JP4729779B2 - キシリレンジアミンの製造方法 - Google Patents
キシリレンジアミンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4729779B2 JP4729779B2 JP2000290459A JP2000290459A JP4729779B2 JP 4729779 B2 JP4729779 B2 JP 4729779B2 JP 2000290459 A JP2000290459 A JP 2000290459A JP 2000290459 A JP2000290459 A JP 2000290459A JP 4729779 B2 JP4729779 B2 JP 4729779B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phthalonitrile
- reaction
- ammoxidation
- hydrogenation
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/24—Preparation of carboxylic acid nitriles by ammoxidation of hydrocarbons or substituted hydrocarbons
- C07C253/28—Preparation of carboxylic acid nitriles by ammoxidation of hydrocarbons or substituted hydrocarbons containing six-membered aromatic rings, e.g. styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はキシレンからキシリレンジアミンを製造する方法に関する。キシリレンジアミンはポリアミド樹脂、エポキシ硬化剤等の原料、およびイソシアネートの中間原料として有用である。
【0002】
【従来の技術】
キシレンとアンモニアおよび分子状酸素を触媒の存在下に反応(アンモ酸化)させてフタロニトリルを製造する方法はよく知られている。例えば特開平11−209332号には、V〜Cr〜B〜Mo系の酸化物を含有する触媒を用いてアンモ酸化する方法が記載されている。こうして得られたフタロニトリルをアンモニアの存在下水素化してキシリレンジアミンが製造される。
キシレンをアンモ酸化してフタロニトリルを製造する際に得られる反応生成ガスは、目的生成物であるフタロニトリル以外にアンモニア、炭酸ガス、一酸化炭素、シアン化水素、芳香族アミド、芳香族カルボン酸、空気および水蒸気などを含んでいる。このため、反応生成ガスからフタロニトリルを捕集分離した上で、水素化工程に供する必要がある。
【0003】
反応生成ガスからフタロニトリルを捕集分離するひとつの方法としては表面積の大きい冷却器にガスを導き、冷却面にフタロニトリルを付着固化し、溶融して取り出す方法がある。しかし、フタロニトリルは高温において重合などの変質を起こしやすく、溶融取り出し時に変質を起こし製品の純度低下をきたす。
類似の方法として、冷却器にガスを導き、冷却面にフタロニトリルを付着固化し、この固体状ニトリルに溶媒を添加し水素化反応器に供給する方法がある(化学工学、32巻7号658−660頁(1968年))。しかし、この方法ではフタロニトリルが冷却器の冷却面で重合などの変質を起こしやすく、添加した溶媒に不溶の重合物を生成し、ついには重合物の蓄積により装置の安定運転に支障が生じる。
【0004】
他の捕集方法としてはフタロニトリルを含む反応生成ガスを直接水と接触し、フタロニトリル結晶を水に懸濁した状態で捕集し、この懸濁液から固液分離してフタロニトリルを得る方法が提案されている(石油学会編プロセスハンドブック(1978年))。この方法ではフタロニトリルの捕集は満足に行えるが、フタロニトリルの懸濁液中でのかさ比重が小さいためスラリーがかさばり、スラリー水溶液から濾過などの方法で固液を分離する場合、非常に大きな濾過装置を必要とするばかりでなく、分離された結晶の含水率が高く、これを乾燥するのに多大な熱負荷を必要とする。
フタロニトリルは高温で水と比較的容易に反応して高沸点のアミドに変化するので、水存在下での長時間加熱はフタロニトリルの純度低下の原因となる。また水を捕集溶媒とする方法は、副生物である青酸を高温で水に接触させることとなり、青酸は熱履歴により容易にホルムアミド、ギ酸アミド、重合物等に変質し排水中に含まれ、排水のTOD負荷増や着色の要因となる。
【0005】
また、アンモ酸化反応生成ガスを有機溶媒と接触し、フタロニトリルを捕集分離する方法も提案されている(石油学会編プロセスハンドブック(1976年))。この方法ではフタロニトリル捕集液を蒸留して溶媒回収を行った後、フタロニトリルの精留が行われており、精製に多大のエネルギーを要すると共に、フタロニトリルの損失も多い。
一方、アンモ酸化で生成したフタロニトリルは次工程において、アンモニアや有機溶媒に溶解させて水素化反応が行われる。
固体あるいは溶融状態でフタロニトリルを取得した場合には、水素化に先立ち溶媒を加え液相均一にするための溶解槽もしくは混合槽を設置しなけらばならない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように従来技術では、反応生成ガス中のフタロニトリルを分離する際に副生物を新たに生成し純度の低下をきたしたり、廃棄物や排水の増加を招くことや、多大のエネルギーを要するなどの欠点を有している。
