以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素に同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
まず、本実施形態に係る集合基板を有する発光装置について説明する。図1は、本実施形態に係る発光装置の断面構成を示す模式図である。本実施形態に係る発光装置LEは、バリスタBAと半導体発光素子11とを有する。バリスタBAは、半導体発光素子11に並列接続されている。
バリスタBAは、セラミック素体1と、セラミック素体1の表面に形成された第1〜第4の外部電極2a〜2dと、を備える。図2は、本実施形態に係るセラミック素体を示す模式図である。図3及び図4は、本実施形態に係るセラミック素体の断面構成を示す模式図である。セラミック素体1は、機能素体3、複数(本実施形態では5つ)の第1の内部電極4、複数(本実施形態では5つ)の第2の内部電極5、及び機能膜6を備える。
機能素体3は、直方体形状に形成され、互いに対向する一対の主面3a及び主面3bと、主面3a,3bに垂直で互いに対向する側面3c及び側面3dと、主面3a,3b及び側面3c,3dに垂直で互いに対向する側面3e及び側面3fとを有する。機能素体3は、側面3cと側面3dとの対向方向に複数のセラミックグリーンシートを積層することにより構成される積層体である。
機能素体3を構成するセラミックグリーンシートは、焼成されると、電圧非直線特性(以下、「バリスタ特性」と称する)を発現する材料によって形成されている。例えば、セラミックグリーンシートは、ZnOを主成分とし、更に副成分として希土類金属元素、Co、IIIb族元素(B,Al,Ga,In)、Si、Cr、Mo、アルカリ金属元素(K,Rb,Cs)及びアルカリ土類金属元素(Mg,Ca,Sr,Ba)等の金属単体やこれらの酸化物を含んでいる。すなわち、機能素体3は、電圧非直線特性を発現する。
第1の内部電極4及び第2の内部電極5は、互いに対向すると共に、機能素体3内に交互に配置されている。第1の内部電極4と第2の内部電極5との対向方向は、セラミックグリーンシートが積層された積層方向と平行である。なお、図3は、セラミック素体1を機能素体3の側面3e,3fと平行な面にて切断した際の断面構成を示している。図4は、セラミック素体1を機能素体3の側面3c,3dと平行で第2の内部電極5を含む平面にて切断した際の断面構成を示している。
第1の内部電極4と第2の内部電極5とは、機能素体3の一部を挟んで機能素体3の側面3c,3dと平行に配置されている。複数の第1の内部電極4は、側面3cに垂直な方向から見て、全体的に互いに重なり合うように配置されている。複数の第2の内部電極5は、側面3cに垂直な方向から見て、全体的に互いに重なり合うように配置されている。
第1の内部電極4と第2の内部電極5とは、側面3cに垂直な方向から見て互いに一部が重なり合うように、側面3eと側面3fとが互いに対向する方向にずれて配置されている。本実施形態では、第1の内部電極4は側面3e寄りにずれて配置され、第2の内部電極5は側面3f寄りにずれて配置されている。また、各第1の内部電極4と各第2の内部電極5とにおける互いに対向する端部は、主面3aと主面3bとにそれぞれ露出している。
第1の内部電極4及び第2の内部電極5は導電材を含んでいる。第1の内部電極4及び第2の内部電極5に含まれる導電材としては、例えば、Ag−Pd合金等の金属が用いられる。機能素体3では、第1の内部電極4と第2の内部電極5とが互いに重なる領域が、バリスタ特性を発現する領域として機能する。
機能膜6は、機能素体3の側面3c〜3fを覆うように形成されている。機能膜6は、機能素体3より硬い。また、機能膜6は、電気絶縁性の膜であり、機能素体3の側面3c〜3fを電気的に絶縁する。更に、機能膜6における主面3a側の面と主面3b側の面とは、光の反射率が高い面とされている。これらの複数の機能を有する機能膜6は、例えば、Al2O3、ZnO、TiO2、SiO2、BaO、CaO等のうちいずれか一種、又は二種以上を混合した物、或いはこれらにガラス成分を混合して形成される。
第1の外部電極2aと第2の外部電極2bとは、機能素体3の主面3aに長方形状に形成されている。第3の外部電極2cと第4の外部電極2dとは、機能素体3の主面3bに長方形状に形成されている。
