JP4751410B2 - クライオポンプ及び真空排気方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 88
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 266
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 138
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 135
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 77
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 43
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 41
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 41
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 29
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 27
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 19
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 124
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 3
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- -1 for example Chemical compound 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
Claims (16)
- 第1及び第2の気体を含む被排気気体を吸着剤に吸着することで排気するクライオポンピング処理と、吸着された気体を吸着剤から脱着して排出する再生処理とを交互に行うクライオポンプであって、
吸着された第1及び第2の気体のうち再生処理での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも大きい第1の吸着剤と、
吸着された第1及び第2の気体のうち再生処理での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも小さい第2の吸着剤と、を備えることを特徴とするクライオポンプ。 - クライオポンプ内部に進入した気体分子が直線的な飛来経路を経て到達しうる部位に形成される第1の吸着領域と、クライオポンプ内部に進入した気体分子が直線的な飛来経路を経ては到達しない部位に形成される第2の吸着領域と、を含むクライオパネル構造体をさらに備え、
第1の吸着領域は第1の吸着剤により形成され、第2の吸着領域は第2の吸着剤により形成されていることを特徴とする請求項1に記載のクライオポンプ。 - 前記クライオパネル構造体は、第1の吸着領域を着脱可能に構成されていることを特徴とする請求項2に記載のクライオポンプ。
- 前記被排気気体は非凝縮性気体とイオン注入処理に使用されるドーパントガスとを含み、第1の吸着剤は前記ドーパントガスの単位重量当たり吸着量が非凝縮性気体の単位重量当たり吸着量よりも大きく、第2の吸着剤は前記ドーパントガスの単位重量当たり吸着量が非凝縮性気体の単位重量当たり吸着量よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のクライオポンプ。
- 第1の吸着剤は、第1及び第2の気体のうち再生処理での残留割合が大きい気体を選択的に吸着し、第2の吸着剤は、第1及び第2の気体のうち再生処理での残留割合が小さい気体を選択的に吸着することを特徴とする請求項1に記載のクライオポンプ。
- 第1の吸着剤は、細孔径分布曲線における最大ピークの細孔直径が第2の吸着剤よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のクライオポンプ。
- イオン注入装置の真空排気系に使用されるクライオポンプであって、
イオン注入処理に使用されるドーパントガスの単位重量当たり吸着量が非凝縮性ガスの単位重量当たり吸着量よりも大きい第1の吸着剤と、
前記ドーパントガスの単位重量当たり吸着量が非凝縮性ガスの単位重量当たり吸着量よりも小さい第2の吸着剤と、を備えることを特徴とするクライオポンプ。 - レジストで被覆されている基板をプロセスガスで処理する基板処理装置の真空排気系に使用されるクライオポンプであって、
前記レジストから放出される有機系ガスの単位重量当たり吸着量が前記プロセスガスの単位重量当たり吸着量よりも大きい第1の吸着剤と、
前記有機系ガスの単位重量当たり吸着量が前記プロセスガスの単位重量当たり吸着量よりも小さい第2の吸着剤と、を備えることを特徴とするクライオポンプ。 - 共通の冷却ステージに熱的に接続されるクライオパネル構造体であって、
第1の気体分子を選択的に吸着する第1の吸着領域と、第1の吸着領域とは異なる部位に形成され、第1の気体分子とは異なる第2の気体分子を選択的に吸着する第2の吸着領域と、を備え、第1及び第2の吸着領域は前記共通の冷却ステージにより冷却されることを特徴とするクライオパネル構造体。 - 細孔径分布曲線における最大ピークを第1の細孔直径とする第1の吸着剤と、細孔径分布曲線における最大ピークを第1の細孔直径よりも小さい第2の細孔直径とする第2の吸着剤と、を備えることを特徴とするクライオパネル構造体。
- 第1及び第2の気体を含む被排気気体を吸着剤に吸着して排気するクライオポンピング工程と、吸着された気体を吸着剤から脱着して排出する再生工程と、を含む真空排気方法であって、
クライオポンピング工程は、
吸着された第1及び第2の気体のうち再生工程での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも大きい第1の吸着剤と、
吸着された第1及び第2の気体のうち再生工程での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも小さい第2の吸着剤と、を併用して被排気気体を排気することを特徴とする真空排気方法。 - 第1及び第2の気体のうち再生工程での残留割合が大きい気体の第1の吸着剤における残留量が基準を超えた場合に第1の吸着剤を選択的に交換するメンテナンス工程をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の真空排気方法。
- クライオポンプ内部に進入した気体分子が直線的な飛来経路を経て到達しうる第1の部位と、クライオポンプ内部に進入した気体分子が直線的な飛来経路を経ては到達しない第2の部位と、を含むクライオパネル構造体を備え、
前記第2の部位は前記第1の部位よりも非凝縮性気体の吸着性能に優れる吸着領域を含み、前記第1の部位はクライオポンプ内部に進入した難再生気体を捕捉する極低温面を含むことを特徴とするクライオポンプ。 - クライオポンプの開口部から見て露出されている第1の部位と、該クライオポンプの開口部から見て露出されていない第2の部位と、を含むクライオパネル構造体を備え、
前記第2の部位は前記第1の部位よりも非凝縮性気体の吸着性能に優れる吸着領域を含み、前記第1の部位は難再生気体の集積領域を含むことを特徴とするクライオポンプ。 - 前記パネル構造体は、クライオポンプの開口部に垂直な方向に沿って配列された複数のクライオパネルを含み、前記複数のクライオパネルのうち相対的に前記開口部から離れているクライオパネルに前記吸着領域が形成されていることを特徴とする請求項13または14に記載のクライオポンプ。
- 前記複数のクライオパネルは前記開口部から遠ざかるにつれて径方向の長さが長くなることを特徴とする請求項15に記載のクライオポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008038816A JP4751410B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | クライオポンプ及び真空排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008038816A JP4751410B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | クライオポンプ及び真空排気方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009197643A JP2009197643A (ja) | 2009-09-03 |
JP4751410B2 true JP4751410B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=41141429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008038816A Active JP4751410B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | クライオポンプ及び真空排気方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4751410B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104033355A (zh) * | 2013-03-05 | 2014-09-10 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6084119B2 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-02-22 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
CN104279149B (zh) * | 2013-07-04 | 2016-08-31 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种冷泵再生的控制方法和*** |
JP6351525B2 (ja) * | 2015-03-04 | 2018-07-04 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプシステム、クライオポンプ制御装置、及びクライオポンプ再生方法 |
KR101873841B1 (ko) | 2016-09-05 | 2018-07-03 | 주식회사 조인솔루션 | 크라이오 트랩 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0895484A4 (en) * | 1996-03-26 | 2000-12-06 | Saes Pure Gas Inc | COMBINATION OF CRYOPUMP AND GETTER PUMP AND METHOD FOR REGENERATING IT |
-
2008
- 2008-02-20 JP JP2008038816A patent/JP4751410B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104033355A (zh) * | 2013-03-05 | 2014-09-10 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009197643A (ja) | 2009-09-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110125 |
|
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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