本発明の目的は、キシレンのアンモ酸化反応によりフタロニトリルを合成し、水素化してキシリレンジアミンを製造する方法において、アンモ酸化で生成したフタロニトリルを簡便な方法で収率よく反応ガスから回収し、水素化反応を実施する方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の目的を達成するために鋭意検討した結果、アンモ酸化反応ガスを有機溶媒と直接接触させることによりフタロニトリルを有機溶媒中に捕集し、有機溶媒に捕集したフタロニトリルを分離することなく液体アンモニアを加えて水素化反応を行うことにより、新たな設備の設置なしにフタロニトリルを収率よく簡便に反応ガスから回収し、水素化反応でキシリレンジアミンを効率よく製造できることを見出し、本発明に到達した。
即ち本発明は、キシレンからアンモ酸化反応によりフタロニトリルを合成し、フタロニトリルを水素化してキシリレンジアミンを製造する方法において、
(1)キシレンをアンモニアおよび酸素含有ガスとの気相接触反応によりアンモ酸化させてフタロニトリルを製造するアンモ酸化工程、
(2)アンモ酸化反応ガスを有機溶媒と直接接触させ、フタロニトリルを有機溶媒中に捕集する捕集工程、および
(3)有機溶媒に捕集したフタロニトリルを分離することなく液体アンモニアを加えて水素化反応を行う水素化工程、
を有することを特徴とするキシリレンジアミンの製造方法である。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の原料はキシレンであり、特にメタキシレン、パラキシレンが好適に用いられる。メタキシレン、パラキシレンからはアンモ酸化反応により対応するイソフタロニトリル、テレフタロニトリルが製造され、更に引き続く水素化反応によりメタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミンに変換される。
【0009】
アンモ酸化反応は反応熱が大きく、反応器内の均一の温度分布を得るため気相流動床反応として実施されるのが好ましい。触媒としては、基本組成がバナジウム、モリブテンおよび鉄から選ばれる一種以上の金属酸化物から構成される触媒が好適に用いられる。触媒の活性、強度および寿命を高めるために、該金属酸化物にMg,Ca,Ba,La, Ti,Zr,Cr,W, Co,Ni,B,Al,Ge,Sn,Pb,P,Sb,Bi,Li,Na,K,RbおよびCsの群から選ばれた少なくとも一種を含む金属酸化物を加えて修飾された複数の金属酸化物から構成された触媒が用いられ、以下の組成式で示される。
組成式: (V)a(Mo)b(Fe)c(X)d(Y)e(O)f
ただし、XはMg,Ca,Ba,La,Ti,Zr,Cr,W,CoおよびNiよりなる群より選ばれた少なくとも一種類の元素、YはB,Al,Ge,Sn,P,b,P,Sb,Li,Na,K,RbおよびCsよりなる群から選ばれた少なくとも一種の元素、添字のa,b,c,dおよびeは原子比を各々示し、a=0.01〜1(好ましくは0.1〜0.7)、b=0.01〜1(好ましくは0.05〜0.7)、c=0〜1、d=0〜1(好ましくは0.05〜0.7)、e=0〜1(好ましくは0.05〜0.7)およびfは上記元素が結合して得られる酸化物の酸素数である。
【0010】
アンモ酸化に用いる酸素含有ガスとしては、通常、空気が好適に用いられ、これに酸素を富化しても良い。また、窒素、炭酸ガス等の希釈剤を併用することもできる。酸素の使用量はキシレン1モルに含まれるメチル基1個に対して1.5倍モル以上、好ましくは2〜50倍モルの範囲である。これより使用量が少ないとニトリル化合物の収率は低下し、一方これより多いと空時収率が小さくなる。
空気を用いてアンモ酸化を行う場合の反応器に供給される原料ガス中のキシレンの濃度は0.2〜10容量%、好ましくは0.5〜5容量%の範囲である。この濃度より高いとニトリル化合物の収率は低下し、一方、これより低いと空時収率は小さくなる。
【0011】
アンモ酸化に用いるアンモニアには工業用グレードのものを用いることができる。アンモニア使用量はキシレンに含まれるメチル基に対して1〜10倍モル、好ましくは3〜7倍モルの範囲である。これより使用量が少ないとニトリル化合物の収率が低下し、これより多いと空時収率が小さくなる。
アンモ酸化は流動床反応器が好適であり、種々の形式の流動床反応器を用いることができる。アンモニアはキシレンと混合して供給することも、別々に供給することもでき、またアンモニアおよびキシレンに酸素含有ガスの一部を混合して供給することもできる。
アンモ酸化の反応温度は300〜500℃、好ましくは330〜470℃の範囲である。この範囲より反応温度が低いと転化率が低く、この範囲より反応温度が高いと炭酸ガス、シアン化水素等の副生が増加しニトリル化合物の収率が低下する。反応圧力は常圧、加圧或いは減圧のいずれでも良いが、常圧付近から0.2MPaの範囲が好ましい。反応ガスと触媒の接触時間は、原料の種類、原料に対するアンモニアおよび酸素含有ガスの仕込みモル比、反応温度等の条件に依存するが、通常は0.3〜30秒の範囲である。
【0012】
アンモ酸化反応器からの反応生成ガス中には、未反応のキシレン、フタロニトリル等のニトリル化合物、アンモニア、シアン化水素、炭酸ガス、水、一酸化炭素、窒素、酸素等が含まれる。