第1の外部電極2aは、主面3aに垂直な方向から見て、第2の内部電極5の側面3e側の端と側面3eとの間の領域に位置している。第1の外部電極2aは、第1の内部電極4において主面3aに露出した端面の側面3e寄りの領域を覆うようにも形成されており、第1の内部電極4に電気的且つ物理的に接続されている。第1の外部電極2aは、第2の内部電極5には接続されておらず、第2の内部電極5と電気的に絶縁されている。
第2の外部電極2bは、主面3aに垂直な方向から見て、第1の内部電極4の側面3f側の端と側面3fとの間の領域に位置している。第2の外部電極2bは、第2の内部電極5において主面3aに露出した端面の側面3f寄りの領域を覆うようにも形成されており、第2の内部電極5に電気的且つ物理的に接続されている。第2の外部電極2bは、第1の内部電極4には接続されておらず、第1の内部電極4と電気的に絶縁されている。
第3の外部電極2cは、主面3bに垂直な方向から見て、第2の内部電極5の側面3e側の端と側面3eとの間の領域に位置している。第3の外部電極2cは、第1の内部電極4において主面3bに露出した端面の側面3e寄りの領域を覆うようにも形成されており、第1の内部電極4に電気的且つ物理的に接続されている。第3の外部電極2cは、第2の内部電極5には接続されておらず、第2の内部電極5と電気的に絶縁されている。
第4の外部電極2dは、主面3bに垂直な方向から見て、第1の内部電極4の側面3f側の端と側面3fとの間の領域に位置している。第4の外部電極2dは、第2の内部電極5において主面3bに露出した端面の側面3f寄りの領域を覆うようにも形成されており、第2の内部電極5に電気的且つ物理的に接続されている。第4の外部電極2dは、第1の内部電極4には接続されておらず、第1の内部電極4と電気的に絶縁されている。
よって、第1の内部電極4の主面3a,3bに露出した端面は、第1及び第3の外部電極2a,2cから露出した領域を含んでいる。また、第2の内部電極5の主面3a,3bに露出した端面は、第2及び第4の外部電極2b,2dから露出した領域を含んでいる。
半導体発光素子11は、GaN(窒化ガリウム)系半導体の発光ダイオード(LED:Light-Emitting Diode)であり、基板12と、当該基板12上に形成された層構造体LSとを備えている。GaN系の半導体LEDは、周知であり、その説明を簡略化する。基板12は、サファイアからなる光学的に透明且つ電気絶縁性を有する基板である。層構造体LSは、積層された、n型(第1導電型)の半導体領域13と、発光層14と、p型(第2導電型)の半導体領域15とを含んでいる。半導体発光素子11は、n型の半導体領域13とp型の半導体領域15との間に印加される電圧に応じて発光する。
n型の半導体領域13は、n型の窒化物半導体を含んで構成されている。本実施形態では、n型の半導体領域13は、基板12上にGaNがエピタキシャル成長されて成り、例えばSiといったn型ドーパントが添加されてn型の導電性を有している。また、n型の半導体領域13は、発光層14よりも屈折率が小さく且つバンドギャップが大きくなるような組成を有していてもよい。この場合、n型の半導体領域13は、発光層14に対して下部クラッドとしての役割を果たす。
発光層14は、n型の半導体領域13上に形成され、n型の半導体領域13及びp型の半導体領域15から供給されたキャリア(電子及び正孔)が再結合することにより発光領域において光を発生する。発光層14は、例えば、障壁層と井戸層とが複数周期にわたって交互に積層された多重量子井戸(MQW:Multiple Quantum Well)構造とすることができる。この場合、障壁層及び井戸層がInGaNからなり、In(インジウム)の組成を適宜選択することによって障壁層のバンドギャップが井戸層のバンドギャップより大きくなるように構成される。発光領域は、発光層14において、キャリアが注入される領域に生じる。
p型の半導体領域15は、p型の窒化物半導体を含んで構成されている。本実施形態では、p型の半導体領域15は、発光層14上にAlGaNがエピタキシャル成長されて成り、例えばMgといったp型ドーパントが添加されてp型の導電性を有している。また、p型の半導体領域15は、発光層14よりも屈折率が小さく且つバンドギャップが大きくなるような組成を有していてもよい。この場合、p型の半導体領域15は、発光層14に対して上部クラッドとしての役割を果たす。
