素を並置した第1の基板と、
    第2の基板と、
    前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、
    を備え、
    前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面に、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみの輪郭に対応しその画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる突部が形成されてなることを特徴とする液晶パネル。
  6. 前記突部は、カラーフィルタを局部的に厚く形成することにより形成されてなることを特徴とする請求項5記載の液晶パネル。
  7. 前記突部は、前記第1及び第2の基板の前記いずれかに含まれるガラス基板の厚みを局部的に厚くすることにより形成されてなることを特徴とする請求項5記載の液晶パネル。
  8. 前記第1及び第2の基板の前記いずれかは、前記画素毎に電圧の印加を制御するためのアレイ領域を有し、
    前記突部は、前記アレイ領域の厚みを局部的に厚くすることにより形成されてなることを特徴とする請求項5記載の液晶パネル。
  9. 前記複数の色は、赤と緑と青とを含み、
    前記比視感度が最も高い色は、緑であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の液晶パネル。
  10. 複数の色の画素を並置した第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、を有し、前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面において、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみ、その画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる凹部が形成されてなる液晶パネルの前記比視感度が最も高い色の画素にレーザ光を照射することにより液晶の配向を乱すことを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
  11. 前記レーザ光の照射により前記液晶に生成された気泡を前記凹部に滞留させつつ前記比視感度が最も高い色の画素における液晶の配向を乱すことを特徴とする請求項10記載の液晶パネルのリペア方法。
  12. 複数の色の画素を並置した第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶と、を有し、前記第1及び第2の基板の少なくともいずれかの前記液晶に接する面に、前記複数の色の画素のうちで比視感度が最も高い色の画素のみの輪郭に対応しその画素へのレーザ光の照射により前記液晶に形成される気泡の移動を抑制し留まらせる突部が形成されてなる液晶パネルの前記比視感度が最も高い色の画素にレーザ光を照射することにより液晶の配向を乱すことを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
  13. 前記レーザ光の照射により前記液晶に生成された気泡を前記突部により滞留させつつ前記比視感度が最も高い色の画素における液晶の配向を乱すことを特徴とする請求項12記載の液晶パネルのリペア方法。

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