JP4756339B2 - 微細構造転写方法、微細構造転写装置及び光学素子製造方法 - Google Patents
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Description
2004年 秋季 第65回 応用物理学会学術講演会(2004年9月1〜4日) 講演予稿集 612頁
11a モールドの表面
12 凹凸微細構造
13 樹脂基材
13a 被転写面
13b 外周部
14 溶剤
15 凹凸微細構造部
16,17 溝部
18 隙間
Claims (6)
- 微細構造を有するモールドの表面に溶剤を適用する工程と、
前記モールド上の前記溶剤に樹脂基材を接触させる工程と、
前記モールドと前記樹脂基材とを剥離する工程と、を含み、
前記溶剤は前記樹脂基材を溶かす特性を有することを特徴とする微細構造転写方法。 - 前記溶剤に前記樹脂基材を接触させる接触時間は、前記溶剤に対し前記樹脂基材の樹脂が溶け出す時間及び前記溶け出した樹脂が硬化する時間を考慮して決められる請求項1に記載の微細構造転写方法。
- 前記モールドの微細構造が形成された構造部から周縁部を結ぶようにしてガス抜き路が形成される請求項1または2に記載の微細構造転写方法。
- 前記樹脂基材の前記微細構造が転写される部分から離れた周縁部において前記樹脂基材と前記モールドとの間に隙間が形成される請求項1,2または3に記載の微細構造転写方法。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の微細構造転写方法を実行する微細構造転写装置。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の微細構造転写方法によりモールドの微細構造を樹脂基材に転写することで光学素子を製造する光学素子製造方法。
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