n型の半導体領域13上には、カソード電極16が形成されている。カソード電極16は、導電性材料からなり、n型の半導体領域13との間にオーミック接触が実現されている。p型の半導体領域15上には、アノード電極17が形成されている。アノード電極17は、導電性材料からなり、p型の半導体領域15との間にオーミック接触が実現されている。カソード電極16及びアノード電極17には、バンプ電極18が形成されている。
上述した構成の半導体発光素子11では、アノード電極17(バンプ電極18)とカソード電極16(バンプ電極18)との間に所定の電圧が印加されて電流が流れると、発光層14の発光領域において発光が生じることとなる。
半導体発光素子11は、第1及び第2の外部電極2a,2bにバンプ接続されている。すなわち、カソード電極16は、バンプ電極18を介して第2の外部電極2bに電気的且つ物理的に接続されている。アノード電極17は、バンプ電極18を介して第1の外部電極2aに電気的且つ物理的に接続されている。これにより、第1の内部電極4と第2の内部電極5とが重なる領域により構成されるバリスタ部分が半導体発光素子11に並列接続されることとなる。よって、バリスタBAにより、半導体発光素子11をESDサージから保護することができる。
また、バリスタBAにおいて、機能素体3はセラミック素体1の内側部分を構成し、機能膜6はセラミック素体1の外側部分を構成する。機能素体3と機能膜6との物理的特性は、互いに異なる。
機能素体3は、バリスタ機能を発現する材料で形成されている。また、機能素体3は、第1,第2の内部電極4,5の対向方向が主面3aと主面3bとの対向方向と直交し、第1,第2の内部電極4,5の端面が主面3a,3bから露出している。
この場合、第1,第2の外部電極2a,2bを主面3aに形成し、第3,第4の外部電極2c,2dを主面3bに形成することにより、第1,第3の外部電極2a,2cと第1の内部電極4とを容易に物理的かつ電気的に接続し、第2,第4の外部電極2b,2dと第2の内部電極5とを容易に物理的かつ電気的に接続することができる。
また、第1,第2の外部電極2a,2bが主面3aに形成され、第3,第4の外部電極2c,2dが主面3bに形成されることにより、主面3bを外部基板や外部機器等の実装面に対向させた状態で実装することができる。更に、第1,第2の外部電極2a,2bが形成された外表面を利用して、バリスタBAと並列接続されるように、半導体発光素子11を容易に搭載することができる。
ところで、半導体発光素子11は、その発光動作中、熱を発する。半導体発光素子11が高温になると、その発光動作に影響が出る。このため、発生した熱を効率よく放散させる必要がある。本実施形態では、バリスタBAが半導体発光素子11に接続する第1,第2の外部電極2a,2bと当該第1,第2の外部電極2a,2bに接続する第1,第2の内部電極4,5とを有するので、半導体発光素子11において発生した熱は、主として、第1,第2の外部電極2a,2b及び第1,第2の内部電極4,5に伝わり放散されることとなる。これにより、半導体発光素子11において発生した熱の放熱パスが拡がり、半導体発光素子11において発生した熱を効率よく放散することができる。
また、本実施形態においては、第1,第2の内部電極4,5の端部が主面3a,3bに露出している。この結果、第1,第2の内部電極4,5に伝えられた熱をより効率よく放散することができる。
また、本実施形態においては、機能素体3がZnOを主成分としている。ZnOは、放熱基板として通常用いられるアルミナ等と同等程度の熱伝導率を有しており、比較的良好な熱伝導率を有する。したがって、第1及び第2の内部電極4,5からの熱の放散が機能素体3により阻害されるのを抑制することができる。
機能膜6は、機能素体3より硬い材料で形成され、機械的強度が高い。また、機能膜6は、電気絶縁性であり、機能素体3におけるショートを防止する機能を有する。更に、機能膜6は、光の高反射面として機能し、半導体発光素子11から発せられる光を高効率で反射することができる。
引き続いて、発光装置LEの製造方法を説明すると共に、上述したセラミック素体1を複数含む集合基板の製造方法を説明する。図5は、本実施形態に係る集合基板の製造工程を示すフロー図である。図1に示すように、本実施形態に係る集合基板の製造方法は、第1グリーン体形成工程S1と、第2グリーン体形成工程S2と、挿入工程S3と、焼成工程S4とを含む。