次の捕集工程において、反応生成ガスはフタロニトリル捕集器で有機溶媒と接触させることにより有機溶媒にフタロニトリルを溶解し分離する。ここで用いる有機溶媒は原料のキシレンより沸点が高く、フタロニトリルの溶解度が高く、またフタロニトリルに対して不活性で、水素化される官能基を有しない有機溶媒が好ましい。有機溶媒の沸点が低い場合には残存ガスに同伴される溶媒量が多くなる。
有機溶媒の具体例としてトルエン、キシレン、メシチレン、プソイドキュメン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素が挙げられ、これらの有機溶媒の中でメシチレン、プソイドキュメン、およびこれらの混合物が好適に使用される。
【0013】
フタロニトリル捕集器の操作温度は、液相部が組成液の沸点以下となる条件で行われる。その圧力は、常圧、加圧または減圧の何れでも実施できるが、通常は常圧からアンモ酸化反応圧力の範囲で実施される。
アンモ酸化反応生成ガス中に含まれるアンモニア、シアン化水素、炭酸ガス、水、一酸化炭素、窒素、酸素等は、有機溶媒に吸収されず、フタロニトリル捕集器よりガスとして排出される。
有機溶媒に吸収されたフタロニトリルは、有機溶媒と分離することなく、液体アンモニアを加え水素化反応に供される。
【0014】
水素化工程におけるフタロニトリルの水素化反応によるキシリレンジアミンの製造はニッケルおよび/またはコバルトを主成分とする触媒により好適に実施される。フタロニトリルのアンモニア共存下における水素化反応は白金族系金属触媒を用いても実施できるが、ルテニウムなどを用いると溶媒として用いる芳香族炭化水素(メシチレンやプソイドクメン等)および生成したキシリレンジアミンの核水素化が進行するため好ましくない。本発明の様にアンモ酸化生成ガスからのフタロニトリル捕集溶媒と水素化反応の反応溶媒を同一とする場合には、ニッケルやコバルトを主成分とする触媒が好適である。
【0015】
水素化反応器に入る原料の組成は適時決められるが、基質であるフタロニトリルの濃度がなるべく低い方が、溶媒であるアンモニア濃度がなるべく高い方が、キシリレンジアミンの収率は高くなる。十分な収率と生産量を上げられるように有機溶媒を更に加えたり、アンモニアを加えることにより調整される。好ましい原料組成としては、フタロニトリル 1〜10wt%、有機溶媒 1〜50wt%、アンモニア 20〜97wt%の範囲から決められる。
反応は回分式でも連続式でも可能であり、槽型反応器にニッケルやコバルトのラネー金属粉体状触媒を入れ完全混合型でも可能であるが、工業的には管状反応器を用い、成形された触媒を固定床とし原料溶液と水素ガスを反応器上部から並列で供給する潅液タイプの連続反応器を用いる方法が簡便である。
【0016】
水素化触媒としては、ニッケルおよび/またはコバルトを担体に担持したものが好適である。担体としてはケイソウ土、酸化珪素、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、炭素などが用いられる。
ニッケル系触媒の場合、反応温度は60〜130℃であり、反応圧力は4〜15MPaである。
【0017】
水素化反応により、キシリレンジアミンを含む反応液が得られる。この反応液を蒸留などの分離・精製操作をすることにより目的のキシリレンジアミンを得ることができる。
【0018】
次に図面を用いて本発明を具体的に説明する。図1は本発明の実施形態を示すフロー図の一例である。
図1においてアンモ酸化反応器Aには流動触媒が充填されている。該反応器は流動床反応器であり、底部から空気が供給される。触媒層下部からはアンモニアとキシレンが供給される。反応器頂部からの反応生成ガス中には、未反応のキシレン、フタロニトリル等のニトリル化合物、アンモニア、シアン化水素、炭酸ガス、水、一酸化炭素、窒素および酸素等が含まれる。
反応生成ガスはフタロニトリル捕集器Bに導入される。該捕集器で反応ガスは有機溶媒と接触し、有機溶媒にフタロニトリルが溶解し分離される。
フタロニトリル捕集器Bの操作はアンモ酸化生成ガスを分離塔塔底の液相部に吹き込んで実施される。捕集器上部には棚段または充填層からなる吸収部が設置されており、捕集器上部から有機溶媒が供給される。溶媒に吸収されなかったアンモニア、シアン化水素、炭酸ガス、水、一酸化炭素、窒素、酸素等は捕集器頂部より排出される。有機溶媒に吸収されたフタロニトリルは捕集器底部より抜き出され、液体アンモニアを加え水素化反応器Cに送られる。
水素化反応器Cには触媒が充填されており、反応器上部よりフタロニトリル液と水素が供給され、底部よりキシリレンジアミンを含む反応液が排出される。
【0019】
【実施例】
以下に実施例により、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に制限されるものではない。
【0020】
<アンモ酸化反応用触媒調整>
五酸化バナジウム V2O5 229g に水500mLを加え、80〜90℃に加熱し攪拌しながらシュウ酸477g を加え溶解する。またシュウ酸 963g に水400mL を加え50〜60℃に加熱し、無水クロム酸 CrO3 252g を水200mLに加えた溶液を良く攪拌しながら加え溶解する。得られたシュウ酸バナジウムの溶液にシュウ酸クロムの溶液を50〜60℃にて混合しバナジウム-クロム溶液を得る。この溶液にリンモリブデン酸 H3(PMo12O40)・20H2O 41.1gを水100mLに溶解して加え、更に、酢酸カリウム CH3COOK 4.0gを水 100mLに溶解して加える。次いで20重量%水性シリカゾル(Na2Oを0.02重量%含有) 2500g を加える。
