JP4748005B2 - 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体。 - Google Patents
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Description
前記クリーンルームとは仕切り部材により雰囲気が区画された用力室と、
前記クリーンルーム内の空気を吸引して前記用力室内に取り込むための空気吸引路と、
前記用力室内に設けられ、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して少なくとも温度調整するための温度調整部と、
この温度調整部よりの空気を液処理ユニットに供給するための空気供給路と、
前記空気吸引路から空気を吸引して空気供給路を介して空気を供給するための通風手段と、
空気吸引路から取り込まれた空気を清浄化するための清浄化フィルタと、
を含み、
前記空気吸引路及び空気供給路は、二重管の内管の内部空間及び当該二重管の内管と外管との間の空間のうちの一方及び他方により夫々形成されていることを特徴とする。
空気吸引路により前記クリーンルーム内の空気を吸引して、クリーンルームとは仕切り部材により雰囲気が区画された前記用力室内に取り込む工程と、
前記用力室内にて、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して温度調整する工程と、
空気供給路により温度調整した空気を液処理ユニットに供給するための工程と、
前記空気吸引路から空気を吸引して空気供給路を介して空気を供給する工程とと、
空気吸引路から取り込まれた空気を清浄化する工程と、
を含み、
前記空気吸引路及び空気供給路は、二重管の内管の内部空間及び当該二重管の内管と外管との間の空間のうちの一方及び他方により夫々形成されていることを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、既述の液処理方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
B1 キャリアブロック
B2 処理ブロック
B3 インターフェイスブロック
B4 露光装置
3 現像ユニット(液処理ユニット)
5 配管部
51 エア供給管
52 エア吸引管
56 起立吸引管
57 雰囲気吸引管
6 エア供給部
65 エア温湿度調整部
Claims (19)
- クリーンルーム内に設置され、基板に薬液を供給して液処理を行う液処理ユニットと、前記液処理ユニットにより液処理される前あるいは液処理された後の基板を加熱処理するための加熱ユニットと、加熱ユニットと液処理ユニットとの間で基板の受け渡しを行う搬送手段とを備えた装置本体を含んだ液処理装置において、
前記クリーンルームとは仕切り部材により雰囲気が区画された用力室と、
前記クリーンルーム内の空気を吸引して前記用力室内に取り込むための空気吸引路と、
前記用力室内に設けられ、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して少なくとも温度調整するための温度調整部と、
この温度調整部よりの空気を液処理ユニットに供給するための空気供給路と、
前記空気吸引路から空気を吸引して空気供給路を介して空気を供給するための通風手段と、
空気吸引路から取り込まれた空気を清浄化するための清浄化フィルタと、
を含み、
前記空気吸引路及び空気供給路は、二重管の内管の内部空間及び当該二重管の内管と外管との間の空間のうちの一方及び他方により夫々形成されていることを特徴とする液処理装置。 - 前記用力室内に設けられ、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して湿度調整するための湿度調整部をさらに備えていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 用力室は、装置本体が置かれている部屋の床下に形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。
- 液処理ユニットは複数設けられ、一の液処理ユニットは、レジスト液を基板に塗布するレジスト塗布ユニットであり、他の液処理ユニットは、基板に現像液を供給してレジストを現像する現像ユニットであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一記載の液処理装置。
- クリーンルームの天井に空気の噴出し口が設けられ、空気吸引路は装置本体の高さと同じ高さ位置かあるいは装置本体よりも上方において開口していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一記載の液処理装置。
- その一端が前記塗布ユニットに開口し、その他端が前記空気吸引路に接続された、液処理ユニットに供給された空気を吸引するための第1の分岐路を備えたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一記載の液処理装置。
- 装置本体は、電装機器を含んだ電装ユニットを備え、さらにその一端が当該電装ユニットに開口し、その他端が前記空気吸引路に接続された、電装ユニットの雰囲気を吸引するための第2の分岐路を備えたことを特徴とする請求項1ないし6記載のいずれか一記載の液処理装置。
- 装置本体は、前記薬液が貯留されたケミカルユニットを備え、さらにその一端がケミカルユニットに開口し、その他端が前記空気吸引路に接続された、ケミカルユニットの雰囲気を吸引するための第3の分岐路を備えたことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一記載の液処理装置。
- 前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に含まれる薬液成分を除去するケミカルフィルタを含むことを特徴とする請求項8記載の液処理装置。
- 仕切り部材により雰囲気が区画された用力室を備えたクリーンルーム内に設置され、基板に薬液を供給して液処理を行う液処理ユニットと、前記液処理ユニットにより液処理される前あるいは液処理された後の基板を加熱処理するための加熱ユニットと、加熱ユニットと液処理ユニットとの間で基板の受け渡しを行う搬送手段とを備えた装置本体を含んだ液処理装置を用いた液処理方法において、
空気吸引路により前記クリーンルーム内の空気を吸引して、クリーンルームとは仕切り部材により雰囲気が区画された用力室内に取り込む工程と、
前記用力室内にて、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して温度調整する工程と、
空気供給路により温度調整した空気を液処理ユニットに供給するための工程と、
前記空気吸引路から空気を吸引して空気供給路を介して空気を供給する工程と、
空気吸引路から取り込まれた空気を清浄化する工程と、
を含み、
前記空気吸引路及び空気供給路は、二重管の内管の内部空間及び当該二重管の内管と外管との間の空間のうちの一方及び他方により夫々形成されていることを特徴とする液処理方法。 - 前記用力室内に設けられ、前記空気吸引路を介して取り込んだ空気に対して湿度調整する工程を含むことを特徴とする請求項10記載の液処理方法。
- 用力室は、装置本体が置かれている部屋の床下に形成されていることを特徴とする請求項10または11記載の液処理方法。
- 液処理ユニットは複数設けられ、一の液処理ユニットは、レジスト液を基板に塗布するレジスト塗布ユニットであり、他の液処理ユニットは、基板に現像液を供給してレジストを現像する現像ユニットであることを特徴とする請求項10ないし12のいずれか一に記載の液処理方法。
- クリーンルームの天井に空気の噴出し口が設けられ、さらに吸引路により前記クリーンルーム内の空気を吸引して前記用力室内に取り込む工程は、装置本体の高さと同じ高さ位置かあるいは装置本体よりも上方において行われることを特徴とする請求項10ないし13のいずれか一に記載の液処理方法。
- 液処理ユニットに供給された空気を空気吸引路に吸引する工程を含む特徴とする請求項10ないし14のいずれか一記載の液処理方法。
- 装置本体は、電装機器を含んだ電装ユニットを備え、当該電装ユニットの雰囲気を空気吸引路に吸引する工程を含むことを特徴とする請求項10ないし15のいずれか一記載の液処理方法。
- 装置本体は、前記薬液が貯留されたケミカルユニットを備え、当該ケミカルユニットの雰囲気を空気吸引路に吸引する工程を含むことを特徴とする請求項10ないし16のいずれか一記載の液処理方法。
- 前記ケミカルユニットから空気吸引路に吸引された空気における前記薬液成分を除去する工程を含むことを特徴とする請求項17記載の液処理方法。
- クリーンルーム内に設置され、基板に薬液を供給して液処理を行う液処理ユニットと、前記液処理ユニットにより液処理される前あるいは液処理された後の基板を加熱処理するための加熱ユニットと、加熱ユニットと液処理ユニットとの間で基板の受け渡しを行う搬送手段とを備えた装置本体を含んだ液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項10ないし18のいずれか一に記載の液処理方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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