本実施形態に係る集合基板の製造方法における各製造工程について、図6〜図10を参照して詳細に説明する。図6は、本実施形態に係る集合基板の製造工程において形成される第1のグリーン体を示す模式図である。図7は、本実施形態に係る集合基板の製造工程において形成される第2のグリーン体を示す模式図である。図8及び図9は、本実施形態に係る集合基板の製造工程において形成される第2のグリーン体の断面構成を示す模式図である。図10は、本実施形態に係る集合基板を示す模式図である。
本実施形態に係る集合基板の製造方法では、まず、第1グリーン体形成工程S1において、第1のグリーン体31が形成される。第1のグリーン体31は、図6に示されるように、四角形の基板状に形成され、互いに対向する一対の主面31a及び主面31bを有する。また、第1のグリーン体31には、一対の主面31a及び主面31bの対向方向に伸びる複数の貫通孔32が設けられている。
貫通孔32は、断面が四角形状で、貫通孔32の各壁面が第1のグリーン体31の各側面とそれぞれ平行となるように形成されている。また、本実施形態では、貫通孔32が、第1のグリーン体31の主面31a及び主面31bにおいて10行11列に配列して形成されている。なお、図6において示す線Lは、集合基板の完成後、集合基板を切断して複数のセラミック素体1を形成する際の切断線を示す。
第1のグリーン体31は、複数のセラミックグリーンシートを積層することにより構成される積層体である。第1のグリーン体31を構成するセラミックグリーンシートは、上述した機能膜6の材料によって形成される。まず、第1のグリーン体31を構成するセラミックグリーンシートを所定枚数だけ作製する。作成したセラミックグリーンシートを積層後、貫通孔32を形成する。第1のグリーン体31において、セラミックグリーンシートの積層方向は、主面31aと主面31bとが対向する方向と平行である。
第2グリーン体形成工程S2では、複数の第2のグリーン体33が形成される。第2のグリーン体33は、セラミック素体1の機能素体3に相当する部分である。第2のグリーン体33は、図7〜9に示されるように、直方体形状に形成され、複数(本実施形態においては、5つ)の第1の内部電極パターン34及び複数(本実施形態においては、5つ)の第2の内部電極パターン35を備えている。
第2のグリーン体33は、互いに対向する主面33a及び主面33bと、主面33a,33bに垂直で互いに対向する側面33c及び側面33dと、主面33a,33b及び側面33c,33dに垂直で互いに対向する側面33e及び側面33fとを有する。第2のグリーン体33の形状は、第1のグリーン体31の貫通孔32の形状に対応する。すなわち、第2のグリーン体33の側面33c〜33fが貫通孔32の壁面に対応するように、第2のグリーン体33が形成される。
第2のグリーン体33は、側面33cと側面33dとが対向する方向に複数のセラミックグリーンシートを積層することにより形成される積層体である。すなわち、第2のグリーン体33において、セラミックグリーンシートが積層された積層方向は、主面3aと主面3bとの対向方向に対して垂直である。
第2のグリーン体33を構成するセラミックグリーンシートは、機能素体3を構成する材料によって形成される。なお、第1のグリーン体31と第2のグリーン体33との材料は、第1のグリーン体31の熱収縮率が第2のグリーン体33の熱収縮率より大きくなるように選択される。
第1の内部電極パターン34及び第2の内部電極パターン35は、セラミック素体1の第1の内部電極4と第2の内部電極5とにそれぞれ相当する。第1の内部電極パターン34及び第2の内部電極パターン35は、互いに対向すると共に、第1のグリーン体33内に交互に配置されている。
第1の内部電極パターン34と第2の内部電極パターン35とが互いに対向する方向は、第1のグリーン体33を構成するセラミックグリーンシートが積層された積層方向と平行である。なお、図8は、第1のグリーン体33を側面33e,33fに平行な面にて切断した際の断面構成を示している。図9は、第1のグリーン体33を側面33c,33dと平行で第2の内部電極パターン35を含む平面にて切断した際の断面構成を示している。
第2のグリーン体33は、以下のようにして、複数の第2のグリーン体33が一体化した集合体を形成し、その集合体を個々に切断することにより、形成することができる。まず、第2のグリーン体33を構成するセラミックグリーンシートを所定枚数だけ作製する。具体的には、第2のグリーン体33の主成分であるZnOと、副成分である金属または酸化物等の微量添加物とを所定の割合で混合して、バリスタ材料を調製する。そして、このバリスタ材料に有機バインダ、有機溶剤、有機可塑剤等を加え、ボールミル等を用いて所定時間だけ混合・粉砕を行って、スラリーを得る。