このスラリー溶液にホウ酸H3BO3 78g を加え良く混合し液量が約3800g になるまで加熱、濃縮する。この触媒溶液を入口温度250℃、出口温度130℃に保ちながら噴霧乾燥した。130℃の乾燥機で12時間乾燥後、400℃で0.5時間焼成し、550℃で8時間空気流通下焼成し、流動触媒を製造した。この触媒成分の原子比は、 V:Cr:B:Mo:P:Na:K が 1:1:0.5:0.086:0.007:0.009:0.020 の割合で含有され、流動触媒におけるその触媒成分の濃度は50重量%である。
【0021】
実施例1
図1に示したフローによりアンモ酸化、フタロニトリルの捕集および水素化を行った。
アンモ酸化反応器Aに上記で調製した流動触媒6Lを充填し、空気、メタキシレン(MX)およびアンモニアの混合ガスを、温度350℃に予熱し反応器に供給した。仕込み条件として、MX供給量を350g/hr, NH3/MXモル比を11、O2/MXモル比を 5.4、SVを630hr-1とした。反応条件は温度420℃、圧力を0.2MPaとした。
反応器頂部からの生成ガスは捕集器Bに導入した。捕集器には有機溶媒としてプソイドキュメンを供給し、アンモ酸化反応ガスを140℃に保たれた捕集器の液相部に吹き込み、イソフタロニトリルをプソイドキュメンに溶解・吸収し、捕集器底部より抜き出した。炭酸ガス、アンモニア、シアン化水素、一酸化炭素、窒素、酸素および水のガス成分は捕集器頂部より抜き出した。
捕集器B底部より抜き出されたイソフタロニトリルのプソイドキュメン溶液に液体アンモニアを加え水素化原料とした。この液の組成は、イソフタロニトリル/プソイドキュメン/アンモニアが重量比で6/25/69とした。
【0022】
内容量 4Lの管状縦型水素化反応器CにNi含量50wt%であるNi/ケイソウ土触媒を5kg 充填した。この反応器上部よりイソフタロニトリル/プソイドキュメン/アンモニアからなる原料を6kg/hrの速度で供給した。水素を反応器上部より並流で流し、反応圧12MPa、温度90℃で水素化反応を実施した。
水素化反応でのイソフタロニトリル基準のメタキシリレンジアミン収率は 92%であった。
【0023】
実施例2
実施例1においてイソフタロニトリルを捕集する有機溶媒をメシチレンとし、水素化触媒を50wt%-Co/ケイソウ土、反応温度を120℃にして同様の操作を行った。水素化反応でのイソフタロニトリル基準のメタキシリレンジアミン収率は 94%であった。
【0024】
実施例3
実施例1においてアンモ酸化原料をパラキシレン、テレフタロニトリルを捕集する有機溶媒をプソイドキュメンとし、水素化触媒を50wt%- Ni/ケイソウ土とした。水素化反応でのテレフタロニトリル基準のパラキシリレンジアミン収率は 92%であった。
【0025】
【発明の効果】
以上の実施例から、本発明によりアンモ酸化反応ガスから有機溶媒により捕集したフタロニトリルにアンモニアを加え、直接水素化を行っても、高いアミン収率が得られることが分かる。
本発明では、アンモ酸化反応生成ガスからフタロニトリル化合物を有機溶媒に捕集分離後、そのままアンモニアを加え水素化反応を実施できるので、大幅なプロセス簡略化が計れると共に、新たなフタロニトリル中での不純物の生成も認められず、収率の低下や廃棄物の生成も認められないことから、キシリレンジアミンを簡略でクリーンなプロセスで経済的にも有利に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の実施形態を示すフロー図の一例である。
【符号の説明】
A:アンモ酸化反応器
B:フタロニトリル捕集器
C:水素化反応器
Claims (2)
- キシレンからアンモ酸化反応によりフタロニトリルを合成し、フタロニトリルを水素化してキシリレンジアミンを製造する方法において、(1)キシレンをアンモニアおよび酸素含有ガスとの気相接触反応によりアンモ酸化させてフタロニトリルを製造するアンモ酸化工程、(2)アンモ酸化反応ガスをメシチレン又はプソイドキュメンと直接接触させ、フタロニトリルをメシチレン又はプソイドキュメン中に捕集する捕集工程、および(3)メシチレン又はプソイドキュメンに捕集したフタロニトリルを分離することなく液体アンモニアを加えて水素化反応を行う水素化工程、
を有することを特徴とするキシリレンジアミンの製造方法。 - キシレンのアンモ酸化反応に、バナジウム、モリブデンおよび鉄から選ばれた一種以上の金属酸化物を含む流動触媒を用い、水素化反応をニッケルおよび/またはコバルト触媒を用いる請求項1記載のキシリレンジアミンの製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000290459A JP4729779B2 (ja) | 2000-09-25 | 2000-09-25 | キシリレンジアミンの製造方法 |
EP01121881A EP1193244B1 (en) | 2000-09-25 | 2001-09-12 | Method for producing xylylenediamine |
DE60124482T DE60124482T2 (de) | 2000-09-25 | 2001-09-12 | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
