JP4761782B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
100 液晶表示装置
102 対向基板
11,11a TFT7のチャネル部
12 島状ポリシリコンパターン
14 TFT7の個所のポリシリコン配線
15 ゲート絶縁膜
21 走査線
22 補助容量線
25 層間絶縁膜
26,27,28 ゲート及び層間絶縁膜を貫くコンタクトホール
31 信号線
32 島状金属パターン
5 厚型樹脂膜(第2層間絶縁膜、カラーフィルタ層)
51 厚型樹脂膜を貫く画素電極用コンタクトホール
52 画素電極用コンタクトホールの底面
53 画素電極用コンタクトホールの周壁面
6 画素電極
61 島状金属パターン32上へと延びる画素電極延在部
7 TFT
8 球状スペーサー
9 インクジェット装置のノズルヘッド
91 ノズル孔
Claims (12)
- 複数の走査線と、前記走査線と略直交する複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に形成されたスイッチング素子とを有するアレイ基板である第1の基板と、
第2の基板と、
これら2枚の基板の間に挟持される液晶材料にて構成される液晶層と、
前記第1及び第2の基板間に配置される複数の球状スペーサーと、
前記アレイ基板上にて、前記液晶層側に形成される画素電極と前記スイッチング素子とを導通させるとともに、前記液晶層との接触面でそれぞれ凹部をなす複数のコンタクトホールとを備えた液晶表示装置であって、
前記球状スペーサーは、いずれもが前記複数のコンタクトホール中にそれぞれ配置され、かつ、画素ドット2〜8個につき約1個の割合となるように配置され、また、中心点を含む断面積が前記コンタクトホールの底部の面積よりも小さく、
前記コンタクトホールは、補助容量線と重なる画素電極延在部の面積のうち60〜70%を占めることを特徴とする液晶表示装置。 - 複数の走査線と、前記走査線と略直交する複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に形成されたスイッチング素子とを有するアレイ基板である第1の基板と、
第2の基板と、
これら2枚の基板の間に挟持される液晶材料にて構成される液晶層と、
前記第1及び第2の基板間に配置される複数の球状スペーサーと、
前記アレイ基板上にて、前記液晶層側に形成される画素電極と前記スイッチング素子とを導通させるとともに、前記液晶層との接触面でそれぞれ凹部をなす複数のコンタクトホールとを備えた液晶表示装置であって、
前記球状スペーサーは、インクジェット法により前記コンタクトホール中へと打ち込まれて、いずれもが前記複数のコンタクトホール中にそれぞれ配置され、かつ、画素ドット2〜8個につき約1個の割合となるように配置され、また、中心点を含む断面積が前記コンタクトホールの底部の面積よりも小さく、
前記コンタクトホールは、補助容量線と重なる画素電極延在部の面積のうち60〜70%を占めることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記アレイ基板はさらに、前記スイッチング素子と前記画素電極との間に厚みが1μm以上の樹脂膜層を有することを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示装置。
- 前記樹脂膜層は少なくとも一部にカラーフィルタ層を含むことを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。
- 第1と第2の一対の基板間に、液晶材料からなる液晶層を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板の一主面上に、複数の走査線と、前記走査線と略直交する複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に形成されたスイッチング素子と、前記液晶層側に形成される画素電極と、該画素電極と前記スイッチング素子とを導通させるとともに前記液晶層との接触面でそれぞれ凹部をなす複数のコンタクトホールとを作製する第1の工程と、
複数の球状スペーサーを、いずれもが前記複数のコンタクトホール中にそれぞれ配置され、かつ、画素ドット2〜8個につき約1個の割合となるように、前記第1の基板の一主面上に配置する第2の工程と、
を有し、
前記球状スペーサーは、中心点を含む断面積が前記コンタクトホールの底部の面積よりも小さく、
前記コンタクトホールは、補助容量線と重なる画素電極延在部の面積のうち60〜70%を占めることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 第1と第2の一対の基板間に、液晶材料からなる液晶層を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板の一主面上に、複数の走査線と、前記走査線と略直交する複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に形成されたスイッチング素子と、前記液晶層側に形成される画素電極と、該画素電極と前記スイッチング素子とを導通させるとともに前記液晶層との接触面でそれぞれ凹部をなす複数のコンタクトホールとを作製する第1の工程と、
インクジェット法を用いて、複数の球状スペーサーを前記コンタクトーホール中へと打ち込み、この際、これら球状スペーサーについて、いずれもが前記複数のコンタクトホール中にそれぞれ配置され、かつ、画素ドット2〜8個につき約1個の割合となるように、前記第1の基板の一主面上に配置する第2の工程と、
を有し、
前記球状スペーサーは、中心点を含む断面積が前記コンタクトホールの底部の面積よりも小さく、
前記コンタクトホールは、補助容量線と重なる画素電極延在部の面積のうち60〜70%を占めることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記インクジェット法に用いるインクジェット装置は、前記球状スペーサーを吐出する吐出孔を複数備えるノズルヘッドを有し、
前記吐出孔は各々、作動・非作動及び前記球状スペーサーの吐出タイミングとを個別に制御されて前記球状スペ−サーを吐出することを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記ノズルヘッドは前記基板面に関して水平方向に可動であることを特徴とする請求項7記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記インクジェット法を用いる際、前記球状スペーサーは各々を分散させる分散媒液中にあり、前記球状スペーサーの表面に、予め接着剤がコーティングされており、分散媒液の蒸発とともに接着剤層により前記球状スペーサーがコンタクトホールの底面に接着することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記球状スペーサーは、その表面に接着手段を有することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記スイッチング素子と前記画素電極との間に樹脂膜層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項6乃至10のいずれか1項記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記樹脂膜層を形成する工程は、少なくとも一部がカラーフィルタを形成する工程であることを特徴とする請求項11記載の液晶表示装置の製造方法。
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