そして、ドクターブレード法等によって、例えばポリエチレンテレフタレートからなるフィルム上にスラリーを塗布した後、このスラリーを乾燥させて、長方形状で厚さが例えば30μm程度の膜を形成する。そして、その膜をフィルムから剥離して、セラミックグリーンシートを得る。
続いて、複数の第2のグリーン体33に含まれる第1の内部電極パターン34と第2の内部電極パターン35とに対応する内部電極パターンをそれぞれ複数のセラミックグリーンシートの表面に形成する。具体的には、Pd粒子を主成分とする金属粉末、有機バインダ及び有機溶剤を混合した導電性ペーストを、スクリーン印刷法等によりセラミックグリーンシートの表面に印刷して乾燥させることにより、内部電極パターンを形成する。
内部電極パターンは、セラミックグリーンシートの互いに対向する一方の端面から他方の端面まで達する複数のライン状に形成される。内部電極パターンのラインの幅は、第1,第2内部電極パターン34,35における第2のグリーン体33の側面33eと側面33fとが対向する方向の長さに対応する。第1の内部電極パターン34に対応する内部電極パターンと第2の内部電極パターン35に対応する内部電極パターンとのセラミックグリーンシートに対する位置が、互いにラインの長手方向に対して垂直方向に所定寸法ずれるようにそれぞれの内部電極パターンが形成される。
続いて、内部電極パターンが印刷されたセラミックグリーンシートと内部電極パターンが印刷されていないセラミックグリーンシートとを所定の順序で重ねることにより、シート積層体を形成する。第1の内部電極パターン34に対応する内部電極パターンと第2の内部電極パターン35に対応する内部電極パターンとは、セラミックグリーンシートの積層方向から見て重なり合うと共に、互いにラインの長手方向と垂直な方向に所定寸法ずれて配置されている。
このようにして形成されたシート積層体をセラミックグリーンシートの主面と垂直な面で切断して上述した第2のグリーン体33を形成する。第2のグリーン体33では、第1及び第2の内部電極パターン34,35が露出して互いに対向する切断面が、第2のグリーン体33の主面33a,33bとなる。
引き続いて、挿入工程S3では、第1のグリーン体31における複数の貫通孔32に複数の第2のグリーン体33をそれぞれ挿入する。第1のグリーン体31の主面31aと主面31bとの対向方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける複数のセラミックグリーンシートの積層方向とが互いに直交するように、第2のグリーン体33を貫通孔32にそれぞれ挿入する。すなわち、第1のグリーン体31の主面31aと主面31bとの対向方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける第1及び第2の内部電極パターン34,35の対向方向とが互いに直交するように、第2のグリーン体33を貫通孔32にそれぞれ挿入する。
よって、第1のグリーン体31における複数のセラミックグリーンシートの積層方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける複数のセラミックグリーンシートの積層方向とが互いに直交するように、第2のグリーン体33を貫通孔32にそれぞれ挿入することとなる。すなわち、第1のグリーン体31における複数のセラミックグリーンシートの積層方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける第1及び第2の内部電極パターン34,35の対向方向とが互いに直交するように、第2のグリーン体33を貫通孔32にそれぞれ挿入することとなる。
焼成工程S4では、複数の貫通孔32に複数の第2のグリーン体33がそれぞれ挿入された第1のグリーン体31を焼成することにより、図10に示す集合基板40が完成する。第1のグリーン体31が焼成後に焼成体41となる。また、上述したように、第2のグリーン体33が焼成後に機能素体3となる。すなわち、集合基板40は、焼成体41と、複数の機能素体3とを有する。