US09/953,557 US6476269B2 (en) | 2000-09-25 | 2001-09-17 | Method for producing xylylenediamine |
TW090123450A TWI225854B (en) | 2000-09-25 | 2001-09-24 | Method for producing xylylenediamine |
KR1020010059338A KR100747383B1 (ko) | 2000-09-25 | 2001-09-25 | 크실릴렌디아민 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000290459A JP4729779B2 (ja) | 2000-09-25 | 2000-09-25 | キシリレンジアミンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002105035A JP2002105035A (ja) | 2002-04-10 |
JP4729779B2 true JP4729779B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=18773687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000290459A Expired - Lifetime JP4729779B2 (ja) | 2000-09-25 | 2000-09-25 | キシリレンジアミンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6476269B2 (ja) |
EP (1) | EP1193244B1 (ja) |
JP (1) | JP4729779B2 (ja) |
KR (1) | KR100747383B1 (ja) |
DE (1) | DE60124482T2 (ja) |
TW (1) | TWI225854B (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5017756B2 (ja) | 2001-07-16 | 2012-09-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高純度メタキシリレンジアミンの製造方法 |
JP4304420B2 (ja) * | 2002-07-01 | 2009-07-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンおよび/またはシアノベンジルアミンの製造方法 |
JP4561063B2 (ja) * | 2002-08-26 | 2010-10-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
DE602004021052D1 (de) | 2003-03-07 | 2009-06-25 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Herstellungsverfahren von Xylylendiamin |
DE10341614A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-04-28 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin (XDA) |
JP4495730B2 (ja) * | 2003-09-10 | 2010-07-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液体フタロジニトリルの連続的水素化によるキシリレンジアミンの製造方法 |
DE10341633A1 (de) | 2003-09-10 | 2005-04-28 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
DE10341613A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-04-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
DE10341612A1 (de) | 2003-09-10 | 2005-04-28 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
JP4406645B2 (ja) * | 2003-09-10 | 2010-02-03 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液体フタロニトリルの連続的水素化による、キシリレンジアミンの製造方法 |
EP1529773B1 (en) * | 2003-11-06 | 2011-11-30 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing solid xylenediamine in a container. |
WO2006001298A1 (ja) | 2004-06-23 | 2006-01-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 高純度キシリレンジアミンの製造方法 |