焼成体41は、図10に示すように四角形の基板状に形成され、互いに対向する主面41a及び主面41bを有している。また、焼成体41は、主面41aと主面41bとの対向方向に伸びる複数の貫通孔42が設けられている。貫通孔42は、焼成前の第1のグリーン体31に形成された貫通孔32に相当する貫通孔である。貫通孔42は、断面が四角形状で、貫通孔42の各壁面が焼成体41の各側面とそれぞれ平行となるように形成されている。また、貫通孔42が、焼成体41の主面41a,41bにおいて10行11列に配列して形成されている。
また、焼成体41は、上述した材料により形成して焼成することにより、機能素体3より硬く、切断が容易な材質となる。また、焼成体41は、電気絶縁体である。更に、焼成体41の主面41a,41bは、LEDによる光の反射率が高い面である。
機能素体3は、上述した構成を有する。機能素体3は、側面3c〜3fが貫通孔42の内壁に接するように貫通孔42内に配置されている。また、各機能素体3の第1,第2の内部電極4,5の両端部は、集合基板40における互いに対向する一対の主面にそれぞれ露出している。また、第1,第2の内部電極4,5の対向方向は、集合基板40における一対の主面の対向方向と垂直である。
機能素体3の側面3c〜3fを覆う焼成体41の一部は、セラミック素体1の機能膜6に相当する。すなわち、集合基板40は、セラミック素体1が10行11列に配列して一体化した基板である。
続いて、集合基板40の一対の主面には、第1〜第4の外部電極2a〜2dに相当する外部電極パターンが形成される。外部電極パターンは、印刷法あるいはめっき法により形成する。このようにして、各セラミック素体1に対して、それぞれ、第1〜第4の外部電極2a〜2dが形成されることとなる。すなわち、第1〜第4の外部電極2a〜2dとセラミック素体1とを有するバリスタBAを複数備える集合体が形成されることとなる。この集合体は、10行11列に配列したバリスタBAを有する。
その後、各バリスタBAに半導体発光素子11を搭載し、並列接続する。そして、集合基板40の線Lに沿って切断する。すなわち、焼成体41を切断する。焼成体41は、機能素体3より硬く形成されているので、容易に切断することができる。このようにして、バリスタBAと半導体発光素子11とを有する発光装置LEを複数製造することができる。
以上説明したように、本実施形態の集合基板の製造方法によれば、第1のグリーン体31に設けられた貫通孔32に第2のグリーン体33を挿入して焼成する。よって、第1のグリーン体31がセラミック素体1の内側部分(機能素体3)に相当し、第2のグリーン体33の周囲に位置する第2のグリーン体31の一部がセラミック素体1の外側部分(機能膜6)に相当することとなる。また、第1のグリーン体31と第2のグリーン体33とは分けて形成されるので、互いに物理的特性が異なる第1のグリーン体31と第2のグリーン体33とを容易に形成することができる。よって、内側部分と外側部分との物理的特性が異なる複数のセラミック素体1が集合した集合基板40を容易に製造することができる。すなわち、このように複雑な構成のセラミック素体1の量産に適した集合基板40を製造することができる。
本実施形態の集合基板40では、機能素体3がセラミック素体1の内側部分に相当し、機能素体3の周囲に位置する焼成体41の一部がセラミック素体1の外側部分に相当することとなる。そして、各機能素体3は第1,第2の内部電極4,5を備え、第1,第2の内部電極4,5の対向方向は焼成体41の一対の主面41a,41bの対向方向と直交している。すなわち、集合基板40は、このように複雑な構成の複数のセラミック素体1が一体化して形成されているので、セラミック素体1の量産性を向上させることができる。
また、第2グリーン体形成工程S2では、複数のセラミックグリーンシートを積層することにより複数の第2のグリーン体33を形成する。よって、第1のグリーン体31の構成に関わらず、セラミックグリーンシートを積層して第2のグリーン体33を形成することができる。すなわち、集合基板40が含む各セラミック素体1では、外側部分の構成に関わらず内側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層構造を設定することができる。
また、挿入工程S3では、一対の主面31a,31bの対向方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける複数のセラミックグリーンシートの積層方向とが互いに直交するように、複数の第2のグリーン体33を複数の貫通孔32にそれぞれ挿入する。よって、集合基板40が含む各セラミック素体1において、内側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層方向と、外側部分に対応する第1のグリーン体31の一対の主面31a,31bの対向方向とを互いに直交させることができる。