KR100613404B1 (ko) * | 2005-03-24 | 2006-08-17 | 한국과학기술연구원 | 이미다졸류를 이용한 자일렌다이아민의 제조방법 |
JP2009503018A (ja) | 2005-08-02 | 2009-01-29 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | フタロジニトリルの連続的な水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法 |
DE102005045806A1 (de) * | 2005-09-24 | 2007-03-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
EP1984320B1 (de) | 2006-02-01 | 2013-10-23 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von reinem xylylendiamin (xda) |
JP5040435B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2012-10-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
EP1857434B1 (en) | 2006-05-18 | 2009-11-11 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing xylylenediamine |
JP5040460B2 (ja) * | 2006-06-29 | 2012-10-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
EP1873137B1 (en) | 2006-06-29 | 2011-08-31 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production of Xylenediamines |
US8212080B2 (en) | 2008-12-26 | 2012-07-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
WO2012105498A1 (ja) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
JP2013177346A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | メタキシリレンジアミンの製造方法 |
JP2013177345A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | キシリレンジアミンの製造方法 |
KR101442716B1 (ko) | 2012-06-25 | 2014-09-24 | 케이에스랩(주) | 자일릴렌디아민의 제조방법 |
JP5739590B1 (ja) | 2013-08-23 | 2015-06-24 | 三井化学株式会社 | メタ−キシリレンジイソシアネート類の製造方法 |
EP3037406A4 (en) * | 2013-08-23 | 2017-03-29 | Mitsui Chemicals, Inc. | Method for producing m-xylylenediamine and method for producing bisamide compound |
CN110256291B (zh) * | 2019-07-26 | 2022-02-22 | 江阴苏利化学股份有限公司 | 一种氨氧化反应产生的高温混合气体中苯二甲腈的分离方法 |
CN111185240B (zh) * | 2020-02-24 | 2022-08-05 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种含苯二胺有机多孔聚合物负载型催化剂及制备方法和一种加氢制备间苯二甲胺的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2970170A (en) * | 1957-03-22 | 1961-01-31 | California Research Corp | Preparation of xylylenediamines |
GB1149251A (en) * | 1965-09-24 | 1969-04-23 | Columbian Carbon | Hydrogenation of nitrogenous carbon compounds |
US3647054A (en) * | 1970-04-02 | 1972-03-07 | Japan Gas Chemical Co | Process for purifying xylylenediamine by alkaline agent addition and distillation |
JPS4931630B1 (ja) * | 1970-12-29 | 1974-08-23 | ||
JPS5320969B2 (ja) * | 1973-05-02 | 1978-06-29 | ||