また、第2グリーン体形成工程S2では、内部電極パターンが形成された複数のセラミックグリーンシートを積層することにより複数の第2のグリーン体33を形成し、挿入工程S3では、一対の主面31a,31bの対向方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける第1,第2の内部電極パターン34,35の対向方向とが互いに直交するように、複数の第2のグリーン体33を複数の貫通孔32に挿入する。よって、集合基板40が含む各セラミック素体1において、内側部分に形成された第1,第2の内部電極パターン34,35の対向方向と、外側部分に対応する第1のグリーン体31の一対の主面31a,31bの対向方向とを互いに直交させることができる。すなわち、一対の主面に第1,第2の内部電極4,5の端部が露出した集合基板40を容易に製造することができる。
また、第1グリーン体形成工程S1では、複数のセラミックグリーンシートを積層することにより第1のグリーン体31を形成する。よって、第1のグリーン体31は、第2のグリーン体33の構成に関わらず、セラミックグリーンシートを積層して形成することができる。すなわち、集合基板40が含む各セラミック素体1では、内側部分の構成に関わらず外側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層構造を設定することができる。
また、第2グリーン体形成工程S2では、複数のセラミックグリーンシートを積層することにより複数の第2のグリーン体33を形成し、挿入工程S3では、第1のグリーン体31における複数のセラミックグリーンシートの積層方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける複数のセラミックグリーンシートの積層方向とが互いに直交するように、複数の第2のグリーン体33を複数の貫通孔32にそれぞれ挿入する。よって、集合基板40が含む各セラミック素体1において、内側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層方向と、外側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層方向とを互いに直交させることができる。
また、第2グリーン体形成工程S2では、第1,第2の内部電極パターン34,35が形成された複数のセラミックグリーンシートを積層することにより複数の第2のグリーン体33を形成し、挿入工程S3では、第1のグリーン体31における複数のセラミックグリーンシートの積層方向と複数の第2のグリーン体33それぞれにおける第1,第2の内部電極パターン34,35が互いに対向する方向とが互いに直交するように、複数の第2のグリーン体33を複数の貫通孔32にそれぞれ挿入する。よって、集合基板40が含む各セラミック素体1において、内側部分に形成された第1,第2の内部電極パターン34,35の対向方向と、外側部分を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの積層方向とを互いに直交させることができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
本実施形態においては、第2のグリーン体33として焼成後にバリスタ機能を発現するグリーン体を形成したが、これに限られない。第2のグリーン体として、例えば、焼成後に誘電体等の他の機能を有することとなるグリーン体を形成してもよい。また、本実施形態においては、第1のグリーン体31の材料として焼成後に電気絶縁層、光の高反射面、及び切断容易な材質となる材料を選択したが、これに限られない。
BA…バリスタ、LE…発光装置、1…セラミック素体、2a-2d…第1〜第4の外部電極、3…機能素体、4…第1の内部電極、5…第2の内部電極、6…機能膜、11…半導体発光素子、12…基板、31…第1のグリーン体、32…貫通孔、33…第2のグリーン体、34…第1の内部電極パターン、35…第2の内部電極パターン、40…集合基板、41…焼成体、42…貫通孔。