US4134910A (en) * | 1977-05-17 | 1979-01-16 | The Lummus Company | Recovery of isophthalonitrile |
JP3156734B2 (ja) * | 1991-07-10 | 2001-04-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ニトリル化合物の製造法および製造用触媒 |
JP4240162B2 (ja) * | 1998-03-04 | 2009-03-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ニトリル化合物の製造方法および製造用触媒 |
EP0930295B1 (en) * | 1998-01-16 | 2003-08-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing nitrile compound and catalyst used therefor |
-
2000
- 2000-09-25 JP JP2000290459A patent/JP4729779B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-09-12 EP EP01121881A patent/EP1193244B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-12 DE DE60124482T patent/DE60124482T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-17 US US09/953,557 patent/US6476269B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-24 TW TW090123450A patent/TWI225854B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-25 KR KR1020010059338A patent/KR100747383B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020038054A1 (en) | 2002-03-28 |
KR100747383B1 (ko) | 2007-08-07 |
JP2002105035A (ja) | 2002-04-10 |
KR20020024564A (ko) | 2002-03-30 |
EP1193244A3 (en) | 2004-01-21 |
US6476269B2 (en) | 2002-11-05 |
TWI225854B (en) | 2005-01-01 |
DE60124482T2 (de) | 2007-03-01 |
EP1193244B1 (en) | 2006-11-15 |
EP1193244A2 (en) | 2002-04-03 |
DE60124482D1 (de) | 2006-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4729779B2 (ja) | キシリレンジアミンの製造方法 | |
JP5017756B2 (ja) | 高純度メタキシリレンジアミンの製造方法 | |
US7915452B2 (en) | Process for producing highly purified xyltlenediamine | |
CN101768083B (zh) | 制备苯二甲胺的方法 | |
JP5017755B2 (ja) | 高純度キシリレンジアミンの製造方法 | |
US6284893B2 (en) | Process for producing nitrile compounds | |
JP2013177346A (ja) | メタキシリレンジアミンの製造方法 | |
KR100725683B1 (ko) | 이소프탈로니트릴 정제방법 | |
JP4304420B2 (ja) | キシリレンジアミンおよび/またはシアノベンジルアミンの製造方法 | |
JP4929523B2 (ja) | イソフタロニトリルの製造方法 | |
JP4747417B2 (ja) | ニトリル化合物の製造方法 | |
JP4386155B2 (ja) | 芳香族ニトリルまたは複素環ニトリルの製造法 | |
CN114957038A (zh) | 一种芳烃经氨氧化合成腈化合物的方法 | |
EP1319653B1 (en) | Process for producing a polynitrile compound | |
JP6806290B1 (ja) | キシリレンジアミンの製造方法 | |
JP2003238512A (ja) | ポリニトリル化合物の製造方法 | |
KR101399572B1 (ko) | 크실릴렌디아민의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070904 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110404 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4729779 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |